公开(公告)号：CN108300305B

公开(公告)日：2021-10-01

申请号：CN201810007780.0

申请日：2018-01-04

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 藤井恭 ,  野田国宏 ,  千坂博树 ,  染谷和也 ,  三隅浩一 ,  盐田大

IPC: C09D183/16 ,  C09D7/63 ,  C09D7/20 ,  H01L21/316

Abstract: 本发明的课题在于提供一种组合物和使用了该组合物的二氧化硅质膜的制造方法，所述组合物即使在较低温度的烧成条件下也能稳定地提供膜质良好的二氧化硅质膜。本发明涉及的组合物包含(A)聚硅氮烷、和(B)以下的式(B)表示的含有咪唑基的化合物。

公开(公告)号：CN108300305A

公开(公告)日：2018-07-20

申请号：CN201810007780.0

申请日：2018-01-04

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 藤井恭 ,  野田国宏 ,  千坂博树 ,  染谷和也 ,  三隅浩一 ,  盐田大

IPC: C09D183/16 ,  C09D7/63 ,  C09D7/20 ,  H01L21/316

CPC classification number: C09D183/16 ,  C08G77/62 ,  C08L83/16 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02318 ,  H01L21/02326 ,  H01L21/02337 ,  C08K5/3445 ,  C08K5/55 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02205

Abstract: 本发明的课题在于提供一种组合物和使用了该组合物的二氧化硅质膜的制造方法，所述组合物即使在较低温度的烧成条件下也能稳定地提供膜质良好的二氧化硅质膜。本发明涉及的组合物包含(A)聚硅氮烷、和(B)以下的式(B)表示的含有咪唑基的化合物。