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公开(公告)号：CN118259446A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202410461496.6
申请日：2024-04-17
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司
IPC分类号： G02B21/36
摘要： 本发明提供了一种光学显微镜装置以及半导体检测设备，光学显微镜装置包括相机、镜筒、安装件以及调节机构，调节机构包括：高度调节装置，设置在安装件上；第一支架，设置在高度调节装置上并受高度调节装置驱动升降；旋转调节装置，设置在第一支架上；以及第二支架，设置在旋转调节装置上，并受旋转调节装置驱动旋转；镜筒与相机连接，镜筒或相机连接在第二支架上，以使调节机构带动镜筒与相机共同升降和/或旋转。由于镜筒是直接与相机相连后再安装在第二支架上，因此镜筒与相机在高度或者角度的调节过程中的相对位置始终不会发生变化，二者之间也不会产生角度晃动，进而可以提高光学显微镜装置的精度。
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公开(公告)号：CN117727609A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202311747455.5
申请日：2023-12-18
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司
IPC分类号： H01J37/02 , H01J37/20 , H01J37/26 , H01J37/28 , G01N23/225 , G01N23/2251
摘要： 本申请提供一种基于振动弛豫的扫描补偿方法、系统及电子设备，包括：基于启动定位信号，生成定位动作指令；基于所述定位动作指令，控制工件台运动并判断是否运动至振动补偿范围；在工件台运动至振动补偿范围的情况下，控制工件台以预设振动弛豫模型的振动形式进行运动，以确定工件台运动过程中的第一位置偏差；基于所述第一位置偏差，生成扫描补偿信号；基于所述扫描补偿信号进行电子束扫描，扫描补偿信号在电子束扫描过程中驱动电子束相对工件台运动。本申请基于振动弛豫的扫描补偿方法通过优化工件台定位流程，降低了电子束扫描成像中由于振动弛豫导致的图像质量下降问题，提升了扫描图像分辨率，提高了成像速度和设备整体产能。
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公开(公告)号：CN117011405A
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202310774363.X
申请日：2023-06-28
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司
摘要： 本申请提供一种电子束扫描成像中的干扰信号补偿方法、装置及电子设备，包括：获取基准方向上的扫描图像；根据所述扫描图像，确定所述扫描图像中的干扰信号的基准信号模型；基于所述干扰信号的基准信号模型，确定目标补偿模型；基于所述目标补偿模型，对扫描方向上的干扰信号进行补偿。本申请的一种电子束扫描成像中的干扰信号补偿方法、装置及电子设备解决了电子束扫描成像过程中由于振动或噪声等信号干扰导致图像质量下降的问题，提升了图像分辨率，降低了图像定位偏差。
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公开(公告)号：CN118838021A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202410823536.7
申请日：2024-06-24
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司
摘要： 本申请属于用于晶圆制造的辅助装置技术领域，尤其是涉及一种调节模块及装置。该调节模块包括支撑件、升降机构、平动机构以及摆动机构。升降机构用于支撑待调节件并能够带动待调节件沿Z向升降运动；平动机构，与升降机构相连并能够带动升降机构与待调节件一起沿Y向往复运动；摆动机构，设置于支撑件上，且摆动机构与平动机构相连并能够带动平动机构、升降机构以及待调节件一起相对支撑件摆动。待调节件在升降机构、平动机构以及摆动机构的作用下具备多个方向上的活动自由度，通过各调节模块中相应的机构进行配合驱动，即可实现调节待调节件的位置。
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公开(公告)号：CN117192663A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311037727.2
申请日：2023-08-17
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司
摘要： 本申请属于半导体制造技术领域，尤其是涉及一种光阑系统及半导体检测设备。该光阑系统包括至少一个可变光阑以及通光过道，可变光阑包括多根挡光条以及驱动机构；多根挡光条间隔设置，驱动机构位于通光过道外且设置为能够驱动任一挡光条运动，以调节挡光条伸入于通光过道内的位置。通过改变挡光条的位置，实现了不同光阑样式效果，改变通光过道的透光效果以在像面上形成不同样式的衍射图案，灵活性更高，能够适配晶圆图案多样复杂的缺陷检测应用场景，有效提高成像质量。另外，该半导体检测设备可对光阑系统程序化控制，方便快捷。
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