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公开(公告)号:CN117590514A
公开(公告)日:2024-02-23
申请号:CN202410003556.X
申请日:2024-01-02
申请人: 中国人民解放军国防科技大学
IPC分类号: G02B6/02
摘要: 本发明提出一种提高飞秒激光刻写光纤光栅透射谱深度的方法及装置,利用飞秒激光在双包层光纤上刻写光纤光栅,其中所述双包层光纤包括纤芯、内包层和外包层,所述内包层的横截面为多边形且所述多边形中至少一个转角为弧形转角;所述飞秒激光从所述内包层的弧形转角处入射至纤芯进行光纤光栅的刻写,能够提高所刻写出的光纤光栅透射谱深度。基于本发明能够确定找到在双包层光纤上刻写光纤光栅时飞秒激光的最佳入射角度,能够实现高效刻写性能良好的光纤光栅。
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公开(公告)号:CN118642221B
公开(公告)日:2024-11-05
申请号:CN202411123166.2
申请日:2024-08-15
申请人: 中国人民解放军国防科技大学
IPC分类号: G02B6/02 , B23K26/362 , G02B27/09 , B23K26/082 , B23K26/064
摘要: 本发明提供一种基于衍射光斑的自动刻写光纤光栅的方法及装置,包括:在系统光路调整阶段,依次安装柱面透镜和相位掩模版,根据对应的衍射光斑性质调节至最佳状态。光路调整完毕后,在每次刻写光纤光栅前,只需要将光纤固定在光纤夹具上,计算机会根据衍射光斑的形态,自动控制光纤夹具移动,直到衍射光斑达到所需要的图像,此时光纤位置调整完毕,调节可调谐衰减器增大飞秒激光功率,自动化刻写光纤光栅。本发明中光纤光栅的性能参数严格可控,稳定性好,适用于大规模制备,可以广泛应用在传感和激光等领域。
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公开(公告)号:CN118642221A
公开(公告)日:2024-09-13
申请号:CN202411123166.2
申请日:2024-08-15
申请人: 中国人民解放军国防科技大学
IPC分类号: G02B6/02 , B23K26/362 , G02B27/09 , B23K26/082 , B23K26/064
摘要: 本发明提供一种基于衍射光斑的自动刻写光纤光栅的方法及装置,包括:在系统光路调整阶段,依次安装柱面透镜和相位掩模版,根据对应的衍射光斑性质调节至最佳状态。光路调整完毕后,在每次刻写光纤光栅前,只需要将光纤固定在光纤夹具上,计算机会根据衍射光斑的形态,自动控制光纤夹具移动,直到衍射光斑达到所需要的图像,此时光纤位置调整完毕,调节可调谐衰减器增大飞秒激光功率,自动化刻写光纤光栅。本发明中光纤光栅的性能参数严格可控,稳定性好,适用于大规模制备,可以广泛应用在传感和激光等领域。
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