公开(公告)号：CN118471768A

公开(公告)日：2024-08-09

申请号：CN202410604259.0

申请日：2024-05-15

申请人： 中国电子科技集团公司第四十八研究所

发明人： 袁祖浩 ,  袁伟 ,  李勇 ,  尹联民 ,  陈特超 ,  何秋福

IPC分类号： H01J37/08 ,  H05H1/46

摘要： 本发明公开的一种射频离子源，包括：栅网组件、放电室、电磁体、射频线圈、防护罩、进电接线柱、支撑架和进气组件；所述放电室的输入端与进气组件连接，放电室的输出端与栅网组件连接，放电室外侧缠绕射频线圈，所述电磁体通过支撑架环绕设置在射频线圈外侧；所述进气组件贯穿在防护罩内侧，防护罩上设有多个进电接线柱，以实现电磁体和射频线圈与外部电源连接，通过调节电磁体电流大小以改变磁场强度，防护罩与支撑架通过支撑杆连接固定；由进气组件输送的工艺气体在放电室内电离形成等离子体，再经由栅网组件输出。本发明具有结构紧凑、操作便捷、适用范围广等优点，缩短了离子源磁场强度和栅网间距的调试时间。

公开(公告)号：CN116752124A

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN202310558071.2

申请日：2023-05-17

申请人： 中国电子科技集团公司第四十八研究所

发明人： 尹联民 ,  佘鹏程 ,  石任凭 ,  李勇 ,  袁伟

IPC分类号： C23C16/458 ,  C23C16/46 ,  C23C16/455 ,  C23C16/52 ,  C23C14/50 ,  C23C14/54 ,  C23C14/22

摘要： 本发明公开一种高温基座及基片加热镀膜方法，基座包括：基片盘、空心主轴、调压组件、升降装置、加热装置和冷却装置；加热装置位于基片盘底部，用于加热基片；基片盘上设有调压组件，调压组件提供的工艺气体填充在基片与基片盘之间；冷却装置包括外冷却管、水箱和冷却盘，冷却盘位于加热装置底部，外冷却管环绕在加热装置外周，冷却水依次流经加热装置内部、外冷却管和冷却盘后循环至水箱；空心主轴分别与冷却盘和升降装置固接，在升降装置的驱动下，空心主轴带动基片盘在真空腔内往复升降。本发明具有结构紧凑、加热均匀性高且控制精准等优点，解决了因加热不均匀、基片易位移及基片装夹困难而导致基片镀膜质量低的问题，实现了基片高质量镀膜。

公开(公告)号：CN116387121A

公开(公告)日：2023-07-04

申请号：CN202310479641.9

申请日：2023-04-27

申请人： 中国电子科技集团公司第四十八研究所

发明人： 袁祖浩 ,  李勇 ,  龚俊 ,  李明 ,  鲁彤 ,  袁伟 ,  何秋福

IPC分类号： H01J37/08 ,  H01J37/32

摘要： 本发明公开了一种用于射频离子源的放电室及射频离子源，放电室包括：支撑筒、第一栅格和第二栅格，第二栅格嵌套在第一栅格内周，第一栅格嵌套在支撑筒内周，支撑筒的中心位置设有进气接口，第一栅格上均布有n个第一通孔，第二栅格上均布有n个第二通孔，第一通孔的体积大于第二通孔的体积，且第一通孔的中心与第二通孔的中心对齐。本发明还公开了包含上述放电室的射频离子源。本发明具有结构紧凑、原理简单且能够延长离子源使用寿命等优点，解决了因放电室表面生成污染物而导致电磁场无法进入放电室、加速放电室的屏蔽、射频离子源无法电离等问题，提高了装置的稳定性，降低了装置的使用和维护成本。

公开(公告)号：CN116716561A

公开(公告)日：2023-09-08

申请号：CN202310706231.3

申请日：2023-06-14

申请人： 中国电子科技集团公司第四十八研究所

发明人： 袁祖浩 ,  龚俊 ,  李明 ,  李勇 ,  袁伟 ,  鲁彤 ,  王佳方

IPC分类号： C22F1/18 ,  C22F1/02 ,  H01J37/08

摘要： 本发明公开了一种离子源栅网的加工方法，该加工方法包括以下步骤：将钼板材加工成栅网；在加热速率≥20℃/min的条件，将栅网加热至1200℃以上进行真空退火处理，完成对栅网的加工。本发明中，通过将栅网快速升温到1200℃以上进行真空退火处理，可将加工成型的栅网再结晶退火，去除内应力，使栅孔加工变形附近组织再结晶，以此改善组织结构，增加均匀性，增加栅网的稳定性，最终提高离子源栅网的使用寿命。进一步的，本发明中通过加工前和加工后的真空退火处理，可改善钼板材的加工性能、力学和物理性能，进而达到进一步改善栅网使用性能，提高稳定性和增加使用寿命的效果。

公开(公告)号：CN117458398A

公开(公告)日：2024-01-26

申请号：CN202311346718.1

申请日：2023-10-17

申请人： 中国电子科技集团公司第四十八研究所

发明人： 龚俊 ,  何秋福 ,  李勇 ,  孔令通 ,  袁伟

IPC分类号： H02H7/085

摘要： 本发明公开了一种电机过载保护装置，包括随动板、固定板、移动板、弹性组件和检测开关；随动板的一端紧固在电机的安装板上，固定板的一端紧固在真空磁流体上，移动板滑动安装于固定板的另一端，且移动板与随动板的另一端紧固相连；弹性组件位于固定板与移动板之间，用于产生限制移动板滑动的力矩；检测开关紧固于固定板上且检测端位于随动板另一端的运动轨迹侧。本发明还公开了一种电机系统，包括电机、真空磁流体和如上所述的电机过载保护装置，电机固定于安装板上，电机转轴与真空磁流体轴相连。本发明能够实现设备运动部件运动中任意时刻故障发生时，对电机起到预警过载保护作用，防止电机损坏，提高设备的运行可靠性。

公开(公告)号：CN308702726S

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202330645676.6

申请日：2023-10-07

申请人： 中国电子科技集团公司第四十八研究所

设计人： 龚俊 ,  何秋福 ,  王建青 ,  袁伟

摘要： 1.本外观设计产品的名称：高温扫描磁控溅射系统。
2.本外观设计产品的用途：用于金属薄膜溅射。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。