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公开(公告)号：CN113412185A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202080013531.8
申请日：2020-01-29
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 一个实施例是包括生成液滴图案信息的方法。所述方法可以包括接收图案信息。所述图案信息包括以下中的一个或两个：代表性基板的基板图案；以及代表性模板的模板图案。所述方法可以进一步包括接收关于特定基板的偏移信息，所述偏移信息代表所述特定基板相对于参考状态的测量状态。所述液滴图案信息可以表示在所述特定基板上要放置可成型材料的微滴的多个位置。所述方法可以进一步包括输出代表填充模板和处于所述测量状态的所述特定基板之间的体积的可成型材料的所述液滴图案信息，并且所述可成型材料不扩散到所述特定基板的边缘处的边界区域中。
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公开(公告)号：CN113412185B
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202080013531.8
申请日：2020-01-29
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 一个实施例是包括生成液滴图案信息的方法。所述方法可以包括接收图案信息。所述图案信息包括以下中的一个或两个：代表性基板的基板图案；以及代表性模板的模板图案。所述方法可以进一步包括接收关于特定基板的偏移信息，所述偏移信息代表所述特定基板相对于参考状态的测量状态。所述液滴图案信息可以表示在所述特定基板上要放置可成型材料的微滴的多个位置。所述方法可以进一步包括输出代表填充模板和处于所述测量状态的所述特定基板之间的体积的可成型材料的所述液滴图案信息，并且所述可成型材料不扩散到所述特定基板的边缘处的边界区域中。
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公开(公告)号：CN106864058B
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201611125066.9
申请日：2016-12-09
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41K3/36
Abstract: 本申请涉及一种压印装置，其包括：基底保持件，所述基底保持件具有吸附区域和凹形支撑段；以及模板保持件，其中，吸附区域面积大于模板区域面积。本申请还涉及一种压印装置，其包括：气体区段；以及气体控制器，所述气体控制器构造成调节气体区段内的压力，以得到与压印装置一起使用的工件的局部域的凸形曲率。本申请还涉及一种方法，其包括：在压印装置内设置工件，其中，工件包括基底和可成形材料；以及使模板在与局部域的外周间隔开的位置处与可成形材料初步接触。在特定的实施例中，所述方法还包括调整基底以形成使模板与可成形材料接触的凸形形状。
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公开(公告)号：CN106864058A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201611125066.9
申请日：2016-12-09
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41K3/36
Abstract: 本申请涉及一种压印装置，其包括：基底保持件，所述基底保持件具有吸附区域和凹形支撑段；以及模板保持件，其中，吸附区域面积大于模板区域面积。本申请还涉及一种压印装置，其包括：气体区段；以及气体控制器，所述气体控制器构造成调节气体区段内的压力，以得到与压印装置一起使用的工件的局部域的凸形曲率。本申请还涉及一种方法，其包括：在压印装置内设置工件，其中，工件包括基底和可成形材料；以及使模板在与局部域的外周间隔开的位置处与可成形材料初步接触。在特定的实施例中，所述方法还包括调整基底以形成使模板与可成形材料接触的凸形形状。
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