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公开(公告)号：CN118937357A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202411095282.8
申请日：2024-08-09
申请人： 中国计量科学研究院 , 深圳中国计量科学研究院技术创新研究院
摘要： 本发明公开一种光栅表面缺陷定性和定量检测装置及方法，涉及精密仪器检测领域。所述检测装置包括：激光器、传输分光组件、第一光接收器、第二光接收器和分析仪；所述第一光接收器和所述第二光接收器均与所述分析仪连接。本发明实施例利用对光栅反射的相互干涉的衍射光进行合束，得到干涉光，然后对干涉光进行分束，得到偏振方向相同且相位不同的分束光，通过对偏振方向相同且相位不同的分束光进行相位解算的方式实现光栅表面缺陷的定性和定量的检测，并且本发明实施例对干涉光进行测量，克服了由于光栅表面对环境光反射造成的图像检测精度低的缺陷，提高了检测精度。
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公开(公告)号：CN114088188A
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN202111401909.4
申请日：2021-11-19
申请人： 中国计量科学研究院 , 深圳中国计量科学研究院技术创新研究院
IPC分类号： G01H9/00
摘要： 本发明公开了一种振动测量系统，包括：激光器、准直透镜、多象限光电探测器及信号调理电路。其中，激光器用于发射激光光束；准直透镜设置在激光器的输出光路上，用于将激光光束转换成准直光束；多象限光电探测器设置在激光器的输出光路上，且固定在被测物上，用于根据接收的准直光束产生各象限对应的光电流信号；信号调理电路与多象限光电探测器连接，用于根据各象限对应的光电流信号确定被测物的振动信号。本发明结合电测法和光测法的优势，采用多象限光电探测器探测各象限对应的光电流信号，利用信号调理电路对光电流信号进行处理，从而确定被测物的振动信号，测量准确度高、灵敏度高，频率响应范围大。
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公开(公告)号：CN111366108A
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：CN202010298483.3
申请日：2020-04-16
申请人： 中国计量科学研究院
IPC分类号： G01B11/30
摘要： 本发明公开了一种垂直式表面粗糙度测头及表面粗糙度仪，垂直式表面粗糙度测头包括固定架、移动架、位移测量模块、针杆、触针和导向装置，移动架竖向滑动连接于固定架上，移动架上设置针杆，移动架的底板上设有导向装置，导向装置能够用于对针杆进行竖向导向以防止针杆摆动，针杆的底端固定设置有触针，针杆穿过导向装置，触针贯穿移动架的底板，位移测量模块用于测量针杆竖直方向上的移动距离；表面粗糙度仪包括架体、移动装置和上述的垂直式表面粗糙度测头。本发明中，触针与针杆在导向装置的作用下，测量过程中始终与工件表面垂直，操作简便、测量精准程度高。
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公开(公告)号：CN118299297A
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202410434611.0
申请日：2024-04-11
申请人： 深圳中国计量科学研究院技术创新研究院
摘要： 本发明公开了一种晶圆污染物标准片的制备装置及制备方法，涉及标准物质制备技术领域。该制备装置包括液滴沉积系统、液滴观测系统和晶圆位移控制系统；所述的液滴沉积系统包括液滴喷墨头、供液部、喷头控制器；所述的液滴观测系统包括显微镜、LED频闪灯、CCD相机、图像分析装置；所述的晶圆位移控制系统包括位移台、载物台和位移控制器。该制备装置通过液滴喷墨头发生一系列包含单个粒子的单分散液滴，并对其进行分离定位，从而有效避免同一位置沉积复数颗粒，进而有效避免颗粒团聚导致的粒径变化，确保晶圆表面附着颗粒粒径的一致性；通过控制沉积液滴的数量能精准地控制晶圆表面沉积的颗粒数量，还能有效控制颗粒在晶圆表面的沉积位置。
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公开(公告)号：CN114234818B
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202111552361.3
申请日：2021-12-17
申请人： 中国计量科学研究院
摘要： 本发明公开了一种激光干涉位移测量系统和方法，利用光纤跳线的出射端面和被测物表面构成开放式法布里珀罗腔，将激光光束在光纤跳线的出射端面与空气端面发生后向菲涅尔反射的部分作为参考光，将透射至被测物表面并反射耦合进光纤跳线的部分作为测量光，使参考光与测量光在光纤跳线内部发生干涉。当被测物发生位移时，法布里珀罗腔的腔长发生相应改变，相当于改变了测量光和参考光之间的光程差，从而导致测量光和参考光的相位差发生变化，最终影响二者的干涉信号，通过干涉信号调理模块和信号解调模块对干涉信号进行处理，计算得到被测物的位移量，从而实现了对位移的非接触、高精度测量。
