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公开(公告)号：CN111987131B
公开(公告)日：2023-01-20
申请号：CN202010901683.3
申请日：2020-08-31
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H10K59/10 , H10K59/65 , H10K59/121 , H10K71/00 , H10K50/856
摘要： 本发明提供了一种显示面板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域。本发明通过在基底的第一侧上设置多个像素单元和多个纹路识别单元，在基底的第二侧上设置多个发光单元，每个发光单元包括多个微LED器件以及与每个微LED器件连接的发光驱动电路；微LED器件在发光驱动电路的驱动下向待检测物体提供入射光线，纹路识别单元接收待检测物体反射回来的反射光线，以识别待检测物体的纹路图像。通过在显示面板中增加微LED器件，由于微LED器件发出的入射光线的亮度较高，微LED器件发出的入射光线经待检测物体反射后的反射光线的亮度也较高，则纹路识别单元生成的光电流也较大，从而提高了识别到的待检测物体的纹路图像的信噪比。
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公开(公告)号：CN111736427B
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN202010618823.6
申请日：2020-06-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 提供一种显示基板及其制备方法、曝光对位方法，该显示基板包括衬底以及设置在所述衬底上的低反射膜层，所述低反射膜层包括设置于所述衬底之上的晶体基底以及形成于所述晶体基底上的多个棱锥微结构，所述棱锥微结构的外表面形成有多个微孔。
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公开(公告)号：CN114551166A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202210162889.8
申请日：2022-02-22
申请人： 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本公开提供一种微机电系统开关及其制备方法，属于射频开关技术领域。本公开的微机电系统开关包括衬底基板；膜桥，其包括与衬底基板相对设置的第一桥体，以及设置在衬底基板上用于支撑第一桥体的至少一个连接臂；驱动电极，设置在第一桥体靠近衬底基板的一侧，且与第一桥体之间存在一定的空间；第一绝缘层，至少覆盖驱动电极靠近第一桥体的表面；辅助功能结构，至少设置在第一桥体上，且辅助功能结构的弹性模量大于第一桥体的弹性模量。
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公开(公告)号：CN111564506B
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202010431731.7
申请日：2020-05-20
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L31/0216 , H01L23/552 , H01L27/144 , H01L21/82 , H01L27/32
摘要： 一种光敏传感器，包括：基底，基底具有传感区域，传感区域内设置有规则排布的多个传感单元，传感单元远离基底的一侧设置有屏蔽层，屏蔽层覆盖传感区域，屏蔽层的材料为透明导电材料，屏蔽层连接恒压信号端。本公开还提供光敏传感器的制备方法及电子设备。
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公开(公告)号：CN114121929A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202111331487.8
申请日：2021-11-11
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
摘要： 本公开提供一种集成有无源器件的基板及其制备方法，属于射频器件技术领域。本公开提供了一种集成有无源器件的基板的制备方法，其包括：提供一介质层，介质层包括沿其厚度方向相对设置的第一表面和第二表面，介质层上具有沿其厚度方向贯穿的第一连接过孔。在第一连接过孔内形成第一转接电极，分别在介质层的第一表面和第二表面集成子电路，子电路至少包括无源器件，第一转接电极将位于第一表面的子电路和位于第二表面的子电路电连接。
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公开(公告)号：CN114070222A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202111371683.8
申请日：2021-11-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
摘要： 本公开提供一种滤波器及其制备方法，属于射频器件技术领域。本公开提供一种滤波器，其包括叠层设置的第一基板和第二基板。其中，第一基板包括第一介质基板，以及集成在第一介质基板上的滤波电路。第二基板包括第二介质基板，第二介质基板包括沿其厚度方向相对设置的第一表面和第二表面，在第一表面上设置有转接电路。转接电路与滤波电路电连接，第二介质基板上设置有在其厚度方向上贯穿的第一连接过孔，在第一连接过孔中设置信号引入电极，在第二表面上设置有第一连接端，信号引入电极一端与第一连接端电连接，另一端与转接电路电连接。
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公开(公告)号：CN113238420A
公开(公告)日：2021-08-10
申请号：CN202110570655.2
申请日：2021-05-25
申请人： 北京京东方传感技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/137 , G02F1/133 , G02F1/1333 , G02F1/1335
摘要： 本发明提供一种光脉冲调制器、光脉冲调制系统及光脉冲调制方法，属于显示技术领域，其可解决现有的光脉冲调制过程复杂问题。本发明的光脉冲调制器通过在液晶层中掺杂离子，并利用驱动电路在液晶层形成外加电场，在外加电场的作用下，离子呈游离态，可以提高液晶层内游离离子的浓度。游离离子产生内建电场，由此导致残压的产生，相应改变用于驱动液晶层内液晶分子偏转的有效电场；方波驱动电压小于阈值电压，在有效电场作用下，触发液晶分子在向列相状态和紊乱态之间切换，在切换过程中，与液晶分子的宾主结构适配的掺杂粒子跟随液晶分子偏转，改变对入射光的吸收或反射，从而形成光脉冲，实现光脉冲调制。
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公开(公告)号：CN112103322A
公开(公告)日：2020-12-18
申请号：CN202011002096.7
申请日：2020-09-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明涉及显示技术领域，提出一种显示面板及其制备方法、显示装置。该显示面板阵列基板、平坦化层组以及多个子像素；阵列基板包括由多个开关单元形成的开关阵列；平坦化层组设于阵列基板之上，平坦化层组上设置有多个纳米级的凹槽；多个子像素设于平坦化层组的远离阵列基板的一侧，子像素包括多个第一电极，第一电极连接至阵列基板的开关单元，相邻两个第一电极之间设置有纳米级的第二间隙，第二间隙在阵列基板上的正投影位于凹槽在阵列基板上的正投影内。该显示面板可以避免产生摩尔纹异常，而且第二电极不容易断裂。
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公开(公告)号：CN111736427A
公开(公告)日：2020-10-02
申请号：CN202010618823.6
申请日：2020-06-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 提供一种显示基板及其制备方法、曝光对位方法，该显示基板包括衬底以及设置在所述衬底上的低反射膜层，所述低反射膜层包括设置于所述衬底之上的晶体基底以及形成于所述晶体基底上的多个棱锥微结构，所述棱锥微结构的外表面形成有多个微孔。
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公开(公告)号：CN111564506A
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN202010431731.7
申请日：2020-05-20
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L31/0216 , H01L23/552 , H01L27/144 , H01L21/82 , H01L27/32
摘要： 一种光敏传感器，包括：基底，基底具有传感区域，传感区域内设置有规则排布的多个传感单元，传感单元远离基底的一侧设置有屏蔽层，屏蔽层覆盖传感区域，屏蔽层的材料为透明导电材料，屏蔽层连接恒压信号端。本公开还提供光敏传感器的制备方法及电子设备。
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