吸附装置及巨量转移设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118676045A

    公开(公告)日:2024-09-20

    申请号:CN202310265602.9

    申请日:2023-03-14

    摘要: 本申请公开了一种吸附装置及巨量转移设备,涉及显示技术领域。该吸附装置中的压电陶瓷电机能够驱动吸附组件以带动吸附组件吸附的第一基板在直线方向上移动,进而实现对第一基板的位置的定位。并且,吸附装置中的弧形电机能够驱动吸附组件以带动吸附组件吸附的第一基板在圆周方向上移动,进而实现对第一基板的角度的定位。在位置定位以及角度定位完成后,即可将第一基板的多个发光单元转印至第二基板上,以和第二基板的像素电路连接。由于压电陶瓷电机以及弧形电机的精度都较高,因此可以使得第一基板的位置精度和角度精度均较高,进而使得第一基板的发光单元的转印精度较高,提高显示面板的显示效果。

    一种基板的固定装置及发光二极管转移方法

    公开(公告)号:CN118571822A

    公开(公告)日:2024-08-30

    申请号:CN202310183909.4

    申请日:2023-02-28

    摘要: 本发明公开一种基板的固定装置及发光二极管的转移方法,该固定装置包括载台,包括用于承载目标基板的承载面,以及位于所述承载面相对两侧的支撑侧壁,所述承载面上开设有多个用于真空吸附目标载板的气孔;固定杆,所述固定杆的数量为多个,多个固定杆相互平行设置,并且与支撑侧壁可拆卸地连接,固定杆和载台之间包括用于放置目标基板的空隙;固定杆包括杆体和位于杆体的夹持机构,夹持机构被配置为能够与所述承载面产生相对位移,用于对目标基板和位于目标基板远离载台一侧的供体基板共同施加作用力。本发明的固定装置通过夹持机构对供体基板施加作用力,从而将供体基板压紧固定于目标基板表面,确保二者不会发生相对移动。

    一种光路准直调节装置、调节方法及激光加工设备

    公开(公告)号:CN118492607A

    公开(公告)日:2024-08-16

    申请号:CN202310140950.3

    申请日:2023-02-16

    IPC分类号: B23K26/04 B23K26/042

    摘要: 本申请提供一种光路准直调节装置、调节方法及激光加工设备,装置包括支架、连接架、出光镜盖和观测板。支架用于支撑光路中的扩束镜或缩束镜。连接架的第一端与支架可拆卸连接,第二端与扩束镜或缩束镜入射端可拆卸连接,连接架具有第一通孔及可拆卸连接的第一挡光十字架,第一挡光十字架能平分第一通孔。出光镜盖安装于扩束镜或缩束镜的出射端,包括第二通孔和第二挡光十字架,第二挡光十字架能够平分第二通孔。第一通孔和第二通孔为同心孔。观测板与扩束镜或缩束镜沿第一方向间隔设置,光束通过第一通孔进入扩束镜或缩束镜,经过第二通孔投射至观测板上并形成具有双挡光十字架投影的光斑,光斑的中心和双挡光十字架的中心在观测板上的投影重合。

    多坐标系标定与设备对位方法、巨量转移设备

    公开(公告)号:CN118451559A

    公开(公告)日:2024-08-06

    申请号:CN202280003991.1

    申请日:2022-11-02

    IPC分类号: H01L33/00 H01L21/68

    摘要: 一种多坐标系标定与设备对位方法,包括:通过中载基板运载台与视觉手眼标定,确定中载基板运载台的第一图像像素坐标系与世界坐标系的第一映射关系(S1);通过背板运载台与视觉手眼标定,确定背板运载台的第二图像像素坐标系与世界坐标系的第二映射关系(S2);确定激光器的振镜起始点位于世界坐标系下的振镜起始点坐标(S3);利用第一映射关系和振镜起始点坐标,获取中载基板在世界坐标系的第一模板标定坐标(S4);利用第二映射关系和振镜起始点坐标,获取背板在世界坐标系的第二模板标定坐标(S5);在巨量转移制程中,基于中载基板运载台的实际坐标和第一模板标定坐标,对中载基板进行对位(S6);在巨量转移制程中,基于背板运载台的实际坐标和第二模板标定坐标,对背板进行对位(S7)。

