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公开(公告)号：CN105206619B
公开(公告)日：2018-03-30
申请号：CN201510536802.9
申请日：2015-08-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L27/12
CPC分类号： G02F1/1368 , G02F1/134363 , G02F1/13439 , G02F1/1362 , G02F1/136227 , G02F2001/136222 , G02F2201/121 , G02F2201/123 , G02F2201/124
摘要： 本发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，以解决现技术制备的阵列基板中，平行于衬底基板的半透明金属膜层构成的像素电极和公共电极使背光透过率降低，影响TFT–LCD的亮度的问题。所述阵列基板，包括衬底基板，设置于所述衬底基板的上表面的若干像素单元，所述像素单元呈阵列排布于所述衬底基板上；所述衬底基板上形成有对应每一所述像素单元的第一电极槽和第二电极槽，所述第一电极槽和所述第二电极槽由所述上表面向所述衬底基板的下表面延伸；所述像素单元包括像素电极和公共电极，所述像素电极形成于所述第一电极槽内，所述公共电极形成于所述第二电极槽内。
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公开(公告)号：CN105206619A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201510536802.9
申请日：2015-08-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L27/12
CPC分类号： G02F1/1368 , G02F1/134363 , G02F1/13439 , G02F1/1362 , G02F1/136227 , G02F2001/136222 , G02F2201/121 , G02F2201/123 , G02F2201/124
摘要： 本发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，以解决现技术制备的阵列基板中，平行于衬底基板的半透明金属膜层构成的像素电极和公共电极使背光透过率降低，影响TFT–LCD的亮度的问题。所述阵列基板，包括衬底基板，设置于所述衬底基板的上表面的若干像素单元，所述像素单元呈阵列排布于所述衬底基板上；所述衬底基板上形成有对应每一所述像素单元的第一电极槽和第二电极槽，所述第一电极槽和所述第二电极槽由所述上表面向所述衬底基板的下表面延伸；所述像素单元包括像素电极和公共电极，所述像素电极形成于所述第一电极槽内，所述公共电极形成于所述第二电极槽内。
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公开(公告)号：CN109031794B
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN201811257545.5
申请日：2018-10-26
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/13357 , G02B5/08 , G02B1/10 , G02B1/14
摘要： 本发明属于显示技术领域，具体涉及一种反射片、背光模组、显示装置。该反射片包括金属反射层以及设置于所述金属反射层一侧的静电吸附防止层，所述静电吸附防止层用于防止因所述反射片产生与所述反射片相接触的光学膜材电性相反的静电电荷导致的吸附效应。该反射片通过增加静电吸附防止层，从而减小或消除对与反射片相接触的光学膜材电性相反的静电电荷导致的吸附效应；进一步的，该反射片在使用前去除位于上表面的保护膜时可带静电，而对于与该反射片相对使用的导光板表面的静电同性，两者组装后出现同性排斥，避免表面间的相互吸附；该反射片应用于背光模组中可有效保证光源效果，进而消除水渍现象画面可视不良，保证显示装置的显示效果。
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公开(公告)号：CN109031794A
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201811257545.5
申请日：2018-10-26
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/13357 , G02B5/08 , G02B1/10 , G02B1/14
CPC分类号： G02F1/133605 , G02B1/10 , G02B1/14 , G02B5/0808
摘要： 本发明属于显示技术领域，具体涉及一种反射片、背光模组、显示装置。该反射片包括金属反射层以及设置于所述金属反射层一侧的静电吸附防止层，所述静电吸附防止层用于防止因所述反射片产生与所述反射片相接触的光学膜材电性相反的静电电荷导致的吸附效应。该反射片通过增加静电吸附防止层，从而减小或消除对与反射片相接触的光学膜材电性相反的静电电荷导致的吸附效应；进一步的，该反射片在使用前去除位于上表面的保护膜时可带静电，而对于与该反射片相对使用的导光板表面的静电同性，两者组装后出现同性排斥，避免表面间的相互吸附；该反射片应用于背光模组中可有效保证光源效果，进而消除水渍现象画面可视不良，保证显示装置的显示效果。
