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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107942617A
公开(公告)日：2018-04-20
申请号：CN201710931985.3
申请日：2017-10-10
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B29C59/002 , B29C37/0025 , B29C59/022 , B29C59/026 , B29C2059/023 , B29K2105/0058 , B29L2031/3425 , G03F7/00 , G03F7/0002 , H01L21/0271 , B29C43/003 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 公开了控制压印材料扩散的方法。在可用于压印光刻的基板上具有限定压印场的位置，所述压印场还由内部区域、围绕所述内部区域的周边区域以及边界进一步限定，其中所述周边区域还包括流体控制特征。允许在压印场位置处沉积在基板上的可聚合材料在基板上扩散，其中流体控制凹凸特征使得可聚合材料的扩散重新定向，以在然后执行进一步的压印光刻技术时最小化可聚合材料扩散超过压印场边界。
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公开(公告)号：CN113412185B
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202080013531.8
申请日：2020-01-29
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 一个实施例是包括生成液滴图案信息的方法。所述方法可以包括接收图案信息。所述图案信息包括以下中的一个或两个：代表性基板的基板图案；以及代表性模板的模板图案。所述方法可以进一步包括接收关于特定基板的偏移信息，所述偏移信息代表所述特定基板相对于参考状态的测量状态。所述液滴图案信息可以表示在所述特定基板上要放置可成型材料的微滴的多个位置。所述方法可以进一步包括输出代表填充模板和处于所述测量状态的所述特定基板之间的体积的可成型材料的所述液滴图案信息，并且所述可成型材料不扩散到所述特定基板的边缘处的边界区域中。
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公开(公告)号：CN113412185A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202080013531.8
申请日：2020-01-29
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 一个实施例是包括生成液滴图案信息的方法。所述方法可以包括接收图案信息。所述图案信息包括以下中的一个或两个：代表性基板的基板图案；以及代表性模板的模板图案。所述方法可以进一步包括接收关于特定基板的偏移信息，所述偏移信息代表所述特定基板相对于参考状态的测量状态。所述液滴图案信息可以表示在所述特定基板上要放置可成型材料的微滴的多个位置。所述方法可以进一步包括输出代表填充模板和处于所述测量状态的所述特定基板之间的体积的可成型材料的所述液滴图案信息，并且所述可成型材料不扩散到所述特定基板的边缘处的边界区域中。
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