公开(公告)号：CN102683243A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN201210059156.8

申请日：2012-03-05

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社 ,  大日本网屏制造株式会社

Inventor： 东友之 ,  山田健二 ,  荒木浩之 ,  安藤幸嗣

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/67075 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，具有：第一处理室以及第二处理室；在所述第一处理室保持基板的第一基板保持单元；向所述第一基板保持单元所保持的基板供给含有蚀刻成分和增稠剂的药液的药液供给单元；在所述基板保持有所述药液的状态下，将该基板从所述第一处理室搬运到所述第二处理室的基板搬运单元；以及在所述第二处理室，对保持有所述药液的多张基板进行保持的第二基板保持单元。

公开(公告)号：CN102208329B

公开(公告)日：2014-04-23

申请号：CN201110070885.9

申请日：2011-03-21

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 岸本卓也 ,  安藤幸嗣

IPC: H01L21/00 ,  B08B3/02 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02052 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/465 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6875

Abstract: 一种基板处理装置具有：基板保持单元，其用于将基板保持为水平姿势；旋转单元，其使上述基板保持单元所保持的基板围绕铅垂轴线旋转；第一喷嘴，其具有第一相向面和形成于第一相向面的处理液喷出口，该第一相向面与通过上述旋转单元旋转的基板的下表面上的上述周边部的内侧的区域从该基板的下表面隔开间隔地相向；通过从上述处理液喷出口喷出的处理液，使基板的下表面与上述第一相向面之间的空间成为液密闭状态。

公开(公告)号：CN102208329A

公开(公告)日：2011-10-05

申请号：CN201110070885.9

申请日：2011-03-21

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 岸本卓也 ,  安藤幸嗣

IPC: H01L21/00 ,  B08B3/02 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02052 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/465 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6875

Abstract: 一种基板处理装置具有：基板保持单元，其用于将基板保持为水平姿势；旋转单元，其使上述基板保持单元所保持的基板围绕铅垂轴线旋转；第一喷嘴，其具有第一相向面和形成于第一相向面的处理液喷出口，该第一相向面与通过上述旋转单元旋转的基板的下表面上的上述周边部的内侧的区域从该基板的下表面隔开间隔地相向；通过从上述处理液喷出口喷出的处理液，使基板的下表面与上述第一相向面之间的空间成为液密闭状态。

公开(公告)号：CN102683243B

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201210059156.8

申请日：2012-03-05

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社 ,  斯克林集团公司

Inventor： 东友之 ,  山田健二 ,  荒木浩之 ,  安藤幸嗣

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/67075 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，具有：第一处理室以及第二处理室；在所述第一处理室保持基板的第一基板保持单元；向所述第一基板保持单元所保持的基板供给含有蚀刻成分和增稠剂的药液的药液供给单元；在所述基板保持有所述药液的状态下，将该基板从所述第一处理室搬运到所述第二处理室的基板搬运单元；以及在所述第二处理室，对保持有所述药液的多张基板进行保持的第二基板保持单元。