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公开(公告)号：CN105712045B
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：CN201610270892.6
申请日：2016-04-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： B65G35/00
摘要： 本发明提供了一种传送设备，该传送设备用于传送基板，该传送设备包括传送通道、悬浮装置和动力装置；所述悬浮装置用于控制基板悬浮在所述传送通道中；所述动力装置用于在所述基板悬浮时对所述基板施加传送动力。本发明提供的传送设备，通过悬浮装置可以使基板在悬浮状态下被传送，从而可以在传送过程中减少基板与其他设备的直接接触，进而能够在传送过程中减少对基板造成的损坏，提高产品的良率。
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公开(公告)号：CN107199188B
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201710438885.7
申请日：2017-06-12
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
摘要： 一种涂布机、涂布系统及涂布机清洁方法。该涂布机包括机台和第一清洁装置。该机台包括工作面，该第一清洁装置配置为能够相对于工作面移动以清除工作面上的异物。该涂布系统包括上述涂布机和检测装置，该检测装置配置为对经上述涂布机涂布光刻胶后的基板进行缺陷检测，并且发送检测结果信号以用于控制所述涂布机的第一清洁装置的移动。该涂布机可实现利用第一清洁装置清洁工作面从而避免人员进入设备进行手动清洁。
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公开(公告)号：CN107199188A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201710438885.7
申请日：2017-06-12
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
摘要： 一种涂布机、涂布系统及涂布机清洁方法。该涂布机包括机台和第一清洁装置。该机台包括工作面，该第一清洁装置配置为能够相对于工作面移动以清除工作面上的异物。该涂布系统包括上述涂布机和检测装置，该检测装置配置为对经上述涂布机涂布光刻胶后的基板进行缺陷检测，并且发送检测结果信号以用于控制所述涂布机的第一清洁装置的移动。该涂布机可实现利用第一清洁装置清洁工作面从而避免人员进入设备进行手动清洁。
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公开(公告)号：CN105712045A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201610270892.6
申请日：2016-04-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： B65G35/00
CPC分类号： B65G35/00
摘要： 本发明提供了一种传送设备，该传送设备用于传送基板，该传送设备包括传送通道、悬浮装置和动力装置；所述悬浮装置用于控制基板悬浮在所述传送通道中；所述动力装置用于在所述基板悬浮时对所述基板施加传送动力。本发明提供的传送设备，通过悬浮装置可以使基板在悬浮状态下被传送，从而可以在传送过程中减少基板与其他设备的直接接触，进而能够在传送过程中减少对基板造成的损坏，提高产品的良率。
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公开(公告)号：CN106354298A
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：CN201610663653.7
申请日：2016-08-12
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G06F3/041
CPC分类号： G06F3/0412 , G06F2203/04103
摘要： 本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种白色边框的OGS触控屏及其制作方法、显示装置，用以解决现有技术中存在的白色边框的OGS爬坡较大而导致后续膜层发生断层的问题。具体地，通过在衬底基板与触控膜层图案之间增设透明平坦化层，使得位于边框区域的触控膜层图案至衬底基板之间的距离与位于显示区域的触控膜层图案至衬底基板之间的距离之差的绝对值小于白色边框的厚度，即利用透明平坦化层消减边框区域与显示区域之间的段差，从而，避免后续形成的触控膜层图案由于段差过大而发生断层、短路等，保证该触控面板的良好特性。
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公开(公告)号：CN105694042B
公开(公告)日：2021-04-13
申请号：CN201610266767.8
申请日：2016-04-26
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明属于显示技术领域，尤其涉及光扩散粉其制备方法、量子点光刻胶及量子点彩膜。本发明的光扩散粉制备方法为：烷氧基硅烷在酸性条件或碱性条件下进行共水解缩合反应，得到光扩散粉。本发明还公开了由所述光扩散粉制成的量子点光刻胶及量子点彩膜。所述光扩散粉具有有机链段结构和无机结构，与量子点光刻胶体系中的各种组分相容性较好，具有较好的分散效果，增加了光刻胶的均匀性。由该量子点光刻胶制成的量子点彩膜膜质均匀，光利用率高。
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公开(公告)号：CN105694042A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201610266767.8
申请日：2016-04-26
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
CPC分类号： C09K11/025 , C08G77/18 , C09K11/565 , C09K11/883 , G02B1/04 , G02F1/133617 , G02F2202/36 , G03F7/0007 , G03F7/0043 , G03F7/0047 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/2053 , G03F7/26 , G03F7/004
摘要： 本发明属于显示技术领域，尤其涉及光扩散粉其制备方法、量子点光刻胶及量子点彩膜。本发明的光扩散粉制备方法为：烷氧基硅烷在酸性条件或碱性条件下进行共水解缩合反应，得到光扩散粉。本发明还公开了由所述光扩散粉制成的量子点光刻胶及量子点彩膜。所述光扩散粉具有有机链段结构和无机结构，与量子点光刻胶体系中的各种组分相容性较好，具有较好的分散效果，增加了光刻胶的均匀性。由该量子点光刻胶制成的量子点彩膜膜质均匀，光利用率高。
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