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公开(公告)号:CN109385590A
公开(公告)日:2019-02-26
申请号:CN201811294953.8
申请日:2018-11-01
申请人: 上海大学
摘要: 本发明提供了一种单晶高温合金再结晶的控制方法,属于再结晶控制技术领域。包括以下步骤:在稳恒磁场和惰性气体的条件下,对发生形变的单晶高温合金进行时效处理,达到控制单晶高温合金再结晶的目的。形变产生的残余应力为再结晶提供驱动力;稳恒磁场通过无接触的方式作用于单晶高温合金的微观尺度,能够释放形变引起的残余应力,通过减少结晶驱动力抑制再结晶的形成;同时,再结晶形核通常基于γ′相的溶解重新析出,稳恒磁场还能抑制元素的扩散从而抑制再结晶的形核长大,进而达到控制单晶高温合金再结晶的目的。从实施例中可以看出,本发明的控制方法使得单晶高温合金的再结晶层为26~36μm,相比无磁场控制得到的再结晶层厚度大大减小。
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公开(公告)号:CN107673765A
公开(公告)日:2018-02-09
申请号:CN201710841007.X
申请日:2017-09-18
申请人: 上海大学 , 中国航发商用航空发动机有限责任公司
IPC分类号: C04B35/584 , C04B35/64
CPC分类号: C04B35/591 , C04B2235/3206 , C04B2235/3225 , C04B2235/3826 , C04B2235/3865 , C04B2235/46 , C04B2235/656 , C04B2235/96 , C04B2235/9607
摘要: 本发明公开了一种氮化硅陶瓷的制备方法,将碳化硅粉、烧结助剂、添加剂、粘结剂以及设定量的无水乙醇均匀混合形成混合浆料,将混合浆料进行球磨至少24h后,对混合浆料进行干燥,得到混合物粉末;再进行造粒,然后在不低于16MPa压力下进行干压成型,得到素坯;然后在氮气气氛条件下,并在不低于1750℃的烧结温度下,将素坯进行常压烧结,控制烧结保温时间不低于2h,完成烧结工艺后,再进行冷却,即得到氮化硅陶瓷材料。本发明方法能实现在常压下烧结制备氮化硅陶瓷,工艺简单,可操作性强,生产周期较短,制备成本低廉,所制备的氮化硅陶瓷强度高、抗热震性能好、热效率较高,便于大规模生产制造。
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公开(公告)号:CN109097527A
公开(公告)日:2018-12-28
申请号:CN201811294941.5
申请日:2018-11-01
申请人: 上海大学
CPC分类号: C21D1/04 , C21D1/74 , C21D9/00 , C21D2201/04 , C21D2211/001
摘要: 本发明提供了一种定向及单晶高温合金的热处理方法,属于材料加工技术领域。在交变磁场和惰性气体下,将定向及单晶高温合金依次进行均匀化热处理、固溶处理、高温时效处理和低温时效处理。本发明在均匀化热处理、固溶处理和时效处理时加入交变磁场,能够促进金属元素的扩散,降低元素偏析,促使合金组织更加均匀,从而影响合金γ′相体积分数,提高定向及单晶高温合金力学性能。从实施例可以看出:经交变磁场热处理的定向及单晶高温合金组织分布均匀,γ′相呈立方体;显微硬度值为399.8~417.2HV,在950℃时抗拉强度为675.3~696.2MPa,延伸率为16.21~21.73%,断面收缩率为29.56~34.06%。
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