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公开(公告)号：CN119518407A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202411561064.9
申请日：2024-11-04
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本公开提供一种压窄倍频激光谱线宽度的装置及方法，装置包括：泵浦模块及激光谐振腔；泵浦模块，用于向光路中提供特定偏振方向的线偏振光；激光谐振腔，在所述激光谐振腔内有沿光路依次设置的增益介质、至少一个双折射滤光片以及倍频晶体，所述至少一个双折射滤光片以布儒斯特角插入光路中；其中，所述线偏振光聚焦在所述增益介质中，所述线偏振光的中心波长与所述增益介质的吸收峰波长相同，所述线偏振光的偏振方向与所述增益介质的最大吸收方向相同。本申请可以通过对插入激光谐振腔的双折射滤光片(组)进行特定调整，能够方便快捷地在多种腔内倍频的激光器中实现窄带滤波，相较于现有技术，本申请引入的功率损耗较小。
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公开(公告)号：CN112210775A
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：CN202011075185.4
申请日：2020-10-09
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开一种零件涂层制备装置及零件涂层制备方法、终端装置，涉及准分子激光器放电腔用涂层制造技术领域，以解决零件被卤素工作气体腐蚀生成有害气体以及放电产生的声波、激波引起放电环境不稳定的问题，从而影响激光器的输出性能的问题。所述零件涂层制备装置，包括：真空样品室，送粉装置，用于向真空样品室内的零件表面提供涂层粉末。涂层粉末的材质至少包括高熵合金。激光成形装置，用于对送粉装置提供的涂层粉末进行成形处理，得到零件涂层，所述零件涂层至少包括致密涂层和形成于致密涂层上的多孔涂层。所述零件涂层制备方法包括上述技术方案所提的零件涂层制备装置。本发明提供的零件涂层制备装置用于制备零件涂层。
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公开(公告)号：CN109900355B
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201910202151.8
申请日：2019-03-15
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 一种成像方法，应用于光学成像技术领域，包括：将激光照射旋转的毛玻璃形成随机涨落光场，使用该随机涨落光场照明成像目标，形成携带有成像目标振幅和相位信息的光波，并探测该光波的光强，然后，计算随机涨落光场中所有像素的光强值，当随机涨落光场中连续多个像素的光强值相同时，重建随机涨落光场，对重建后的随机涨落光场的光强和光波的光强进行关联计算，得到对重建后的随机涨落光场的光强和光波的光强的强度关联项，根据该强度关联项，生成成像目标的图像。本发明还公开了一种成像装置，提高了图像的重建速度及分辨率。
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公开(公告)号：CN117458251A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202311355044.1
申请日：2023-10-18
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: H01S3/10 , H01S3/109 , H01S3/08036 , H01S3/108
Abstract: 本公开提供一种和频光子数配比可调的激光系统，包括：光源；第一二分之一波片；偏振分束器件，用于将入射光分成水平偏振光和竖直偏振光；水平偏振光通过并在第一多倍频模块中产生非线性频率变换；旋转第一二分之一波片，同时观察第一功率计和第二功率计，使第一功率计和第二功率计的功率比变为预设比值，调整好后移除第一分光镜、第一功率计和第二功率计；旋转第三二分之一波片，使其输出光偏振方向满足第二多倍频模块的模式匹配需求，调整第二多倍频模块，使得第三功率计读到的示数最大即完成整个光路的调整，相较于现有技术，本公开可以根据和频光对不同波长入射光功率的比例需求对单一基频源进行不同比例的分光调节，提升能量利用率。
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公开(公告)号：CN112210775B
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN202011075185.4
申请日：2020-10-09
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开一种零件涂层制备装置及零件涂层制备方法、终端装置，涉及准分子激光器放电腔用涂层制造技术领域，以解决零件被卤素工作气体腐蚀生成有害气体以及放电产生的声波、激波引起放电环境不稳定的问题，从而影响激光器的输出性能的问题。所述零件涂层制备装置，包括：真空样品室，送粉装置，用于向真空样品室内的零件表面提供涂层粉末。涂层粉末的材质至少包括高熵合金。激光成形装置，用于对送粉装置提供的涂层粉末进行成形处理，得到零件涂层，所述零件涂层至少包括致密涂层和形成于致密涂层上的多孔涂层。所述零件涂层制备方法包括上述技术方案所提的零件涂层制备装置。本发明提供的零件涂层制备装置用于制备零件涂层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109900355A
