-
公开(公告)号：CN118507416A
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202410172970.3
申请日：2024-02-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供基板处理装置和基板载置方法，能够改善基板的应力的分布来适当地保持基板。基板处理装置具备保持部，该保持部在吸附基板的吸附面具有圆状的中央区域和配置于中央区域的外侧的圆环状的外侧区域。另外，基板处理装置具备：吸附压力产生部，其使中央区域和沿着外侧区域的周向对该外侧区域进行分割得到的多个分区的各个分区独立地产生吸附压力；以及变形部，其使保持部的中央区域相对于该保持部的外缘移位。基板处理装置的控制部对以下工序进行控制：工序(A)，基于基板的翘曲状态至少使外侧区域的多个分区的一部分分区产生吸附压力来使基板吸附于吸附面；以及工序(B)，在工序(A)之后，一边继续进行工序(A)，一边使吸附面变形。
-
公开(公告)号：CN101431008A
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200810174786.3
申请日：2008-11-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/027 , B65G49/06 , G03F7/16 , B05C13/02 , B05C5/00 , B05D1/00
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和涂敷装置和涂敷方法，其特征在于：在悬浮载物台上将矩形的被处理基板以简易的结构保持为适合处理的一定的姿势并稳定地进行悬浮搬送。第一(左侧)和第二(右侧)的搬送部(84L、84R)中的第一和第二保持部(106L、106R)，具有：分别通过真空吸附力结合在基板G的左侧两个角落的背面(下表面)和右侧两个角落的背面(下表面)的两个吸附垫(108L、108R)；沿着搬送方向(X方向)在隔开规定间隔的两个位置限制各吸附垫(108L、108R)在铅垂方向的位移并进行支撑的一对垫支撑部(110L、110R)；使上述一对垫支撑部(110L、110R)分别独立地进行升降移动或者升降位移的一对的垫致动器(112L、112R)。
-
公开(公告)号：CN1949079B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200610136356.3
申请日：2006-10-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/16
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置及涂敷方法，当基板G的前端部到达抗蚀剂喷嘴(78)的正下方附近的设定位置即涂敷开始位置时，停止基板搬送，进行二次测定检查，由光学式距离传感器(162)测定至基板G上面及下面的距离Ld、Le。然后，将基板G的厚度测定值D及浮起高度测定值Hb分别与各自的设定值或基准值「D」、「Hb」进行比较，若比较误差|「D」—D|和|「Hb」—Hb|均在规定容许范围内，则判定「正常」，否则判定「异常」。由此，缩短通过浮起搬送方式的非旋转涂敷法将涂敷液涂敷在被处理基板上的整体涂敷处理时间并且合适地管理浮起台与基板以及喷嘴之间的高度位置关系，使基板上处理液的涂敷膜形成均匀的膜厚。
-
公开(公告)号：CN1939603B
公开(公告)日：2010-04-21
申请号：CN200610151489.8
申请日：2006-09-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 平田机工株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷方法及涂敷装置，在非旋转方式中以稳定的动作再现性良好地进行涂敷膜的膜厚控制，特别是涂敷扫描终端部的膜厚均匀化。在抗蚀剂喷嘴(78)经过通过点(X1)的时刻(t1)停止抗蚀剂泵，在经过一定延迟时间之后的时刻点(ta)，抗蚀剂喷嘴(78)的吐出压力开始衰减。另一方面，在时间上与此接近，相对基板(G)的抗蚀剂喷嘴(78)的上升移动与扫描速度的减速分别在规定时刻(t2、t3)开始。这样，抗蚀剂喷嘴(78)的吐出压力正在衰减时，抗蚀剂喷嘴(78)上升移动，且扫描速度减速。
-
公开(公告)号：CN110573264B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN201880026835.0
申请日：2018-04-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 池本大辅
Abstract: 涂敷处理装置(10)包括：保持基片并使其在水平的一个方向移动的基片移动部(12、13)；长条状的涂敷喷嘴(14)，其在与基片移动部的移动方向正交的方向延伸，对基片移动部所保持的基片排出涂敷液；使涂敷喷嘴在涂敷喷嘴的延伸方向移动的涂敷喷嘴移动部(16)；和控制部(18)，其通过控制基片移动部和涂敷喷嘴移动部的移动速度，来控制相对于基片移动部所保持的基片的涂敷方向。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1939603A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610151489.8