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公开(公告)号：CN109497985A
公开(公告)日：2019-03-22
申请号：CN201910016449.X
申请日：2019-01-03
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本公开提供了一种胎心监测装置及系统，所述胎心监测装置包括胎心监测传感器和用于承载所述胎心监测传感器的承载构件，所述胎心监测传感器为数个，被配置为感测多点的胎心信号；所述胎心监测装置还包括微控制器，所述微控制器也承载在所述承载构件上，且被配置为：从所述数个胎心监测传感器接收多点的胎心信号，以根据多点的胎心信号确定胎儿状态和胎心位置中的至少一种。本公开所提供的胎心监测装置及系统能够快速准确的确认胎心位置和胎儿状态，并在检测到胎儿处于睡眠状态时自动产生声波振动唤醒胎儿，用户能够自行操作，大大提高了测试效率，减轻了孕妇压力，并且该装置无需连接外部线路，孕妇在胎心监测过程中可自由移动，方便快捷。
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公开(公告)号：CN103695860A
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN201310753412.8
申请日：2013-12-31
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明公开的真空反应腔以及真空加工设备，其中，本发明的真空反应腔，包括多个壁板，多个壁板中至少一个壁板上设置有观察装置，观察装置包括设置于壁板上的观察窗以及用于遮挡观察窗的遮挡板，遮挡板可在遮挡观察窗的第一位置以及不遮挡观察窗的第二位置之间运动。本发明的真空加工设备，包括本发明的真空反应腔。本发明的真空反应腔以及本发明的真空加工设备，遮挡板既保护观察窗，还有效遮挡观察窗四周的壁板。本发明的真空反应腔以及本发明的真空加工设备可以有效保护观察窗，延长其寿命，并有效保证观测效果；同时遮挡板也保护了观察窗四周的壁板——即壁板上的最易被刻蚀区域，使得壁板整体寿命延长，减少高频维护的费用和人力损失。
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公开(公告)号：CN103695860B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201310753412.8
申请日：2013-12-31
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明公开的真空反应腔以及真空加工设备，其中，本发明的真空反应腔，包括多个壁板，多个壁板中至少一个壁板上设置有观察装置，观察装置包括设置于壁板上的观察窗以及用于遮挡观察窗的遮挡板，遮挡板可在遮挡观察窗的第一位置以及不遮挡观察窗的第二位置之间运动。本发明的真空加工设备，包括本发明的真空反应腔。本发明的真空反应腔以及本发明的真空加工设备，遮挡板既保护观察窗，还有效遮挡观察窗四周的壁板。本发明的真空反应腔以及本发明的真空加工设备可以有效保护观察窗，延长其寿命，并有效保证观测效果；同时遮挡板也保护了观察窗四周的壁板——即壁板上的最易被刻蚀区域，使得壁板整体寿命延长，减少高频维护的费用和人力损失。
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公开(公告)号：CN209044237U
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201821746083.9
申请日：2018-10-26
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/13357 , G02B5/08 , G02B1/10 , G02B1/14
摘要： 本实用新型属于显示技术领域，具体涉及一种反射片、背光模组、显示装置。该反射片包括金属反射层以及设置于所述金属反射层一侧的静电吸附防止层，所述静电吸附防止层用于防止因所述反射片产生与所述反射片相接触的光学膜材电性相反的静电电荷导致的吸附效应。该反射片通过增加静电吸附防止层，从而减小或消除对与反射片相接触的光学膜材电性相反的静电电荷导致的吸附效应；进一步的，该反射片在使用前去除位于上表面的保护膜时可带静电，而对于与该反射片相对使用的导光板表面的静电同性，两者组装后出现同性排斥，避免表面间的相互吸附；该反射片应用于背光模组中可有效保证光源效果，进而消除水渍现象画面可视不良，保证显示装置的显示效果。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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