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公开(公告)号：CN107848983B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN201680042984.7
申请日：2016-07-15
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07D233/64 , C07D405/04 , C08G8/36 , C08G16/00 , G03F7/11 , G03F7/26 , H01L21/027
Abstract: 下述式(1)所示的化合物或树脂。(式(1)中，X各自独立地表示氧原子、硫原子或为无桥接，R1各自独立地选自由卤素基团、氰基、硝基、氨基、羟基、硫醇基、杂环基、碳原子数1～30的烷基、碳原子数2～30的烯基、碳原子数6～40的芳基、及它们的组合组成的组，其中，该烷基、该烯基及该芳基任选包含醚键、酮键或酯键，R2各自独立地为碳数1～30的烷基、碳数6～40的芳基、碳数2～30的烯基、硫醇基或羟基，此处，R2的至少1个为包含羟基或硫醇基的基团，m各自独立地为0～7的整数(其中，m的至少1个为1～7的整数。)、p各自独立地为0或1，q为0～2的整数，n为1或2。)
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公开(公告)号：CN112368644A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201980040257.0
申请日：2019-08-08
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G73/06 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/40 , H01L21/027 , H01L21/3065
Abstract: 本发明的课题在于，提供：对形成能应用湿式工艺、且耐热性、耐蚀刻性、向台阶基板的埋入特性和膜的平坦性优异的光致抗蚀剂下层膜有用的、光刻用膜形成材料等。前述课题可以通过以下的光刻用膜形成材料而达成。一种光刻用膜形成材料，其包含：具有式(0A)的基团的化合物(式(0A)中，RA为氢原子或碳数1～4的烷基，RB为碳数1～4的烷基)；和，具有式(0B)的基团的化合物。
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公开(公告)号：CN107406383B
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN201680015557.X
申请日：2016-03-09
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07D209/86 , C07D405/04 , C08G61/12 , G03F7/11
Abstract: 下述式(1)所示的化合物。式(1)中，X各自独立地表示氧原子、硫原子或为无桥接，R1各自独立地选自由氢原子、卤素基团、硝基、氨基、羟基、碳原子数1～30的烷基、碳原子数2～30的烯基、碳原子数6～40的芳基、及它们的组合组成的组，此处，该烷基、该烯基及该芳基任选包含醚键、酮键或酯键，R2各自独立地为碳数1～30的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～40的芳基、碳数2～30的烯基、硫醇基或羟基，此处，R2的至少1个为包含羟基或硫醇基的基团，m各自独立地为1～7的整数，p各自独立地为0或1，q各自独立地为0～4的整数，n为0或1。
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公开(公告)号：CN110637256A
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201880032121.0
申请日：2018-05-14
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C08F22/40 , C08L101/02 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供光刻用膜形成材料，其包含具有下述式(0)的基团的化合物。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN113302223A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202080008710.2
申请日：2020-01-10
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 一种膜形成用组合物，其包含多环多酚树脂，所述多环多酚树脂具有源于选自由式(1A)和式(1B)所示的芳香族羟基化合物组成的组中的至少1种单体的重复单元，且前述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合而连接。(式(1A)中，X表示氧原子、硫原子、单键或为未桥接，Y为碳数1～60的2n价的基团或单键，此处，X为未桥接时，Y为前述2n价的基团。另外，式(1B)中，A表示苯环或稠环。进而，式(1A)和式(1B)中，R0各自独立地为任选具有取代基的碳数1～40的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、任选具有取代基的碳数2～40的烯基、碳数2～40的炔基、任选具有取代基的碳数1～40的烷氧基、卤素原子、巯基或羟基，此处，R0中的至少1者为羟基，m各自独立地为1～9的整数。n为1～4的整数，p各自独立地为0～3的整数。)
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公开(公告)号：CN108026012A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201680051150.2
申请日：2016-09-02
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 本发明的化合物的纯化方法包括使包含下述式(A0)和/或(B0)所示的羟基取代芳香族化合物和溶剂的溶液(A)与离子交换树脂接触的工序。(前述式(A0)中，n0为0～9的整数，m0为0～2的整数，p0为0～9的整数，此处，该n0、m0以及p0的至少1个为1以上的整数，进而，m0为1时，表示前述式(A0)具有萘骨架或联苯骨架，Ra各自独立地为选自由羟基、卤代基、碳数1～40的直链状、支链状或环状的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、或碳数2～40的烯基以及它们的组合组成的组中的基团，该烷基、该芳基或该烯基任选包含醚键、酮键、或酯键。前述式(B0)中、n1为0～9的整数，p1为0～9的整数，Rb各自独立地为选自由氢原子、羟基、卤代基、碳数1～40的直链状、支链状或环状的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、或碳数2～40的烯基以及它们的组合组成的组中的基团，该烷基、该芳基或该烯基任选包含醚键、酮键、或酯键。)
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公开(公告)号：CN108026011A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201680051083.4
申请日：2016-09-02
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
CPC classification number: B01D63/02 , B01D63/14 , B01D69/00 , B01D71/26 , B01D71/32 , B01D71/56 , C07C37/70 , C07C39/14
Abstract: 本发明的化合物的纯化方法包括使下述式(A0)和/或(B0)所示的羟基取代芳香族化合物和溶剂的溶液在过滤器中流通的工序。(前述式(A0)中，n0为0～9的整数，m0为0～2的整数，p0为0～9的整数，此处，m0为1时，表示前述式(A0)具有萘骨架或联苯骨架，Ra各自独立地为选自由羟基、卤代基、碳数1～40的直链状、支链状或环状的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、或碳数2～40的烯基以及它们的组合组成的组中的基团，该烷基、该芳基或该烯基任选包含醚键、酮键、或酯键。前述式(B0)中，n1为0～9的整数，p1为0～9的整数，Rb各自独立地为选自由氢原子、羟基、卤代基、碳数1～40的直链状、支链状或环状的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、或碳数2～40的烯基以及它们的组合组成的组中的基团，该烷基、该芳基或该烯基任选包含醚键、酮键、或酯键。)
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公开(公告)号：CN107531597A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680025648.1
申请日：2016-03-02
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
CPC classification number: C07C37/20 , C07C37/72 , C07C39/15 , C08G8/02 , C08G8/04 , C08G8/20 , G03F7/11 , H01L21/3081
Abstract: 一种如下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R1各自独立地为碳数1～30的2价基团，R2～R7各自独立地为碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、巯基或羟基，在此，R5中的至少1个为羟基或巯基，m2、m3和m6各自独立地为0～9的整数，m4和m7各自独立地为0～8的整数，m5为1～9的整数，n为1～4的整数，p2～p7各自独立地为0～2的整数。)
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