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公开(公告)号：CN111504292A
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN202010394639.8
申请日：2020-05-11
申请人： 中国人民解放军国防科技大学
摘要： 本发明属于振动陀螺技术领域，公开了一种石英圆柱谐振子第二次谐波误差的化学修调方法，所述方法包括步骤：A、通过扫频方法获得谐振子的本征频率、频率裂解和固有刚性轴方位；B、根据谐振子的本征频率、质量、振幅比，计算谐振子的第二次谐波误差值；C、根据化学修形的浸没深度、倾斜角度、谐振子的第二次谐波误差值和化学刻蚀液的刻蚀速率计算化学修形时间；D、根据化学修形时间，利用化学刻蚀液沿低频轴方位间隔180°的两个位置上对谐振子刻蚀。通过在谐振子n＝1模态的低频轴方位去除特定质量来降低第二次谐波误差值，该方法能够进一步改善谐振子的一致性和对称性，降低输出信号中的噪声，提高圆柱振动陀螺的精度。
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公开(公告)号：CN109655050A
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201910094387.4
申请日：2019-01-31
申请人： 中国人民解放军国防科技大学
摘要： 本发明公开了基于化学蒸气的半球谐振子修形系统及修形方法，属于振动陀螺技术领域。本发明包括半球谐振子化学蒸气修形系统和半球谐振子化学蒸气修形方法两个部分。化学修形系统包括蒸气产生装置以及谐振子反应装置。基于设计的化学蒸气修形系统，通过确定谐振子的主轴方向及频率裂解、确定去除质量与频率裂解间的斜率、标定斜率确定修形时间、处理四个待修形区域等步骤，完成了对半球谐振子频率裂解的修调，解决了由频率裂解引起的半球谐振陀螺零偏漂移的问题，具有不降低半球谐振子品质因数、修形区域可控、修形效率高、系统简单、成本低等优点，在航天、航空、航海等惯性导航领域具有广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN117416924A
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202311469267.0
申请日：2023-11-07
申请人： 中国人民解放军国防科技大学
摘要： 本发明公开了一种用于谐振子化学刻蚀的机构及自动化化学刻蚀设备，包括：基座；液体盒，设于基座，液体盒设有至少四个并用于存放化学刻蚀用的液体；驱动机构，设于基座的上端，驱动机构用于连接谐振子并带动谐振子伸入或取出液体盒；刻蚀轨迹实现机构，设于驱动机构，谐振子通过刻蚀轨迹实现机构连接于驱动机构，刻蚀轨迹实现机构用于带动谐振子在液体盒内按照预设轨迹运动；控制系统，信号连接于驱动机构与刻蚀轨迹实现机构，并用于控制驱动机构与刻蚀轨迹实现机构的开闭。本申请提供的一种用于谐振子化学刻蚀的机构及自动化化学刻蚀设备，能够在谐振子的刻蚀过程中达到精确控制谐振子的运动轨迹以及在各个液体中的停留时间及其顺序的目的。
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公开(公告)号：CN109655050B
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201910094387.4
申请日：2019-01-31
申请人： 中国人民解放军国防科技大学
摘要： 本发明公开了基于化学蒸气的半球谐振子修形系统及修形方法，属于振动陀螺技术领域。本发明包括半球谐振子化学蒸气修形系统和半球谐振子化学蒸气修形方法两个部分。化学修形系统包括蒸气产生装置以及谐振子反应装置。基于设计的化学蒸气修形系统，通过确定谐振子的主轴方向及频率裂解、确定去除质量与频率裂解间的斜率、标定斜率确定修形时间、处理四个待修形区域等步骤，完成了对半球谐振子频率裂解的修调，解决了由频率裂解引起的半球谐振陀螺零偏漂移的问题，具有不降低半球谐振子品质因数、修形区域可控、修形效率高、系统简单、成本低等优点，在航天、航空、航海等惯性导航领域具有广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN117504641A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202311469279.3
申请日：2023-11-07
申请人： 中国人民解放军国防科技大学
摘要： 本发明公开了一种用于化学刻蚀液体搅拌与温控的装置，包括：基体，为中空的长方体件且上端设有开口，基体用于存放刻蚀液体；搅拌扇叶，设于基体内的底部并用于搅拌刻蚀液体；驱动装置，设于基体并连接于搅拌扇叶；加热模块，设于基体内的底部，加热模块用于加热刻蚀液体。本申请提供的一种用于化学刻蚀液体搅拌与温控的装置，通过基体内部设置的搅拌扇叶与加热模块配合，能够保证刻蚀过程中，基体内各位置处的刻蚀液体具有相同的温度和浓度，该装置不仅可以用在化学刻蚀前，还可以用在化学刻蚀过程中，保证了配置溶液浓度和温度的均匀性，对提升化学刻蚀效果具有重要意义。
