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公开(公告)号：CN118613101A
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202410692195.4
申请日：2024-05-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
IPC分类号： H10K59/131 , H01L27/12
摘要： 一种显示基板及显示装置。所述显示基板包括基底、驱动电路层以及发光结构层；驱动电路层包括第一电路单元、第二电路单元、信号线、辅助电源线以及第一电源线，至少部分辅助电源线与第一电源线一一成组设置且电连接；信号线沿第一方向延伸，第一电源线沿第二方向延伸，第一方向与第二方向交叉，且信号线位于辅助电源线沿第二方向的一侧；第一电路单元包括第一像素驱动电路，第二电路单元包括第二像素驱动电路，第一像素驱动电路与第二像素驱动电路与同一条辅助电源线电连接，至少一条辅助电源线在基底正投影与至少一条信号线在基底正投影不交叠，可以避免信号线与辅助电源线发生短路问题。
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公开(公告)号：CN110252598B
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201910570348.7
申请日：2019-06-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本申请实施例提供了一种刮刀模组和刮刀装置，刮刀模组包括刀座、夹持件、刮刀和支撑片。刮刀和支撑片层叠设置，夹持件将刮刀的尾部和支撑片的尾部固定于刀座；刮刀的头部沿刮刀的长度方向超出支撑片的头部，刮刀的头部设置有刀刃。在本申请实施例提供的刮刀模组中，增设支撑片相当于提高了刮刀的刚度，附着物向刮刀施加较大的反作用力时，支撑片能够为刮刀提供支撑力抵消该反作用力，显著地减小刮刀的弯曲程度，进而保证刮刀能够继续向附着物施加有效的刮除力，提高了刮除成功率，降低附着物的残留率。
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公开(公告)号：CN110252598A
公开(公告)日：2019-09-20
申请号：CN201910570348.7
申请日：2019-06-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本申请实施例提供了一种刮刀模组和刮刀装置，刮刀模组包括刀座、夹持件、刮刀和支撑片。刮刀和支撑片层叠设置，夹持件将刮刀的尾部和支撑片的尾部固定于刀座；刮刀的头部沿刮刀的长度方向超出支撑片的头部，刮刀的头部设置有刀刃。在本申请实施例提供的刮刀模组中，增设支撑片相当于提高了刮刀的刚度，附着物向刮刀施加较大的反作用力时，支撑片能够为刮刀提供支撑力抵消该反作用力，显著地减小刮刀的弯曲程度，进而保证刮刀能够继续向附着物施加有效的刮除力，提高了刮除成功率，降低附着物的残留率。
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公开(公告)号：CN105271792A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201510617156.9
申请日：2015-09-24
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
CPC分类号： B05D3/0272 , B05D2203/35 , B05D2505/50 , F26B21/14
摘要： 本发明提供了一种固化装置及固化方法，该固化装置包括：腔室，用于盛放涂覆有聚酰亚胺PI胶的基板；抽气装置，用于对所述腔室抽真空；加热装置，用于在所述抽真空的过程中当所述腔室内达到第一预设压强时对所述基板进行第一加热以去除所述PI胶中的有机气体，以及在所述第一加热之后对所述基板进行第二加热固化所述PI胶。本发明提供的固化装置，通过将去除PI胶中有机气体的工序在真空抽气的条件下进行，相比现有技术，能够大大提高有机气体的排出效果，不但能够有效降低有机气体凝结为颗粒的概率，还能减少所需的工艺时间，并且，由于不要持续通入氮气，还能大大降低产品制作成本。
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公开(公告)号：CN105549337A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201610077559.3
申请日：2016-02-03
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2053 , G03F7/70025 , G03F7/70383
摘要： 本发明公开一种光刻装置及光刻方法、显示基板的制作方法，涉及显示技术领域，以在简化显示基板制作过程时，提高显示面板的最小解像精度。该光刻装置包括激光发生单元、光线控制单元以及光线校正单元；激光发生单元用于发射激光束，光线控制单元用于按照目标图案改变激光束的传播方向，获取可控激光束；光线校正单元用于将可控激光束校正成用于对目标层进行光刻的光刻激光束。所述光刻方法使用上述技术方案提供的光刻装置。本发明提供的光刻装置用于显示基板的制作中。
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公开(公告)号：CN105093813A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201510580628.8
申请日：2015-09-11
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明属于半导体技术领域，具体涉及一种光掩模板和曝光系统。该光掩模板设置有用于形成成图图案的构图图形，所述构图图形包括用于形成直线图案的条状主体，其中，所述构图图形还包括在所述条状主体的两侧设置的辅助构图图形单元，所述辅助构图图形单元能对曝光过程中的光线方向和光强强度进行调整和补偿。该光掩模板使得采用其曝光形成的成图图案的精细度提高，从而提高形成的直线图案的精度。
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公开(公告)号：CN108022943B
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：CN201610945114.2
申请日：2016-11-02
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L27/32 , H01L21/027
摘要： 一种有机发光二极管显示面板及其制作方法、掩模板。该有机发光二极管显示面板，包括弯曲部，弯曲部的凸出侧为出光侧，弯曲部包括衬底基板以及设置在衬底基板上的多个有机发光二极管，有机发光二极管包括多个层，多个层包括发光层，发光层具有第一曲面，在弯曲部第一曲面与衬底基板的弯曲方向相反，或者，在弯曲部第一曲面与衬底基板的弯曲方向相同并且第一曲面的曲率大于衬底基板的曲率。该有机发光二极管显示面板中的有机发光二极管在发光时发光角度分散，可以改善有机发光二极管显示面板的视角，提高显示品质。
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公开(公告)号：CN105137722A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201510617758.4
申请日：2015-09-24
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种边缘曝光装置及曝光方法，涉及光刻技术领域，用于缩短边缘曝光装置对位于非显示区域的所有光阻层进行曝光的时间，提高制作显示基板的产能。该边缘曝光装置包括基板载台和位于所述基板载台上方的光源，所述光源包括至少两个相互平行的第一条形光源，每个所述第一条形光源的形状均与放置于所述基板载台上的基板的非显示区域的光阻层中、沿所述基板的长度方向延伸的条形区域的形状相匹配。本发明用于曝光基板上非显示区域的光阻层。
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公开(公告)号：CN105093813B
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201510580628.8
申请日：2015-09-11
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明属于半导体技术领域，具体涉及一种光掩模板和曝光系统。该光掩模板设置有用于形成成图图案的构图图形，所述构图图形包括用于形成直线图案的条状主体，其中，所述构图图形还包括在所述条状主体的两侧设置的辅助构图图形单元，所述辅助构图图形单元能对曝光过程中的光线方向和光强强度进行调整和补偿。该光掩模板使得采用其曝光形成的成图图案的精细度提高，从而提高形成的直线图案的精度。
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公开(公告)号：CN108525351A
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：CN201710129832.7
申请日：2017-03-06
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： B01D19/02
摘要： 本发明提供一种脱泡装置，属于液体脱泡技术领域，其可解决现有的脱泡装置在对液体进行脱泡时脱泡时间长，脱泡效率低的问题。本发明的脱泡装置包括能封闭的脱泡腔室，用于盛放待脱泡的液体，所述脱泡装置还包括：加热单元，用于加热所述脱泡腔室。本发明在对液体脱泡时可缩短液体脱泡时间，提高液体脱泡效率。
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