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公开(公告)号：CN106499873B
公开(公告)日：2019-03-12
申请号：CN201710022669.4
申请日：2017-01-12
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： F16K51/02
摘要： 本发明涉及真空反应装置技术领域，公开一种真空阀门及真空设备，其中，真空阀门用于连接于真空设备中相互邻接且贯通的两个真空腔室之间；该真空阀门包括：呈方形设置的密封壳体，壳体相对的两个侧壁上分别设有门型开口，两个门型开口相对设置；位于壳体内的门体，该门体可分别与两个门型开口开关配合；传动模块，用于：驱动门体在两个侧壁之间水平移动、以实现门体在两个门型开口之间的切换；以及，驱动门体沿侧壁的延展方向运动、以实现门体与侧壁上的门型开口之间的开关配合。上述真空阀门中，在对一侧门型开口的密封圈进行清理和更换操作时，不会影响另一侧门型开口所连通的真空腔室的工作；因此，该真空阀门可以提高真空设备的稼动率。
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公开(公告)号：CN107572152B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201710841455.X
申请日：2017-09-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： B65D90/00
摘要： 本发明提供一种液体存储装置，包括：箱体，所述箱体具有第一腔体，所述第一腔体用于存储作业液体；设置在所述箱体外部的驱动部；设置在所述箱体内部的清洗刷；所述清洗刷具有磁性，所述驱动部用于产生驱动所述清洗刷对所述第一腔体的内壁进行清洗的磁力；处理器，用于在需要对所述第一腔体清洗时，控制所述驱动部工作。本发明实施例提供的液体存储装置能够通过磁力驱动内部清洗刷对存储作业液体的腔体进行清洗，由于不需要人工操作，因此特别适合应用在操作空间狭小的设备上，具有很高的实用性。
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公开(公告)号：CN104393053B
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201410796010.0
申请日：2014-12-19
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L29/786 , H01L27/02 , H01L21/336 , G02F1/1333
摘要： 薄膜晶体管及其制作方法，薄膜晶体管组件、阵列基板及显示装置，一种薄膜晶体管，包括：基板；设置在基板上的栅极、栅极绝缘部、半导体部、源极和漏极，半导体部与栅极之间利用栅极绝缘部隔开，源极和漏极与半导体部连接，其中：栅极和半导体部在基板上的投影彼此不重叠。栅极、栅极绝缘部、半导体部、源极和漏极可同层布置。或者，栅极绝缘部的一部分设置在半导体部和源、漏极所在层与基板之间；且栅极直接设置在基板上。或者，半导体部和源、漏极同层直接布置在基板上；且栅极绝缘部的一部分设置在栅极所在层与基板之间。
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公开(公告)号：CN107020285A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201710258646.3
申请日：2017-04-19
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种超声波清洗装置及基板处理系统，涉及显示技术领域，该超声波清洗装置对基板的吹扫清洁效率高，并且当该清洗装置具体应用于基板处理系统中时，可以显著提高进入处理装置内的基板的表面清洁度，避免基板表面经过处理后产生大量杂质残留。该超声波清洗装置包括，吹气单元，用于向待清洗的物体表面喷出气流；超声波振荡发生器，用于使从吹气单元中喷出的气流发生振荡；抽气单元，用于收集从待清洗的物体表面吹扫出的杂质。
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公开(公告)号：CN104362116B
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：CN201410616083.7
申请日：2014-11-04
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种气悬浮式下部电极及干法刻蚀装置。该下部电极包括下部电极本体、下部电极控制器及至少一对压力传感器，将至少一对压力传感器设置在下部电极本体靠边的位置，每对的两个压力传感器由内向外依次设置，根据压力传感器测得的压力值，下部电极控制器控制冷却气体通孔的气体流量，进而使玻璃基板在刻蚀时与下部电极可保持悬浮，从而真正做到蚀刻不良的零发生，玻璃基板受热均匀，也间接地提高刻蚀时的均一性和刻蚀质量；也避免了因下部电极本体磨损造成的玻璃基板与下部电极本体粘附力增大的问题出现，进而也不会造成玻璃破损。
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公开(公告)号：CN106345623A
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：CN201610829242.0
