-
1.发明公开公开(公告)号：CN116194502A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202180061314.0
申请日：2021-07-15
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G8/20
Abstract: 一种聚合物，其具有源自选自由式(1A)及(1B)所示的芳香族羟基化合物组成的组中的至少1种单体的重复单元，前述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合来连接。(式(1A)及(1B)中，R各自独立地为任选具有取代基的碳数1～40的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、任选具有取代基的碳数2～40的烯基、碳数2～40的炔基、任选具有取代基的碳数1～40的烷氧基、卤素原子、硫醇基、氨基、硝基、氰基、硝基、杂环基、羧基或羟基，至少1个R为包含羟基的基团，m各自独立地为1～10的整数。)
-
公开(公告)号：CN102666461B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201080053806.7
申请日：2010-11-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C43/253 , C07C41/30 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027 , C07B61/00
CPC classification number: G03F7/0382 , C07C41/30 , C07C43/23 , C07C43/253 , C07C2601/14
Abstract: 公开的是：对于安全溶剂的溶解性高、高灵敏度、能够形成具有良好形状的抗蚀图案和很少引起抗蚀图案塌陷的环状化合物；所述环状化合物的生产方法；包含所述环状化合物的放射线敏感性组合物；和使用所述组合物的抗蚀图案形成方法。具体公开的是：具有特定结构的环状化合物；环状化合物的生产方法；包含所述化合物的放射线敏感性组合物；和使用所述组合物的抗蚀图案形成方法。
-
公开(公告)号：CN119451998A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202380050145.X
申请日：2023-06-28
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08F12/00 , C08F246/00 , C08F220/18 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 一种组合物，其包含下述式(1)所示的化合物(A)与下述式(2)所示的化合物(B)。(式(1)中，各定义示于说明书中。)(式(2)中，X、L1、Y、Ra、Rb、Rc、A、Z、p、m、n及r与式(1)的记载为相同内容，k表示0以上且2以下的整数。)#imgabs0#
-
-
公开(公告)号：CN111615507A
公开(公告)日：2020-09-01
申请号：CN201980009090.1
申请日：2019-01-18
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于，提供：能应用湿式工艺、为了形成耐热性、溶解性和耐蚀刻性优异的光致抗蚀剂和光致抗蚀剂用下层膜而有用的化合物等。前述课题可以通过下述式(1)所示的化合物而解决。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112513737B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN201980050223.X
申请日：2019-07-23
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于，提供有用的下层膜形成组合物。前述课题可以通过以下的下层膜形成组合物来解决。一种下层膜形成组合物，其包含具有下述式(1)所示的结构单元的化合物和溶剂，前述化合物的重均分子量按聚苯乙烯换算分子量计为1000～30000，前述化合物对于丙二醇单甲基醚乙酸酯的溶解性在23℃下为10质量％以上(式(1)中，A为单键或2价基团，R1各自独立地为碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数2～10的炔基、巯基或羟基，R2各自独立地为碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数2～10的炔基、巯基或羟基，R2中的至少1个为羟基和/或巯基，m1各自独立地为0～5的整数，m2各自独立地为0～8的整数，p2各自独立地为0～2的整数。)#imgabs0#
-
公开(公告)号：CN113365967A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202080012064.7
申请日：2020-01-31
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C39/16 , C07C39/17 , C07C43/205 , C07C43/215 , C07C43/23 , C07C43/263 , C07C43/295 , C07C69/54 , C07C69/712 , C07C69/96 , C07C271/48 , C08G8/00 , G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/20 , C07D303/23 , C07D303/24
Abstract: 本发明的目的在于，提供作为光刻用膜形成材料或光学部件形成用材料有用的新型化合物、包含来自该化合物的构成单元的树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和纯化方法。一种式(1)所示的化合物、包含来自该化合物的构成单元的树脂、含有选自由该化合物和该树脂组成的组中的1种以上的组合物、使用该组合物的抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法、及其纯化方法。
-
-
公开(公告)号：CN116615405A
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202180086595.5
申请日：2021-12-21
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C39/373
Abstract: 提供能得到曝光灵敏度优异的抗蚀剂的、化合物、聚合物、组合物、膜形成用组合物、图案形成方法、绝缘膜的形成方法及化合物的制造方法。下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，RA为氢原子、甲基或三氟甲基，RX为ORB或氢原子，RB为取代或未取代的碳数1～30的烷基，P为羟基、烷氧基、酯基、缩醛基、羧基烷氧基、碳酸酯基、硝基、氨基、羧基、硫醇基、醚基、硫醚基、膦基、膦酸基、氨基甲酸酯基、脲基、酰胺基、酰亚胺基或磷酸基。)
-
公开(公告)号：CN112513737A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201980050223.X
申请日：2019-07-23
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于，提供有用的下层膜形成组合物。前述课题可以通过以下的下层膜形成组合物来解决。一种下层膜形成组合物，其包含具有下述式(1)所示的结构单元的化合物和溶剂，前述化合物的重均分子量按聚苯乙烯换算分子量计为1000～30000，前述化合物对于丙二醇单甲基醚乙酸酯的溶解性在23℃下为10质量％以上(式(1)中，A为单键或2价基团，R1各自独立地为碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数2～10的炔基、巯基或羟基，R2各自独立地为碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数2～10的炔基、巯基或羟基，R2中的至少1个为羟基和/或巯基，m1各自独立地为0～5的整数，m2各自独立地为0～8的整数，p2各自独立地为0～2的整数。)
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
18
records
(took 0.026 seconds)
