-
公开(公告)号：CN102969257A
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201210311001.9
申请日：2012-08-28
Applicant: 仓敷纺织株式会社 , 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67086 , G01N21/3577 , H01L21/31111 , H01L21/67248 , H01L21/67253
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，由于可直接检测处理液的浓度，所以能够进行独立的浓度控制，且由于不易产生因透镜温度变化引起的测定误差，因此能够高精度地进行基板的药液处理。一种在由磷酸和稀释液混合而成的处理液中浸渍基板而进行处理的基板处理装置，具备通过测定处理液的吸光特性而检测处理液浓度的浓度检测单元，浓度检测单元具备：透光部，将处理液导入内部并使之在内部流通；发光部，向透光部照射规定波长的光；受光部，通过透光部接收来自发光部的光；第一透镜，将由发光部发出的光汇聚于透光部；第二透镜，将通过透光部的光汇聚于受光部；和冷却机构，冷却第一透镜和第二透镜中的至少任一个。
-
公开(公告)号：CN102969257B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201210311001.9
申请日：2012-08-28
Applicant: 仓敷纺织株式会社 , 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67086 , G01N21/3577 , H01L21/31111 , H01L21/67248 , H01L21/67253
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，由于可直接检测处理液的浓度，所以能够进行独立的浓度控制，且由于不易产生因透镜温度变化引起的测定误差，因此能够高精度地进行基板的药液处理。一种在由磷酸和稀释液混合而成的处理液中浸渍基板而进行处理的基板处理装置，具备通过测定处理液的吸光特性而检测处理液浓度的浓度检测单元，浓度检测单元具备：透光部，将处理液导入内部并使之在内部流通；发光部，向透光部照射规定波长的光；受光部，通过透光部接收来自发光部的光；第一透镜，将由发光部发出的光汇聚于透光部；第二透镜，将通过透光部的光汇聚于受光部；和冷却机构，冷却第一透镜和第二透镜中的至少任一个。
-
公开(公告)号：CN110797282B
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN201910711315.X
申请日：2019-08-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置和基板处理方法，提供一种能够减少处理液的废弃量的技术。基板处理装置具有：处理室，在该处理室中利用处理液来对基板进行处理；喷嘴，其在前端部具有所述处理液的喷出口；喷嘴槽，在该喷嘴槽的内部形成有收容室，该收容室用于在所述处理液向所述基板的供给中断的待机时收容所述喷嘴的所述前端部；循环线路，其用于使从所述喷嘴喷出至所述喷嘴槽的所述处理液返回所述喷嘴；以及第一限制部，在使从所述喷嘴喷出至所述喷嘴槽的所述处理液向所述喷嘴循环时，该第一限制部限制所述喷嘴槽的外部与存在于所述喷嘴槽的内部的所述处理液之间的气体的流动。
-
公开(公告)号：CN107665837B
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN201710600092.0
申请日：2017-07-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种液处理装置和液处理方法。能够减少对向基板供给的液体的流量进行调整时的流量调整机构的动作次数。液处理装置具备：基板处理部，其对基板供给流体；供给线，其向基板处理部供给流体；流量计，其测量在供给线中流动的流体的流量；流量调整机构，其对在供给线中流动的流体的流量进行调整；以及控制部，其基于流量计的测量结果来控制流量调整机构。控制部以第一周期接收流量计的测量结果。另外，在流量计的测量结果表示在供给线中流动的流体的流量包含在预先设定的范围中的情况下，控制部以时间间隔比第一周期的时间间隔长的周期通过流量调整机构对在供给线中流动的流体的流量进行调整。
-
公开(公告)号：CN108292599B
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN201680068848.5
申请日：2016-11-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
Abstract: 基板处理装置具备：基板保持部(31)，其保持基板(W)；外喷嘴(45)，其以使基板的表面的至少中心部被喷出的处理液的液膜覆盖的方式从比被基板保持部保持的基板的外周缘靠外侧的位置朝向基板的表面喷出处理液；以及致动器(46、90)，其能够变更外喷嘴的高度位置或俯仰角。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104637841B
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201410641579.X
申请日：2014-11-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供向基板供给精确浓度的处理液的基板液处理装置和基板液处理方法。基板液处理装置具备：罐(102)；循环管线(104)；处理部(16)，其经由分支管线(112)连接于循环管线，用于使用在循环管线中流动的处理液来对基板实施液处理；处理液生成机构(206A、206B、208)，其用于将从至少两种原料液各自的供给源供给的原料液以控制好的混合比混合而生成处理液；浓度测量装置(212(或212’))，其用于测量在循环管线中流动的处理液的浓度和在处理液供给管线中流动的处理液的浓度；以及控制装置(4)，其用于基于测量出的处理液的浓度来控制处理液生成机构。
-
公开(公告)号：CN108735631A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201810371461.8
申请日：2018-04-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67253 , G01F9/001 , G01F15/005 , G01F25/0007 , G01M1/00 , G01M3/2876 , G05B23/0235 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67173 , H01L21/67288 , H01L21/67017
Abstract: 提供一种探测流路开闭部的异常的处理装置、异常探测方法以及存储介质。实施方式的一种方式所涉及的处理装置具备腔室、喷嘴、流量测量部、流路开闭部以及控制部。腔室用于收容被处理体。喷嘴设置于腔室内，用于向被处理体供给处理液。流量测量部用于测量向喷嘴供给的处理液的流量。流路开闭部进行向喷嘴供给处理液的供给流路的开闭。控制部向流路开闭部输出用于进行关闭供给流路的闭动作的闭信号。另外，控制部根据在输出闭信号之后由流量测量部测量得到的流量的累积量来探测流路开闭部的动作异常。
-
公开(公告)号：CN115516606A
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202180032981.6
申请日：2021-04-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304 , B05C11/10
Abstract: 本发明提供有利于抑制颗粒混入到要提供给基片的处理液中的技术。基片液处理装置包括：供给容器，处理液经由引导管线被供给到供给容器的内侧；对供给容器的内侧加压的加压装置；喷出被供给来的处理液的喷出嘴；供给管线，其与供给容器和喷出嘴连接，没有设置对连接供给容器与喷出嘴的流路进行可变限制的调节机构；第一排液管线，其与供给管线中的供给容器与喷出嘴之间的第一分支部分连接；液流调节机构，其设置于第一排液管线，限制压力比设定压低的处理液通过；和调节设定压的控制部。
-
公开(公告)号：CN115039205A
公开(公告)日：2022-09-09
申请号：CN202180011726.3
申请日：2021-01-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 本公开的过滤器清洗系统(1、1A)具备贮存部(2)、输液路(3、3A)、循环路(4)、第一供给部(5)以及第二供给部(6)。贮存部贮存要向过滤器(100)通液的液体。输液路向所述过滤器输送贮存于贮存部的液体。循环路使从过滤器输出的液体回到贮存部。第一供给部向贮存部供给第一液体。第二供给部向贮存部供给表面张力比第一液体的表面张力小且具有与第一液体的亲和性的第二液体。
-
公开(公告)号：CN107112226B
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201580068790.X
申请日：2015-12-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 实施方式的一形态的基板液处理装置具备输送部、处理部、贮存部、以及供液机构。输送部配置有输送基板的输送装置。处理部沿着水平方向与输送部相邻，配置有使用处理液来对基板进行处理的液处理单元。贮存部贮存处理液。供液机构将贮存到贮存部的处理液向液处理单元送出。贮存部配置于输送部的正下方。另外，供液机构配置于处理部的正下方。能够谋求基板液处理装置的省空间化。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
27
records
(took 0.033 seconds)
