耐磨防护涂层、其制备方法及应用

    公开(公告)号:CN106811719A

    公开(公告)日:2017-06-09

    申请号:CN201510873075.5

    申请日:2015-12-02

    IPC分类号: C23C14/06 C23C14/16 C23C14/32

    摘要: 本发明公开了一种耐磨防护涂层、其制备方法及应用。所述耐磨防护涂层包括:覆盖于基底表面的硬质V过渡层、以及覆盖于所述硬质V过渡层上的VCN涂层。所述基底优选自不锈钢质机械运动基础件。所述制备方法包括:采用电弧离子镀技术,在基底表面沉积硬质V过渡层;采用电弧离子镀技术,在硬质V过渡层上继续沉积VCN涂层。本发明中VCN涂层主要是由VC及VN相组成,表现为一种典型的非晶镶嵌纳米晶结构,在大气和海水环境均表现出较低的摩擦系数及磨损率;硬质V过渡层能够改善不锈钢质机械运动基础件等基底与VCN涂层两者成分迥异材料间的结合性能,同时释放VCN涂层中的部分应力,从而有效的提高了VCN涂层与不锈钢质机械运动基础件的综合性能及使用寿命。

    一种片状粉末断面样品的制备方法

    公开(公告)号:CN110186738A

    公开(公告)日:2019-08-30

    申请号:CN201810153747.9

    申请日:2018-02-22

    IPC分类号: G01N1/32 G01N1/36

    摘要: 本发明提供了一种片状粉末的断面样品的制备方法,包括:将导电胶液滴加在基片表面;将片状粉末分散在导电胶液中;将导电胶液进行干燥,得到第一胶块;将基片垂直竖立于平整的平台上,将第一胶块设置于基片底部;将导电胶液滴加在第一胶块上,待导电胶液与第一胶块融合后进行干燥,得到第二胶块;采用离子抛光对第二胶块的下表面进行抛光,得到片状粉末的断面样品。本发明提供的方法制备得到的断面样品中大部分二维片状粉末都能够垂直于离子束切割的方向,在后期的观察中有大量的符合要求的可观察区域;另外本发明采用导电胶液进行制样,样品具有较好的导电性,有利于后期的高倍观察。

    高微观均匀度热变形纳米晶稀土永磁材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN107464647B

    公开(公告)日:2019-06-11

    申请号:CN201710910668.3

    申请日:2017-09-29

    IPC分类号: H01F1/057 H01F1/06 B22F3/02

    摘要: 本发明公开了一种高微观均匀度热变形纳米晶稀土永磁材料及其制备方法。所述的制备方法包括:分别提供快淬粉以及h‑BN悬浮液,其中所述h‑BN悬浮液中的h‑BN纳米微片具有六方晶型结构,且具有形状各向异性,所述h‑BN纳米微片具有三维片状结构,尤其具有纳米级厚度、微米级长度和宽度;将所述快淬粉与所述h‑BN悬浮液混合均匀,并干燥,得到具有h‑BN纳米片均匀附着的快淬粉,之后依次进行热压成型及热变形成型,得到高微观均匀度热变形纳米晶稀土永磁材料。本发明的制备方法采用h‑BN悬浮液与快淬粉直接混合并旋转蒸发,实现了h‑BN纳米片在快淬粉表面均匀附着,得到的所述高微观均匀度热变形纳米晶稀土永磁材料的综合磁性能优异。

    耐磨防护涂层、其制备方法及应用

    公开(公告)号:CN106811719B

    公开(公告)日:2019-07-19

    申请号:CN201510873075.5

    申请日:2015-12-02

    IPC分类号: C23C14/06 C23C14/16 C23C14/32

    摘要: 本发明公开了一种耐磨防护涂层、其制备方法及应用。所述耐磨防护涂层包括:覆盖于基底表面的硬质V过渡层、以及覆盖于所述硬质V过渡层上的VCN涂层。所述基底优选自不锈钢质机械运动基础件。所述制备方法包括:采用电弧离子镀技术,在基底表面沉积硬质V过渡层;采用电弧离子镀技术,在硬质V过渡层上继续沉积VCN涂层。本发明中VCN涂层主要是由VC及VN相组成,表现为一种典型的非晶镶嵌纳米晶结构,在大气和海水环境均表现出较低的摩擦系数及磨损率;硬质V过渡层能够改善不锈钢质机械运动基础件等基底与VCN涂层两者成分迥异材料间的结合性能,同时释放VCN涂层中的部分应力,从而有效的提高了VCN涂层与不锈钢质机械运动基础件的综合性能及使用寿命。

    一种用于宽离子束刻蚀的防反沉积样品台

    公开(公告)号:CN217468332U

    公开(公告)日:2022-09-20

    申请号:CN202221145803.2

    申请日:2022-05-13

    IPC分类号: H01J37/32

    摘要: 本申请属于刻蚀抛光技术领域,公开了一种用于宽离子束刻蚀的防反沉积样品台,包括用于支撑样品的第一面的支撑板,还包括遮蔽部件,所述遮蔽部件包括固定在一起的遮蔽板和楔形块,所述楔形块的截面为直角三角形,其斜面与所述遮蔽板相接触,其一个直角面用于与所述样品形成面接触。本申请提供的上述用于宽离子束刻蚀的防反沉积样品台,能够提高样品固定的稳定性,消除实验过程中因样品移动坠落而导致反沉积污染的问题,从而提高离子束刻蚀抛光工艺的成功率。

    金属纤维合金丝的原位拉伸EBSD制样装置

    公开(公告)号:CN219512134U

    公开(公告)日:2023-08-11

    申请号:CN202320287475.8

    申请日:2023-02-14

    IPC分类号: G01N23/20008

    摘要: 本实用新型公开了一种金属纤维合金丝的原位拉伸EBSD制样装置。所述原位拉伸EBSD制样装置包括:样品托,所述样品托的表面具有一用于承载金属纤维合金丝的承托面,所述承托面包括连续设置的第一区域和第二区域,所述第一区域为连续且平整的平面且可供磨料悬浮液停留,所述第二区域的全部均设置在所述第一区域所在的延伸平面靠近样品托的一侧。本实用新型提供的一种金属纤维合金丝的原位拉伸EBSD制样装置,在整体呈弧形的承托面上设置平面来固定金属纤维合金丝,可以将磨抛区域限定在与平面区域对应的部分,既能满足原位拉伸EBSD试样的长度要求,同时对金属纤维合金丝的指定部分进行抛光。