公开(公告)号：CN116615405A

公开(公告)日：2023-08-18

申请号：CN202180086595.5

申请日：2021-12-21

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 大松祯 ,  冈田悠 ,  小熊威 ,  松本正裕 ,  新美结士 ,  越后雅敏

IPC: C07C39/373

Abstract: 提供能得到曝光灵敏度优异的抗蚀剂的、化合物、聚合物、组合物、膜形成用组合物、图案形成方法、绝缘膜的形成方法及化合物的制造方法。下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，RA为氢原子、甲基或三氟甲基，RX为ORB或氢原子，RB为取代或未取代的碳数1～30的烷基，P为羟基、烷氧基、酯基、缩醛基、羧基烷氧基、碳酸酯基、硝基、氨基、羧基、硫醇基、醚基、硫醚基、膦基、膦酸基、氨基甲酸酯基、脲基、酰胺基、酰亚胺基或磷酸基。)

公开(公告)号：CN119451998A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202380050145.X

申请日：2023-06-28

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 大松祯 ,  片冈健太郎 ,  松本正裕 ,  新美结士 ,  小熊威 ,  堀内淳矢 ,  山本拓央 ,  饭沼雅崇 ,  松浦耕大 ,  佐藤隆 ,  冈田悠 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C08F12/00 ,  C08F246/00 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 一种组合物，其包含下述式(1)所示的化合物(A)与下述式(2)所示的化合物(B)。(式(1)中，各定义示于说明书中。)(式(2)中，X、L1、Y、Ra、Rb、Rc、A、Z、p、m、n及r与式(1)的记载为相同内容，k表示0以上且2以下的整数。)#imgabs0#