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公开(公告)号：CN111331249B
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202010127468.2
申请日：2020-02-28
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: B23K26/046 , B23K26/06 , B23K26/362 , B23K26/70
Abstract: 本发明公开一种匀光参数的配置装置及方法、剥离系统及方法，涉及激光加工技术领域，以优化能量光束的均匀性，提高工件的剥离质量。匀光参数的配置装置包括，用于容纳匀光物质的透光容器，匀光物质具有丁达尔效应。用于检测从容纳匀光物质的透光容器出射的能量光束的光斑均匀性参数的检测模组。与检测模组通信连接的控制器，控制器用于在光斑均匀性参数满足第一阈值时，根据光斑均匀性参数确定匀光物质的第一匀光参数。本发明还提供采用该配置装置的匀光参数的配置方法，包含有应用上述配置方法配置匀光物质的剥离系统，以及应用该剥离系统的剥离方法。
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公开(公告)号：CN111299810A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN202010113641.3
申请日：2020-02-24
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开一种激光加工方法及设备，涉及激光加工技术领域，以便在激光加工时，能够确定合适的激光加工参数，提高激光加工质量。该激光加工方法，应用于激光加工基底，基底含有至少一种特征物相，激光加工方法包括：根据加工目的信息确定至少一种特征物相的激光加工参数约束条件；根据激光加工参数约束条件从至少一种特征物相的预设对应关系获得激光加工参数；每种特征物相的预设对应关系包括多个激光加工参数的相对关系；激光加工设备根据激光加工参数对基底进行加工。本发明提供的一种激光加工方法及设备用于激光加工。
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公开(公告)号：CN109900356A
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201910202155.6
申请日：2019-03-15
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 一种关联成像方法及装置，方法包括：采用激光照射旋转的毛玻璃形成随机涨落光场，其中，该光场的光强通过求解激光与毛玻璃表面微纳结构的交互结果得到；使用随机涨落光场照明成像目标，形成携带有成像目标振幅和相位信息的光波；探测光波的光强，对随机涨落光场的光强及光波的光强进行关联计算以重建生成成像目标的图像。该方法及装置省去了分光镜与面阵探测器、数字微透镜阵列或者投影系统等复杂的光学模块，简化了成像系统的复杂度，提高了成像速度；直接通过麦克斯韦方程求解入射光波与毛玻璃表面微纳结构的交互结果，得到照明成像目标的随机涨落光场分布，提高了图像重建的分辨率；并且可实现亚波长结构成像，扩大了关联成像的使用范围。
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公开(公告)号：CN111299810B
公开(公告)日：2022-01-04
申请号：CN202010113641.3
申请日：2020-02-24
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开一种激光加工方法及设备，涉及激光加工技术领域，以便在激光加工时，能够确定合适的激光加工参数，提高激光加工质量。该激光加工方法，应用于激光加工基底，基底含有至少一种特征物相，激光加工方法包括：根据加工目的信息确定至少一种特征物相的激光加工参数约束条件；根据激光加工参数约束条件从至少一种特征物相的预设对应关系获得激光加工参数；每种特征物相的预设对应关系包括多个激光加工参数的相对关系；激光加工设备根据激光加工参数对基底进行加工。本发明提供的一种激光加工方法及设备用于激光加工。
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公开(公告)号：CN111519178A
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN202010490732.9
申请日：2020-06-02
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开一种工件预处理的设备及其预处理方法，涉及激光器技术领域，以解决现有技术中工件钝化使用气相钝化容易生成较稳定的碳氧化表面层，影响激光器的性能的问题。所述工件预处理设备包括：钝化液容器；与所述钝化液容器可断开连接的试样容器；与试样容器可断开连接的清洗液供应装置；与试样容器可断开连接的惰性气体供应装置。所述工件预处理方法包括上述技术方案所提的工件预处理设备。本发明提供的工件预处理方法用于激光器放电腔部件等工件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112490839B