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公开(公告)号：CN118329557A
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN202410434607.4
申请日：2024-04-11
申请人： 深圳中国计量科学研究院技术创新研究院
摘要： 本发明公开了一种精准控制的纳米颗粒分离沉积方法，涉及颗粒分离技术领域。分离沉积方法包括以下步骤：选取已知颗粒数量浓度的纳米颗粒溶液，对纳米颗粒溶液进行预沉积，生成单分散液滴；分析多个生成的单分散液滴体积，计算体积平均值#imgabs0#计算单分散液滴内包含纳米颗粒数量的期望值；稀释纳米颗粒溶液，调整颗粒浓度直至单分散液滴内包含颗粒数量的期望值#imgabs1#为0.9‑1；将上述调整好颗粒浓度的纳米颗粒溶液生成单分散液滴分别沉积在基底的不同位置；待基底上单分散液滴中溶剂完全蒸发后，实现纳米颗粒的分离沉积。该方法可以用于对纳米颗粒材料进行显微镜观察之前的样品处理，有效避免材料团聚，确保直接观察到材料本身形貌。
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公开(公告)号：CN114234818A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202111552361.3
申请日：2021-12-17
申请人： 中国计量科学研究院
摘要： 本发明公开了一种激光干涉位移测量系统和方法，利用光纤跳线的出射端面和被测物表面构成开放式法布里珀罗腔，将激光光束在光纤跳线的出射端面与空气端面发生后向菲涅尔反射的部分作为参考光，将透射至被测物表面并反射耦合进光纤跳线的部分作为测量光，使参考光与测量光在光纤跳线内部发生干涉。当被测物发生位移时，法布里珀罗腔的腔长发生相应改变，相当于改变了测量光和参考光之间的光程差，从而导致测量光和参考光的相位差发生变化，最终影响二者的干涉信号，通过干涉信号调理模块和信号解调模块对干涉信号进行处理，计算得到被测物的位移量，从而实现了对位移的非接触、高精度测量。
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公开(公告)号：CN111351451A
公开(公告)日：2020-06-30
申请号：CN202010298447.7
申请日：2020-04-16
申请人： 中国计量科学研究院
摘要： 本发明公开一种表面微观形貌测量传感器，用于测量待测工件表面的形貌，包括：触针，用于测量微观形貌；触针轴，一端与所述触针连接，用于在所述触针测量微观形貌时跟随所述触针进行上下移动；磁恒力模块，与所述触针轴的另一端连接，用于调节所述触针与待测工件之间的测量力；触针轴气浮模块，环绕在所述触针轴外围，用于使所述触针轴悬浮；位移测量模块，设置在所述触针轴的正上方，用于测量所述触针轴在垂直方向上的位移。本发明通过触针轴气浮模块在触针轴外表面形成气隙，保证触针轴悬浮且摩擦最小，提高了触针测量的精度。通过磁恒力模块可调整触针与待测工件之间的测量力，以使触针将工件表面形貌更真实的传递给传感器。
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公开(公告)号：CN212158499U
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN202020564296.0
申请日：2020-04-16
申请人： 中国计量科学研究院
摘要： 本实用新型公开了一种垂直式表面粗糙度测头及表面粗糙度仪，垂直式表面粗糙度测头包括固定架、移动架、位移测量模块、针杆、触针和导向装置，移动架竖向滑动连接于固定架上，移动架上设置针杆，移动架的底板上设有导向装置，导向装置能够用于对针杆进行竖向导向以防止针杆摆动，针杆的底端固定设置有触针，针杆穿过导向装置，触针贯穿移动架的底板，位移测量模块用于测量针杆竖直方向上的移动距离；表面粗糙度仪包括架体、移动装置和上述的垂直式表面粗糙度测头。本实用新型中，触针与针杆在导向装置的作用下，测量过程中始终与工件表面垂直，操作简便、测量精准程度高。
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公开(公告)号：CN211696278U
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN202020562698.7
申请日：2020-04-16
申请人： 中国计量科学研究院
摘要： 本实用新型公开一种表面微观形貌测量传感器，用于测量待测工件表面的形貌，包括：触针，用于测量微观形貌；触针轴，一端与所述触针连接，用于在所述触针测量微观形貌时跟随所述触针进行上下移动；磁恒力模块，与所述触针轴的另一端连接，用于调节所述触针与待测工件之间的测量力；触针轴气浮模块，环绕在所述触针轴外围，用于使所述触针轴悬浮；位移测量模块，设置在所述触针轴的正上方，用于测量所述触针轴在垂直方向上的位移。本实用新型通过触针轴气浮模块在触针轴外表面形成气隙，保证触针轴悬浮且摩擦最小，提高了触针测量的精度。通过磁恒力模块可调整触针与待测工件之间的测量力，以使触针将工件表面形貌更真实的传递给传感器。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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