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201910202151.8
申请日：2019-03-15
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 一种成像方法，应用于光学成像技术领域，包括：将激光照射旋转的毛玻璃形成随机涨落光场，使用该随机涨落光场照明成像目标，形成携带有成像目标振幅和相位信息的光波，并探测该光波的光强，然后，计算随机涨落光场中所有像素的光强值，当随机涨落光场中连续多个像素的光强值相同时，重建随机涨落光场，对重建后的随机涨落光场的光强和光波的光强进行关联计算，得到对重建后的随机涨落光场的光强和光波的光强的强度关联项，根据该强度关联项，生成成像目标的图像。本发明还公开了一种成像装置，提高了图像的重建速度及分辨率。
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公开(公告)号：CN109900356A
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201910202155.6
申请日：2019-03-15
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 一种关联成像方法及装置，方法包括：采用激光照射旋转的毛玻璃形成随机涨落光场，其中，该光场的光强通过求解激光与毛玻璃表面微纳结构的交互结果得到；使用随机涨落光场照明成像目标，形成携带有成像目标振幅和相位信息的光波；探测光波的光强，对随机涨落光场的光强及光波的光强进行关联计算以重建生成成像目标的图像。该方法及装置省去了分光镜与面阵探测器、数字微透镜阵列或者投影系统等复杂的光学模块，简化了成像系统的复杂度，提高了成像速度；直接通过麦克斯韦方程求解入射光波与毛玻璃表面微纳结构的交互结果，得到照明成像目标的随机涨落光场分布，提高了图像重建的分辨率；并且可实现亚波长结构成像，扩大了关联成像的使用范围。
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公开(公告)号：CN116505360A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202310295622.0
申请日：2023-03-23
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: H01S3/10
Abstract: 本公开提供一种偏振泵浦功率占比可调的激光系统，包括：泵浦模块、第一半波片、偏振分光器件、第一光学腔体、第二光学腔体和调节装置；泵浦模块输出泵浦光；第一半波片设置于泵浦模块和偏振分光器件之间，对泵浦光的偏振方向进行调整；偏振分光器件将对入射的泵浦光分成水平方向出射的P偏振光和垂直方向出射的S偏振光；P偏振光进入第一光学腔体，S偏振光进入第二光学腔体；调节装置调节第一半波片，以调节P偏振光和S偏振光的比例，以对两腔体泵浦功率占比进行调节，相较于现有技术，本公开可以利用同一泵浦源同时实现对不同光学腔体的泵浦，且泵浦功率比例可根据实际需要进行不同比例的实时调节，可以极大地节约成本，提升能量利用率。
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公开(公告)号：CN116487982A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202310395963.5
申请日：2023-04-13
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本公开提供一种控制激光相干长度的装置及方法，装置包括：激光器、色散部件和发散角控制部件；所述色散部件设置于所述激光器输出激光的光路上，激光光束在输出之前以第一角度入射到所述色散部件后发生色散，使得出射激光光束的各光谱成分按照顺序依次排列，所述第一角度可变，激光光束的色散随着所述第一角度的变化而相应变化；所述发散角控制部件设置于经所述色散部件色散的出射激光光束的光路上，可对该出射激光光束的发散角的大小进行控制，相较于现有技术，本公开可以通过改变光束经过色散部件的色散和/或光束发散角，实现连续调节输出激光相干长度的目的。
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公开(公告)号：CN109900356B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201910202155.6
申请日：2019-03-15
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 一种关联成像方法及装置，方法包括：采用激光照射旋转的毛玻璃形成随机涨落光场，其中，该光场的光强通过求解激光与毛玻璃表面微纳结构的交互结果得到；使用随机涨落光场照明成像目标，形成携带有成像目标振幅和相位信息的光波；探测光波的光强，对随机涨落光场的光强及光波的光强进行关联计算以重建生成成像目标的图像。该方法及装置省去了分光镜与面阵探测器、数字微透镜阵列或者投影系统等复杂的光学模块，简化了成像系统的复杂度，提高了成像速度；直接通过麦克斯韦方程求解入射光波与毛玻璃表面微纳结构的交互结果，得到照明成像目标的随机涨落光场分布，提高了图像重建的分辨率；并且可实现亚波长结构成像，扩大了关联成像的使用范围。
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