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN202011239030.X
申请日：2020-11-09
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开一种准分子激光脉冲能量稳定性控制方法及准分子激光器，所述控制方法包括：根据设定放电电压值产生高压脉冲；通过所述高压脉冲电击放电腔内设的工作气体，产生激光脉冲；检测所述激光脉冲的能量值，并输出所述激光脉冲；基于所述能量值利用PI算法计算对所述放电电压值进行调节；以及利用PSO算法确定所述PI算法中的比例参数及积分参数。本发明所述准分子激光脉冲能量稳定性控制方法利用PSO算法确定所述PI算法中的比例参数及积分参数，实现PI参数自适应处理，在PI算法的基础上增强了算法的鲁棒性和有效性，使算法对出光脉冲的调节更加精准，能量和剂量的精度都得到了更好的控制。
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公开(公告)号：CN112210775A
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：CN202011075185.4
申请日：2020-10-09
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开一种零件涂层制备装置及零件涂层制备方法、终端装置，涉及准分子激光器放电腔用涂层制造技术领域，以解决零件被卤素工作气体腐蚀生成有害气体以及放电产生的声波、激波引起放电环境不稳定的问题，从而影响激光器的输出性能的问题。所述零件涂层制备装置，包括：真空样品室，送粉装置，用于向真空样品室内的零件表面提供涂层粉末。涂层粉末的材质至少包括高熵合金。激光成形装置，用于对送粉装置提供的涂层粉末进行成形处理，得到零件涂层，所述零件涂层至少包括致密涂层和形成于致密涂层上的多孔涂层。所述零件涂层制备方法包括上述技术方案所提的零件涂层制备装置。本发明提供的零件涂层制备装置用于制备零件涂层。
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公开(公告)号：CN111307924A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN202010113630.5
申请日：2020-02-24
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G01N27/62
Abstract: 本发明实施例提供一种检测装置、检测准分子激光器的放电腔部件钝化程度的方法，涉及光电技术领域，可判断放电腔部件内的钝化层是否钝化完成。一种检测装置，用于检测准分子激光器的放电腔部件的钝化程度，包括准分子激光器、测试腔、试样槽、钝化气瓶、质谱仪；准分子激光器包括放电腔部件；试样槽位于测试腔内；钝化气瓶和质谱仪分别与测试腔连接；试样槽，用于盛放从所述放电腔部件取样的钝化样品；钝化气瓶，用于向测试腔输入钝化气体，得到钝化层；质谱仪，用于检测测试腔内的有害气体的含量，并判断钝化是否完成。
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公开(公告)号：CN109900355B
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201910202151.8
申请日：2019-03-15
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 一种成像方法，应用于光学成像技术领域，包括：将激光照射旋转的毛玻璃形成随机涨落光场，使用该随机涨落光场照明成像目标，形成携带有成像目标振幅和相位信息的光波，并探测该光波的光强，然后，计算随机涨落光场中所有像素的光强值，当随机涨落光场中连续多个像素的光强值相同时，重建随机涨落光场，对重建后的随机涨落光场的光强和光波的光强进行关联计算，得到对重建后的随机涨落光场的光强和光波的光强的强度关联项，根据该强度关联项，生成成像目标的图像。本发明还公开了一种成像装置，提高了图像的重建速度及分辨率。
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公开(公告)号：CN112210775B
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN202011075185.4
申请日：2020-10-09
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开一种零件涂层制备装置及零件涂层制备方法、终端装置，涉及准分子激光器放电腔用涂层制造技术领域，以解决零件被卤素工作气体腐蚀生成有害气体以及放电产生的声波、激波引起放电环境不稳定的问题，从而影响激光器的输出性能的问题。所述零件涂层制备装置，包括：真空样品室，送粉装置，用于向真空样品室内的零件表面提供涂层粉末。涂层粉末的材质至少包括高熵合金。激光成形装置，用于对送粉装置提供的涂层粉末进行成形处理，得到零件涂层，所述零件涂层至少包括致密涂层和形成于致密涂层上的多孔涂层。所述零件涂层制备方法包括上述技术方案所提的零件涂层制备装置。本发明提供的零件涂层制备装置用于制备零件涂层。
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