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公开(公告)号：CN114783655A
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202210504785.0
申请日：2022-05-10
申请人： 中国人民解放军国防科技大学
摘要： 本发明公开了一种复合薄膜在轴对称壳体谐振子中的应用方法，所述轴对称壳体谐振子包括圆柱壳体谐振子和半球壳体谐振子；所述圆柱壳体谐振子的内表面和谐振环的下部唇沿部分均镀制有第一金属纳米线和石墨烯薄膜电极；所述半球壳体谐振子的内表面和半球壳体的下部唇沿部分均镀制有第二金属纳米线和石墨烯薄膜电极。本发明具有厚度更薄(单层厚度小于10nm)，电导率高的优点，并且具有在不影响薄膜导电能力的情况下，显著提高谐振子镀膜后Q值的优势，可获取更高的陀螺精度。
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公开(公告)号：CN117870642A
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202311665897.5
申请日：2023-12-06
申请人： 中国人民解放军国防科技大学
IPC分类号： G01C19/5783 , G01C19/56
摘要： 本发明提供一种用于谐振子刚性轴与阻尼轴对准的装置及对准方法，装置包括：腔室；位于腔室内的谐振子，谐振子包括支撑柱、与支撑柱连接的半球谐振壳体；谐振子连接器，谐振子连接器的一端与所述支撑柱的底端连接；转台，转台位于所述谐振子连接器的底部的另一端固定；位于腔室中且位于半球谐振壳体侧部的离子源，离子源用于发射离子束；光阑，位于离子源和所述半球谐振壳体之间，光阑中通过的离子束用于刻蚀所述半球谐振壳体以改变半球谐振壳体的刚性轴的位置；第一电极至第八电极，第一电极至第八电极围绕支撑柱的中心轴的周向依次均匀间隔设置在半球谐振壳体的外侧部。
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公开(公告)号：CN111504292B
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202010394639.8
申请日：2020-05-11
申请人： 中国人民解放军国防科技大学
摘要： 本发明属于振动陀螺技术领域，公开了一种石英圆柱谐振子第二次谐波误差的化学修调方法，所述方法包括步骤：A、通过扫频方法获得谐振子的本征频率、频率裂解和固有刚性轴方位；B、根据谐振子的本征频率、质量、振幅比，计算谐振子的第二次谐波误差值；C、根据化学修形的浸没深度、倾斜角度、谐振子的第二次谐波误差值和化学刻蚀液的刻蚀速率计算化学修形时间；D、根据化学修形时间，利用化学刻蚀液沿低频轴方位间隔180°的两个位置上对谐振子刻蚀。通过在谐振子n＝1模态的低频轴方位去除特定质量来降低第二次谐波误差值，该方法能够进一步改善谐振子的一致性和对称性，降低输出信号中的噪声，提高圆柱振动陀螺的精度。
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公开(公告)号：CN114783655B
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202210504785.0
申请日：2022-05-10
申请人： 中国人民解放军国防科技大学
摘要： 本发明公开了一种复合薄膜在轴对称壳体谐振子中的应用方法，所述轴对称壳体谐振子包括圆柱壳体谐振子和半球壳体谐振子；所述圆柱壳体谐振子的内表面和谐振环的下部唇沿部分均镀制有第一金属纳米线和石墨烯薄膜电极；所述半球壳体谐振子的内表面和半球壳体的下部唇沿部分均镀制有第二金属纳米线和石墨烯薄膜电极。本发明具有厚度更薄(单层厚度小于10nm)，电导率高的优点，并且具有在不影响薄膜导电能力的情况下，显著提高谐振子镀膜后Q值的优势，可获取更高的陀螺精度。
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公开(公告)号：CN117490670A
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202311557357.5
申请日：2023-11-21
申请人： 中国人民解放军国防科技大学
IPC分类号： G01C19/5691 , G01C19/5783
摘要： 本发明公开了陀螺仪装配技术领域的一种半球谐振陀螺装配方法及装置。该半球谐振陀螺装配方法包括以下步骤：对加工完成的半球谐振子的中心支撑柱底部表面进行抛光和面型检查；将半球谐振子与陀螺电极基座进行光胶装配，装配成半球谐振陀螺装置。该半球谐振陀螺装配方法将光胶装配方式应用在了半球谐振陀螺的装配工艺中，实现牢固装配，且装配面之间并不引入额外的粘接材料，不存在物理参数突变层，最大限度的减少了因为装配带来的额外支撑损耗，有利于减少装配后谐振子Q值下降率。
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