申请日：2016-09-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
CPC分类号： B05B1/326 , B05B1/005 , B05B1/044 , B05B1/267 , B05C5/0262 , B05B1/04 , B05B1/30 , B05B12/085 , B05B15/70
摘要： 本发明公开了一种气液刀和气液刀的控制方法，属于机械设备领域。气液刀包括：腔体和刀头，刀头设置在腔体上；刀头设置有喷射口，喷射口与腔体的内部连通；刀头包括第一刀唇和第二刀唇；腔体由滑动连接的第一壁板和第二壁板构成，第一壁板相对第二壁板滑动时，带动第一刀唇相对第二刀唇移动，并改变第一内壁与第二内壁的最小距离。本发明通过两个刀唇的内壁来形成喷射口，且使这两个刀唇能够发生相对移动来改变两个刀唇的内壁的最小距离，解决了相关技术中通过贴覆垫片来调节喷射口的宽度时，会由于垫片厚度上存在误差以及贴覆时的紧密程度造成喷射口宽度的误差较大的问题，达到了喷射口的宽度的调节误差较低的效果。
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公开(公告)号：CN102966828B
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201210434443.2
申请日：2012-11-02
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明涉及一种机械装置的注油设备，特别是一种新式定量型电动油枪,所述油枪腔体内设有电动马达和注油活塞，所述电动马达通过齿轮传动机构使注油活塞在所述油枪腔体内做直线运动，从而将油枪腔体内的油剂推向油枪注油端口。本发明所涉及的电动油枪可以实现自动注油，注油过程平缓，减少了人为因素的对注油作业的影响；并通过流量计量器精确控制每次的注油量，保证了设备所需要的油量以及设备的运行稳定，且可以避免额外的浪费，有效的节约了成本。
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公开(公告)号：CN103700708A
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN201310710175.7
申请日：2013-12-19
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L29/786 , H01L27/12 , H01L21/77 , G09F9/33
CPC分类号： H01L27/1214 , H01L27/1259 , H01L27/127
摘要： 本发明公开了一种薄膜晶体管、其制作方法、阵列基板及显示装置，将薄膜晶体管的栅极、栅绝缘部件、有源部件和源漏极沿平行于衬底基板的水平方向设置在衬底基板上，而现有的薄膜晶体管是在衬底基板上依次层叠设置栅极、栅绝缘层、有源层和源漏极，本发明实施例提供的薄膜晶体管相当于将现有的薄膜晶体管以其在衬底基板上占用的区域中较短的边为中心轴旋转90°，这样，使薄膜晶体管在衬底基板上占用区域的横向宽度的数量级由10-6m减小至10-10m，由此减小了薄膜晶体管在衬底基板上所占用的非透光面积，从而增大了可透光面积，这样，在显示器件的开口率一定时提高显示器件的分辨率，在显示器件的分辨率一定时增大显示器件的开口率。
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公开(公告)号：CN107020285B
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201710258646.3
申请日：2017-04-19
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种超声波清洗装置及基板处理系统，涉及显示技术领域，该超声波清洗装置对基板的吹扫清洁效率高，并且当该清洗装置具体应用于基板处理系统中时，可以显著提高进入处理装置内的基板的表面清洁度，避免基板表面经过处理后产生大量杂质残留。该超声波清洗装置包括，吹气单元，用于向待清洗的物体表面喷出气流；超声波振荡发生器，用于使从吹气单元中喷出的气流发生振荡；抽气单元，用于收集从待清洗的物体表面吹扫出的杂质。
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公开(公告)号：CN106865232B
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201710295170.0
申请日：2017-04-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： B65G49/06
摘要： 本发明公开了一种传送装置，属于半导体加工技术领域。该传送装置包括转动件和至少一组传送轮，传送轮安装在转动件上，每组传送轮包括多个滚轮，每组传送轮包括多个滚轮，每组传送轮中的多个滚轮以转动件的转动轴线为中心圆周阵列分布，每组传送轮中的多个滚轮的转动轴线与转动件的转动轴线位于不同的平面，由于多个滚轮以转动件的转动轴线为中心线，围绕转动件呈圆周布置，因此在进行传送时，多个滚轮绕转动件的中心线公转，可以将玻璃基板沿传送线的方向传送。由于滚轮的转动轴线与转动件的中心线位于不同的平面上，因此推动玻璃基板在垂直于传送线方向上移动时，滚轮可以自转，减小了滚轮与玻璃基板的摩擦力，降低玻璃基板破损的可能。
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