    用于MicroLED巨量转移的加工控制系统和方法

    公开(公告)号:CN118492610A

    公开(公告)日:2024-08-16

    申请号:CN202310158763.8

    申请日:2023-02-15

    摘要: 本发明公开一种用于MicroLED巨量转移的加工控制系统和方法。其中一实施例的所述控制系统包括:加工控制器用于根据扫描信息生成待加工的MicroLED基板的加工信息,加工信息包括异常LED的异常坐标信息和所述异常坐标信息对应于异常脉冲信息;振镜控制器用于根据加工信息输出控制振镜移动的移动控制信号,以及根据加工信息向脉冲处理模块输出第一电脉冲信号;脉冲处理模块用于对第一电脉冲信号进行处理生成第二电脉冲信号;激光调整输出模块用于根据第二电脉冲信号或第一电脉冲信号输出激光脉冲控制信号,激光脉冲控制信号包括对每个LED进行加工的激光工作点信息以及对应于异常LED的激光延迟脉宽信息。

    器件转移基板及其制备方法、器件转移方法

    公开(公告)号:CN115172246A

    公开(公告)日:2022-10-11

    申请号:CN202210161282.8

    申请日:2022-02-22

    摘要: 本申请提供了一种器件转移基板及其制备方法、器件转移方法,所述器件转移基板中,多个支撑单元间隔设置于所述第一衬底基板上方;其中,每个支撑单元包括支撑柱和设置于所述支撑柱远离所述第一衬底基板的一侧的连接部,以及与所述连接部连接的延伸部;多个元器件设置于所述延伸部远离所述第一衬底基板的一侧。在之后的器件转移过程中,在所述第三衬底基板和所述器件转移基板进行对位压合时,所述支撑单元的悬空部分(即上述延伸部)在所述元器件的压合作用下会发生断裂,与对应的所述连接部相断开,从而将所述元器件转移至所述第三衬底基板上。无需不成熟的激光加工,通过基板之间的压合作用就可以实现元器件的转移,可以大大提升工艺良率。

    显示面板的修复方法、修复装置和修复系统

    公开(公告)号:CN114664996A

    公开(公告)日:2022-06-24

    申请号:CN202210238366.7

    申请日:2022-03-11

    IPC分类号: H01L33/48 H01L21/67

    摘要: 本公开实施例提供一种显示面板的修复方法、修复装置和修复系统。修复装置,包括:加热模块,包括加热本体和加热探头,加热探头与加热本体连接,加热模块被配置为在施加加热电压的情况下被加热,加热探头被配置为与目标物体接触并对目标物体进行加热;拾取模块,包括拾取本体和拾取探头,拾取探头与拾取本体电连接,拾取本体被配置为在施加拾取电压的情况下,使得拾取探头的端部产生电荷,拾取探头被配置为在电荷的作用下吸取目标物体。采用该修复装置对显示面板进行修复,不会损伤其它位置的发光二极管芯片,并且,加热的能量远远小于高能量密度的激光能量,不会对衬底基板造成损伤,避免了显示面板失效,修复过程简单,提高了修复效率。

    用于进行电化学沉积的基板、基板载具、电化学沉积设备

    公开(公告)号:CN218951525U

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202221544385.4

    申请日:2022-06-20

    IPC分类号: C25D7/00 C25D17/06

    摘要: 本公开提供一种用于进行电化学沉积的基板,包括:衬底,包括待成膜区和位于所述待成膜区周围的周边区;种子层,位于所述衬底的待成膜区;导电层,包括:第一导电部和第二导电部,所述第一导电部设置在所述种子层的边缘位置,并与所述种子层电连接;所述第二导电部位于所述周边区,并用于与所述第一导电部、基板载具的通电结构电连接;绝缘层,位于所述导电层远离所述衬底的一侧,且所述绝缘层在所述衬底上的正投影覆盖所述第一导电部在所述衬底上的正投影。本公开还提供一种基板载具和电化学沉积设备。