多环多酚树脂、组合物、多环多酚树脂的制造方法、膜形成用组合物、抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法、辐射敏感组合物、光刻用下层膜形成用组合物、光刻用下层膜的制造方法、电路图案形成方法、及光学构件形成用组合物

    公开(公告)号:CN116529671A

    公开(公告)日:2023-08-01

    申请号:CN202180060882.9

    申请日:2021-07-15

    IPC分类号: G03F7/023

    摘要: 一种多环多酚树脂,其为具有源自选自由式(1A)及式(1B)所示的芳香族羟基化合物构成的组中的至少1种单体的重复单元的多环多酚树脂,或者为包含源自下述式(C‑1A)所示的芳香族羟基化合物的重复单元的多环多酚树脂,前述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合来连接。(式(1A)中,R1为碳数1~60的2n价的基团或单键,R2各自独立地为任选具有取代基的碳数1~40的烷基、任选具有取代基的碳数6~40的芳基、任选具有取代基的碳数2~40的烯基、任选具有取代基的碳数2~40的炔基、任选具有取代基的碳数1~40的烷氧基、卤素原子、硫醇基、氨基、硝基、氰基、硝基、杂环基、羧基或羟基,m各自独立地为0~3的整数。n为1~4的整数。另外,式(1B)中,R2及m与前述式(1A)中说明的含义相同。)(式(C‑1A)中,R1为碳数1~60的2n价的基团或单键,R2各自独立地为任选具有取代基的碳数1~40的烷基、任选具有取代基的碳数6~40的芳基、任选具有取代基的碳数2~40的烯基、任选具有取代基的碳数2~40的炔基、任选具有取代基的碳数1~40的烷氧基、卤素原子、硫醇基、氨基、硝基、氰基、硝基、杂环基、羧基或羟基,m各自独立地为0~9的整数。n为1~4的整数,p各自独立地为0~3的整数。)