申请日：2006-09-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷方法及涂敷装置，在非旋转方式中以稳定的动作再现性良好地进行涂敷膜的膜厚控制，特别是涂敷扫描终端部的膜厚均匀化。在抗蚀剂喷嘴(78)经过通过点(X1)的时刻(t1)停止抗蚀剂泵，在经过一定延迟时间之后的时刻点(ta)，抗蚀剂喷嘴(78)的吐出压力开始衰减。另一方面，在时间上与此接近，相对基板(G)的抗蚀剂喷嘴(78)的上升移动与扫描速度的减速分别在规定时刻(t2、t3)开始。这样，抗蚀剂喷嘴(78)的吐出压力正在衰减时，抗蚀剂喷嘴(78)上升移动，且扫描速度减速。
-
公开(公告)号：CN110573264A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201880026835.0
申请日：2018-04-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 池本大辅
Abstract: 涂敷处理装置(10)包括：保持基片并使其在水平的一个方向移动的基片移动部(12、13)；长条状的涂敷喷嘴(14)，其在与基片移动部的移动方向正交的方向延伸，对基片移动部所保持的基片排出涂敷液；使涂敷喷嘴在涂敷喷嘴的延伸方向移动的涂敷喷嘴移动部(16)；和控制部(18)，其通过控制基片移动部和涂敷喷嘴移动部的移动速度，来控制相对于基片移动部所保持的基片的涂敷方向。
-
公开(公告)号：CN102376547A
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：CN201110241692.5
申请日：2011-08-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种涂覆装置以及喷嘴的维护方法，其防止在喷嘴内的流路内的异物的附着、并在对被处理基板涂覆处理液时从狭缝状的喷嘴喷出口均匀地喷出处理液。从喷嘴的喷出口向基板(G)喷出处理液并形成涂覆膜的涂覆装置(1)包括：喷嘴(16)，其从狭缝状的喷出口(16a)喷出处理液；维护部件(26)，其在喷嘴的待机期间保持喷嘴内的流路中被从处理液置换成处理液的溶剂(T)的状态，维护部件包括向喷嘴供给溶剂的溶剂供给部件(33、34)、在与喷嘴的喷出口之间形成规定的间隙的液保持面(28a)，在待机期间，以向液保持面喷出规定量的溶剂的状态保持喷嘴，溶剂相对于喷嘴的界面(T1)形成在喷嘴的外表面。
-
公开(公告)号：CN101431008B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200810174786.3
申请日：2008-11-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/027 , B65G49/06 , G03F7/16 , B05C13/02 , B05C5/00 , B05D1/00
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和涂敷装置和涂敷方法，其特征在于：在悬浮载物台上将矩形的被处理基板以简易的结构保持为适合处理的一定的姿势并稳定地进行悬浮搬送。第一(左侧)和第二(右侧)的搬送部(84L、84R)中的第一和第二保持部(106L、106R)，具有：分别通过真空吸附力结合在基板G的左侧两个角落的背面(下表面)和右侧两个角落的背面(下表面)的两个吸附垫(108L、108R)；沿着搬送方向(X方向)在隔开规定间隔的两个位置限制各吸附垫(108L、108R)在铅垂方向的位移并进行支撑的一对垫支撑部(110L、110R)；使上述一对垫支撑部(110L、110R)分别独立地进行升降移动或者升降位移的一对的垫致动器(112L、112R)。
-
公开(公告)号：CN1949079A
公开(公告)日：2007-04-18
申请号：CN200610136356.3
申请日：2006-10-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/16
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置及涂敷方法，当基板G的前端部到达抗蚀剂喷嘴(78)的正下方附近的设定位置即涂敷开始位置时，停止基板搬送，进行二次测定检查，由光学式距离传感器(162)测定至基板G上面及下面的距离Ld、Le。然后，将基板G的厚度测定值D及浮起高度测定值Hb分别与各自的设定值或基准值「D」、「Hb」进行比较，若比较误差|「D」－D|和|「Hb」－Hb|均在规定容许范围内，则判定「正常」，否则判定「异常」。由此，缩短通过浮起搬送方式的非旋转涂敷法将涂敷液涂敷在被处理基板上的整体涂敷处理时间并且合适地管理浮起台与基板以及喷嘴之间的高度位置关系，使基板上处理液的涂敷膜形成均匀的膜厚。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
10
records
(took 0.021 seconds)
