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    面内切换型液晶显示装置用阵列基板的制造方法
    2.
    发明授权
    面内切换型液晶显示装置用阵列基板的制造方法 失效

    公开(公告)号：CN100476529C

    公开(公告)日：2009-04-08

    申请号：CN200610169494.1

    申请日：2006-12-15

    申请人： 乐金显示有限公司

    发明人： 朴相旭 ,  林柄昊

    IPC分类号： G02F1/133 ,  G02F1/1362 ,  H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G02F1/134363 ,  G02F1/1362

    摘要： 本发明提供了一种面内切换型液晶显示装置用阵列基板的制造方法，该制造方法包括以下步骤：利用透明材料层和不透明材料层的双层在基板上形成公共电极，该公共电极包括第一透明导电材料；在基板上形成选通线、栅极以及公共线，栅极连接选通线，公共线接触公共电极；在选通线、栅极以及公共线上形成栅绝缘层；以位于栅极上方的方式在栅绝缘层上形成有源层和欧姆接触层；在欧姆接触层上形成源极和漏极，并且形成连接至源极的数据线，源极和漏极彼此隔开；在源极和漏极以及数据线上形成钝化层，钝化层包括暴露漏极的漏极接触孔；以及在钝化层上形成像素电极，像素电极包括第二透明导电材料，并且与公共电极相交替。

    能够减小漏电流的液晶显示装置及其制造方法
    3.
    发明授权
    能够减小漏电流的液晶显示装置及其制造方法 失效

    公开(公告)号：CN100454122C

    公开(公告)日：2009-01-21

    申请号：CN200610094700.7

    申请日：2006-06-26

    申请人： 乐金显示有限公司

    发明人： 林柄昊

    IPC分类号： G02F1/136 ,  G02F1/1333 ,  H01L21/00

    CPC分类号： H01L27/124 ,  G02F1/136209 ,  H01L29/42384

    摘要： 能够减小漏电流的液晶显示装置及其制造方法。本发明公开了一种能够通过减小背光所引起的漏电流而提高图像质量的液晶显示装置，以及该液晶显示装置的制造方法。该液晶显示装置包括：第一和第二基板；以第一方向排列在第一基板上的多条选通线；与选通线相连的栅极；通过与选通线垂直交叉而限定多个像素的多条数据线；形成在栅极上并与数据线分隔开预定间隔的源极和漏极；形成在像素区中并与漏极电连接的像素电极；用于将数据线电连接至源极的连接图案；布置在栅极与源/漏极之间的半导体层；以及形成在第一基板与第二基板之间的液晶层。

    液晶显示装置的阵列基板及其制造方法
    4.
    发明授权
    液晶显示装置的阵列基板及其制造方法 失效

    公开(公告)号：CN101191967B

    公开(公告)日：2012-06-06

    申请号：CN200710126907.2

    申请日：2007-06-29

    申请人： 乐金显示有限公司

    发明人： 林周洙 ,  金孝昱 ,  郭喜荣 ,  洪玄硕 ,  安炳喆 ,  林柄昊

    IPC分类号： G02F1/1362 ,  H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/00

    摘要： 本发明提供液晶显示装置的阵列基板及其制造方法。液晶显示装置的阵列基板包括：基板；所述基板上的选通线；薄膜晶体管，该薄膜晶体管包括所述选通线的栅极、所述栅极上方的栅绝缘层、所述栅绝缘层上的有源层和所述有源层上的欧姆接触层、以及所述欧姆接触层上方的源极和漏极；电连接到所述漏极的像素电极；电连接到所述源极并与所述选通线交叉的数据线；与所述像素电极间隔开的公共电极；以及直接位于所述像素电极与所述公共电极之间以及直接位于所述源极与所述漏极之间的钝化层。

