退火氧化设备
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104916740B

    公开(公告)日:2017-08-11

    申请号:CN201510278862.5

    申请日:2015-05-27

    IPC分类号: H01L31/18

    CPC分类号: Y02P70/521

    摘要: 本发明涉及一种退火氧化设备,该设备包括炉体、传送装置、进气装置、加热装置、冷却装置、保温层和控制装置。炉体一端设有进料口,另一端设有出料口,所述炉体包括相互连通的加热区和冷却区,所述冷却区靠近所述出料口;进气装置位于炉体内部并与炉体连通,加热装置和冷却装置均位于炉体外部,控制装置分别与传送装置、加热装置、进气装置和冷却装置连接。硅片经进料口进入炉体,经传送装置自进料口向出料口运动,硅片在炉体内的运动过程中,进气装置不断向炉体内输送氧气,控制装置通过控制加热装置、冷却装置以及传送装置进而调节炉体内的温度和硅片的传送速度,从而完成硅片的退火氧化工艺。硅片在从炉体中传送并输出的同时完成了硅片的退火氧化,减少了操作步骤,节约了生产时间。

    退火氧化设备
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104916740A

    公开(公告)日:2015-09-16

    申请号:CN201510278862.5

    申请日:2015-05-27

    IPC分类号: H01L31/18

    摘要: 本发明涉及一种退火氧化设备,该设备包括炉体、传送装置、进气装置、加热装置、冷却装置、保温层和控制装置。炉体一端设有进料口,另一端设有出料口,所述炉体包括相互连通的加热区和冷却区,所述冷却区靠近所述出料口;进气装置位于炉体内部并与炉体连通,加热装置和冷却装置均位于炉体外部,控制装置分别与传送装置、加热装置、进气装置和冷却装置连接。硅片经进料口进入炉体,经传送装置自进料口向出料口运动,硅片在炉体内的运动过程中,进气装置不断向炉体内输送氧气,控制装置通过控制加热装置、冷却装置以及传送装置进而调节炉体内的温度和硅片的传送速度,从而完成硅片的退火氧化工艺。硅片在从炉体中传送并输出的同时完成了硅片的退火氧化,减少了操作步骤,节约了生产时间。

    激光焦点定位装置及方法

    公开(公告)号:CN104907690A

    公开(公告)日:2015-09-16

    申请号:CN201510278880.3

    申请日:2015-05-27

    IPC分类号: B23K26/046

    CPC分类号: B23K26/046 B23K2101/40

    摘要: 本发明涉及一种激光焦点定位装置,该激光焦点定位装置包括探测器、载台、位置调整机构、光衰减器、位置调整机构、光衰减器以及图像采集与分析模块,载台位于探测器下方,位置调整机构位于载台两侧并与载台连接,光衰减器位于探测器上方,图像采集与分析模块与探测器通信连接。上述激光焦点定位装置对激光光斑进行处理并得到最精确的光斑大小,进而准确地确定焦点位置,克服了人为因素影响,焦点定位精度高。本发明还涉及采用上述装置的激光焦点定位方法,该方法步骤简单,焦点定位精度高。

    激光焦点定位装置
    8.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204725003U

    公开(公告)日:2015-10-28

    申请号:CN201520352488.4

    申请日:2015-05-27

    IPC分类号: B23K26/046

    摘要: 本实用新型涉及一种激光焦点定位装置,该激光焦点定位装置包括探测器、载台、位置调整机构、光衰减器、位置调整机构、光衰减器以及图像采集与分析模块,载台位于探测器下方,位置调整机构位于载台两侧并与载台连接,光衰减器位于探测器上方,图像采集与分析模块与探测器通信连接。上述激光焦点定位装置对激光光斑进行处理并得到最精确的光斑大小,进而准确地确定焦点位置,克服了人为因素影响,焦点定位精度高。

    退火氧化设备
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204760405U

    公开(公告)日:2015-11-11

    申请号:CN201520351700.5

    申请日:2015-05-27

    IPC分类号: H01L31/18

    CPC分类号: Y02P70/521

    摘要: 本实用新型涉及一种退火氧化设备,该设备包括炉体、传送装置、进气装置、加热装置、冷却装置、保温层和控制装置。炉体一端设有进料口,另一端设有出料口,所述炉体包括相互连通的加热区和冷却区,所述冷却区靠近所述出料口;进气装置位于炉体内部并与炉体连通,加热装置和冷却装置均位于炉体外部,控制装置分别与传送装置、加热装置、进气装置和冷却装置连接。硅片经进料口进入炉体,经传送装置自进料口向出料口运动,硅片在炉体内的运动过程中,进气装置不断向炉体内输送氧气,控制装置通过控制加热装置、冷却装置以及传送装置进而调节炉体内的温度和硅片的传送速度,从而完成硅片的退火氧化工艺。硅片在从炉体中传送并输出的同时完成了硅片的退火氧化,减少了操作步骤,节约了生产时间。

    一种晶体硅太阳电池
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204668318U

    公开(公告)日:2015-09-23

    申请号:CN201520240093.5

    申请日:2015-04-20

    CPC分类号: Y02E10/50

    摘要: 本实用新型一种晶体硅太阳电池,包含:第一导电类型的晶体硅层;覆盖第一导电类型的晶体硅层正面及侧壁的第二导电类型的晶体硅层;减反射膜层,覆盖位于第一导电类型的晶体硅层正面的第二导电类型的晶体硅层;金属电极,位于减反射膜层,与第二导电类型的晶体硅层电连接;金属背电极,覆盖第一导电类型的晶体硅层的背面,并与第一导电类型的晶体硅层电连接;隔离槽,环绕设置在位于第一导电类型的晶体硅层侧壁的第二导电类型的晶体硅层。本实用新型实现对常规太阳电池及N型双面电池等特殊电池的PN结隔离,降低太阳电池的因有效面积损失而带来的效率损失,使太阳电池的效率损失降低到0.1%abs及以下。