一种地下通道下穿迁改后箱涵的结构体系及施工方法

    公开(公告)号:CN111779023A

    公开(公告)日:2020-10-16

    申请号:CN202010518979.7

    申请日:2020-06-09

    Abstract: 本发明属于地下工程领域,具体涉及一种地下通道下穿迁改后箱涵的结构体系,包括迁改后箱涵、地下通道和局部盖挖支护结构,迁改后箱涵的正下方与地下通道相交处施做有局部盖挖支护结构,局部盖挖支护结构具有沿地下通道长度方向延伸的盖挖预留通道,地下通道从盖挖预留通道中穿过;其施工方法为:先在原箱涵的迁改设计位置的正下方与地下通道设计位置相交处施工局部盖挖支护结构;然后迁改原箱涵至迁改设计位置,迁改后箱涵经过局部盖挖支护结构的正上方;在后期施工地下通道时,在施做有局部盖挖支护结构的位置处,采用盖挖工法,对盖挖预留通道中的土方进行水平开挖,然后施工地下通道。本发明能够实现大型箱涵一次永久改迁,造价低,工期短。

    一种地下通道下穿迁改后箱涵的结构体系

    公开(公告)号:CN212452767U

    公开(公告)日:2021-02-02

    申请号:CN202021046114.7

    申请日:2020-06-09

    Abstract: 本实用新型属于地下工程领域,具体涉及一种地下通道下穿迁改后箱涵的结构体系,包括迁改后箱涵、地下通道和局部盖挖支护结构,所述迁改后箱涵的正下方与所述地下通道相交处施做有局部盖挖支护结构,所述局部盖挖支护结构内具有沿所述地下通道长度方向延伸的盖挖预留通道,所述地下通道从所述盖挖预留通道中穿过。本实用新型先施工局部盖挖支护结构,为后期施工地下通道提供盖挖条件,再将原箱涵迁改至设计位置,后期施工地下通道时,可不再从地面明挖,直接对迁改后箱涵下方的局部盖挖支护结构内的盖挖预留通道中的土方进行水平开挖,在盖挖预留通道内施工地下通道,使地下通道下穿迁改后箱涵,能够实现大型箱涵一次永久改迁,造价低,工期短。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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