    透射反射式液晶显示器件及其制造方法
    5.
    发明授权
    透射反射式液晶显示器件及其制造方法 失效

    公开(公告)号：CN100592500C

    公开(公告)日：2010-02-24

    申请号：CN200710302369.8

    申请日：2007-12-25

    申请人： 乐金显示有限公司

    发明人： 金东瑛 ,  林柄昊

    IPC分类号： H01L21/84 ,  H01L21/50 ,  H01L27/12 ,  H01L23/522 ,  G02F1/1343 ,  G02F1/1333

    CPC分类号： G02F1/13439 ,  G02F1/133371 ,  G02F1/133555 ,  G02F1/13458 ,  G02F2001/136236

    摘要： 一种透射反射式液晶显示器件，包括：划分成像素部及第一和第二焊盘部的第一基板；在第一基板的像素部上形成的栅极和栅线；在第一基板上形成的第一绝缘膜；在栅极的顶部形成为岛状的、并具有比栅极小的宽度的有源图案；在第一基板上和在有源图案的源区和漏区上形成的欧姆接触层和阻挡金属层；在第一基板的像素部上形成的、并经由欧姆接触层和阻挡金属层与有源图案的源区和漏区电连接的源极和漏极；在第一基板的像素部上形成的、并与栅线交叉以限定包含反射部分和透射部分的像素区的数据线；在像素区的透射部分上形成的、并与漏极电连接的像素电极；在源极、漏极和数据线的底部上形成的并由形成像素电极的导电膜形成的源极图案、漏极图案和数据线图案；在像素区的反射部分形成的、并与漏极和像素电极电连接的反射电极；暴露出像素区的像素电极的第二绝缘膜；以及以面对的方式粘接在第一基板上的第二基板。

    液晶显示设备及其制造方法
    8.
    发明授权
    液晶显示设备及其制造方法 失效

    公开(公告)号：CN100440016C

    公开(公告)日：2008-12-03

    申请号：CN200510135624.5

    申请日：2005-12-27

    申请人： 乐金显示有限公司

    发明人： 林柄昊

    IPC分类号： G02F1/136 ,  G02F1/1333 ,  H01L29/786 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G02F1/134363 ,  G02F1/136213 ,  G02F2001/136231 ,  G02F2001/136236

    摘要： 液晶显示设备及其制造方法。一种液晶显示设备，包括：彼此交叉排列的选通线、第一数据线和第二数据线，由此限定单元像素区；薄膜晶体管，置于选通线、第一数据线和第二数据线相交叉的区域处，并且在露出的沟道层上具有钝化层；公共线，平行于所述选通线设置；与所述公共线一体形成的第一存储电极，用来在所述单元像素区中形成存储电容；第二存储电极，设置为与所述第一存储电极相交叠；从所述第一存储电极分支出并置于所述单元像素区中的多个公共电极；以及从所述第二存储电极分支出并与所述多个公共电极交替设置的多个像素电极。

    液晶显示器件及其制造方法
    9.
    发明授权
    液晶显示器件及其制造方法 有权

    公开(公告)号：CN100407027C

    公开(公告)日：2008-07-30

    申请号：CN200510080180.X

    申请日：2005-06-30

    申请人： 乐金显示有限公司

    发明人： 安炳喆 ,  林柄昊 ,  安宰俊

    IPC分类号： G02F1/136 ,  G02F1/133 ,  G09F9/35 ,  H01L29/786 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G02F1/136227 ,  G02F2001/136231 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288

    摘要： 本发明公开了一种液晶显示器件及其简化制造工艺的制造方法。该液晶显示器件包括：第一和第二基板；在第一基板上的栅线；在第一基板上的栅绝缘膜；与栅线交叉以限定像素区的数据线；位于像素区的像素孔；在像素区的像素孔中位于栅绝缘膜上由透明导电层形成的像素电极；包括栅极、源极、漏极和半导体层的薄膜晶体管，该半导体层具有有源层和形成为暴露所述有源层一部分的欧姆接触层；以及通过氧化所述暴露的有源层而形成的氧化的表面层，其中半导体层与包括数据线、源极和漏极的源/漏金属图案重叠；所述漏极从半导体层向像素电极的上部突出，并且该漏极连接到像素电极；以及将与透明导电层重叠部分的半导体层去除。

    液晶显示器件及其制造方法
    10.
    发明授权
    液晶显示器件及其制造方法 失效

    公开(公告)号：CN101587272B

    公开(公告)日：2012-04-04

    申请号：CN200810189424.1

    申请日：2008-12-24

    申请人： 乐金显示有限公司

    发明人： 林京男 ,  林柄昊 ,  金焕

    IPC分类号： G02F1/1362 ,  H01L21/84

    CPC分类号： G02F1/1368 ,  G02F2001/136231 ,  G02F2001/136236 ,  G02F2001/13625

    摘要： 本发明披露了一种液晶显示器及其制造方法。通过使用半色调掩模有选择地将感光膜图案进行构图，然后有选择地去除像素区域处钝化层的一部分，以获得剥离液的渗入路径。此外，通过一定的热处理在感光膜图案上所形成的导电膜上产生裂缝，便于剥离工艺。因此，能减少掩模次数，从而简化制造过程，并降低制造成本。通过使钝化层掩模采用半色调，可使用常规的四次掩模工序，因为通过热处理在导电膜上形成裂缝，因此在剥离液的渗入路径处易于执行剥离工艺。