公开(公告)号：CN107176946B

公开(公告)日：2024-07-09

申请号：CN201710131776.0

申请日：2017-03-07

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 西森庆彦 ,  今川阳介 ,  山本良亮 ,  堀越裕

IPC分类号： C07D341/00 ,  C08G75/06

摘要： 本发明涉及光学材料用高纯度1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷及其纯化方法。本发明要解决的课题在于，提供一种能够得到透明性高的固化物的光学材料用高纯度1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷及其纯化法。通过如下的光学材料用1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷能够解决上述课题：将纯化后的1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷2g溶解于氯仿30g而得到的溶液的浊度为500ppm以下。

公开(公告)号：CN110214157B

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN201880007589.4

申请日：2018-02-06

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 西森庆彦 ,  今川阳介 ,  竹村纮平 ,  堀越裕 ,  山本良亮

IPC分类号： C08G75/08 ,  C08L81/02 ,  G02B1/04

摘要： 提供：能设计出具有广泛的物性的光学材料的光学材料用组合物。本发明的光学材料用组合物为一种光学材料用组合物，其含有下述式(1)所示的化合物(A)和多硫醇(a)，且不含有1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷(b)。

公开(公告)号：CN107735428A

公开(公告)日：2018-02-23

申请号：CN201680035823.5

申请日：2016-06-10

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 今川阳介 ,  堀田明伸 ,  山本良亮 ,  堀越裕

IPC分类号： C08G75/06 ,  C08G79/00 ,  G02B1/04 ,  G02B1/11 ,  G02B1/14

摘要： 根据本发明，提供一种光学材料用组合物，其是含有式(1)所示的环状化合物(a)、环硫化合物(b)及硫(c)的光学材料用组合物，该光学材料用组合物中的环状化合物(a)的比率处于5～70质量％的范围、环硫化合物(b)的比率处于20～90质量％的范围、及硫(c)的比率处于1～39质量％的范围。(式中，X表示S、Se或Te。a～f＝0～3、8≥(a+c+e)≥1、8≥(b+d+f)≥2、及(b+d+f)≥(a+c+e)。)本发明的光学材料用组合物具有作为光学特性的高折射率，并且具有充分的耐热性及良好的脱模性。

公开(公告)号：CN105555754B

公开(公告)日：2017-10-20

申请号：CN201480051110.9

申请日：2014-09-17

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 山本良亮 ,  鲛岛裕子 ,  冈村拓哉

IPC分类号： C07C209/68 ,  C07C209/00 ,  C07C211/18 ,  C07B61/00

CPC分类号： C07C209/68 ,  C07C209/86 ,  C07C211/18 ,  C07C249/02 ,  C07C251/24 ,  C07C2101/14 ,  C07C2601/14

摘要： 一种双(氨基甲基)环己烷的异构化方法，其具有：异构化工序，将双(氨基甲基)环己烷在下述通式(1)所示的亚胺化合物、和选自由碱金属、含碱金属的化合物、碱土金属、含碱土金属的化合物组成的组中的一种以上的化合物的存在下异构化。(上述通式(1)中，R1和R2各自独立地表示选自由氢原子、取代或未取代的烃基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳氧基、和酰基组成的组中的一价基团(R1和R2任选相互键合而形成环)，R3表示选自由氢原子、取代或未取代的烃基组成的组中的n价基团，n表示1～10的整数。)

公开(公告)号：CN107176946A

公开(公告)日：2017-09-19

申请号：CN201710131776.0

申请日：2017-03-07

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 西森庆彦 ,  今川阳介 ,  山本良亮 ,  堀越裕

IPC分类号： C07D341/00 ,  C08G75/06

CPC分类号： C07D341/00 ,  C08G75/06

摘要： 本发明涉及光学材料用高纯度1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷及其纯化方法。本发明要解决的课题在于，提供一种能够得到透明性高的固化物的光学材料用高纯度1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷及其纯化法。通过如下的光学材料用1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷能够解决上述课题：将纯化后的1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷2g溶解于氯仿30g而得到的溶液的浊度为500ppm以下。

公开(公告)号：CN110198969B

公开(公告)日：2021-09-17

申请号：CN201880007583.7

申请日：2018-02-06

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 西森庆彦 ,  今川阳介 ,  竹村纮平 ,  堀越裕 ,  山本良亮

IPC分类号： C08G75/08 ,  C08L81/02 ,  G02B1/04

摘要： 提供：能设计出具有广泛的物性的光学材料的光学材料用组合物。本发明的光学材料用组合物含有：下述式(1)所示的化合物(A)、1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷(b)、和根据需要的下述式(2)所示的化合物(B)，化合物(B)的含量相对于组合物总量为0～30质量％。(式中，m表示0～4的整数，n表示0～2的整数。)

公开(公告)号：CN107406365B

公开(公告)日：2020-07-14

申请号：CN201680013977.4

申请日：2016-02-25

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 清水裕子 ,  山本良亮

IPC分类号： C07C209/68 ,  C07C211/36 ,  C07B61/00

摘要： 本发明的课题在于，不必经过复杂的多步工序，简便且高活性地实现作为工业上重要化合物的二氨基二环己基甲烷的异构化反应。一种二氨基二环己基甲烷的异构化方法，其具备如下异构化工序：在下述通式(1)所示的亚胺化合物、与选自由碱金属、含碱金属化合物、碱土金属、含碱土金属化合物组成的组中的1种以上的化合物的存在下，使二氨基二环己基甲烷异构化。(下述通式(1)中，R1和R2各自独立地表示选自由氢原子、取代或未取代的烃基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳基氧基和酰基组成的组中的一价基团(R1和R2任选相互键合而形成环)，R3表示选自由氢原子、取代或未取代的烃基组成的组中的n价基团，n表示1～10的整数。)

公开(公告)号：CN108633276B

公开(公告)日：2019-05-31

申请号：CN201880000898.9

申请日：2018-01-15

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 棚木宏幸 ,  山本良亮 ,  堀越裕

IPC分类号： C07D341/00

摘要： 根据本发明，可以提供具备A工序和B工序的1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷的制造方法。A工序：在质子性溶剂中合成四硫代碳酸盐的工序。B工序：在混合溶剂(质子性溶剂与非质子性溶剂的质量比为13：87～38：62)中进行四硫代碳酸盐与二卤代甲烷的反应的工序。

公开(公告)号：CN108633276A

公开(公告)日：2018-10-09

申请号：CN201880000898.9

申请日：2018-01-15

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 棚木宏幸 ,  山本良亮 ,  堀越裕

IPC分类号： C07D341/00

摘要： 根据本发明，可以提供具备A工序和B工序的1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷的制造方法。A工序：在质子性溶剂中合成四硫代碳酸盐的工序。B工序：在混合溶剂(质子性溶剂与非质子性溶剂的质量比为13：87～38：62)中进行四硫代碳酸盐与二卤代甲烷的反应的工序。

公开(公告)号：CN1444103A

公开(公告)日：2003-09-24

申请号：CN03120076.1

申请日：2003-03-12

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 池本一人 ,  山本良亮 ,  吉田宽史 ,  丸山岳人

IPC分类号： G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/308

CPC分类号： C07C217/08 ,  C11D7/3227 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426

摘要： 本发明的光刻胶剥离组合物含有至少一种由如下通式1表示的氧甲基胺化合物：其中R1至R3如说明书中所定义。对于通式1的氧甲基胺化合物，由如下通式7表示的化合物是一种新的化合物：其中R2至R5以及n如说明书中所定义。