-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109932870B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201811521277.3
申请日：2018-12-13
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开涉及测量方法、测量装置、曝光装置以及物品制造方法。测量方法具有：第1工序，将把具有多个第1标记的第1图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以不产生与相邻拍摄区的重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第1图案；第2工序，将把具有多个第2标记和位于该多个第2标记的周边的多个周边标记的第2图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以使相邻拍摄区的一部分区域重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第2图案；以及第3工序，根据转印到基板的第1标记与第2标记的偏离量和一部分区域中的周边标记彼此的偏离量求出畸变。
-
公开(公告)号：CN117170193A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202310626355.0
申请日：2023-05-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及决定方法、曝光方法、信息处理装置、存储介质、曝光装置以及物品制造方法。提供有利于高精度地校正投影光学系统的成像特性的变动的技术。决定在表示投影光学系统的成像特性的变动的模型公式中使用的、表示提供给投影光学系统的每单位光能的成像特性的变动量的系数的决定方法具有：进行成像特性的测量的工序以及基于通过测量得到的测量值和使用模型公式得到的成像特性的预测值来决定系数的工序，模型公式包括表示进行基板曝光的期间的成像特性的变动的曝光模型公式和表示进行测量的期间的成像特性的变动的测量模型公式，进行曝光的期间的成像特性的预测值使用曝光模型公式求出，进行测量的期间的成像特性的预测值使用测量模型公式求出。
-
公开(公告)号：CN114859663A
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202210096981.9
申请日：2022-01-27
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本公开涉及信息处理装置、信息处理方法以及物品的制造方法。【课题】缩短装置中的异常的原因分析的时间。【解决手段】一种信息处理装置，累积对基板进行处理的基板处理装置中的日志，信息处理装置具有：累积部，累积日志；控制部，以从累积于所述累积部的日志中选择特定的日志的方式进行控制；以及发送部，将由所述控制部选择的日志发送给外部，所述控制部当在所述基板处理装置中发生了错误时，根据已学习模型，选择累积于所述累积部的日志中的相关度超过阈值的日志。
-
公开(公告)号：CN109932870A
公开(公告)日：2019-06-25
申请号：CN201811521277.3
申请日：2018-12-13
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开涉及测量方法、测量装置、曝光装置以及物品制造方法。测量方法具有：第1工序，将把具有多个第1标记的第1图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以不产生与相邻拍摄区的重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第1图案；第2工序，将把具有多个第2标记和位于该多个第2标记的周边的多个周边标记的第2图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以使相邻拍摄区的一部分区域重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第2图案；以及第3工序，根据转印到基板的第1标记与第2标记的偏离量和一部分区域中的周边标记彼此的偏离量求出畸变。
-
公开(公告)号：CN115343923A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202210504569.6
申请日：2022-05-10
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 公开了标记检测装置、标记学习装置和基板加工装置。标记检测装置，包括：成像单元，被配置成通过对物体上的对准标记成像来生成对准标记图像；检测单元，被配置成检测对准标记图像中的对准标记；以及调节单元，被配置成基于如下的学习模型来调节与成像相关的参数，所述学习模型是通过使用其中不能检测到对准标记的对准标记图像和作为用于对其中能够检测到对准标记的对准标记图像成像的参数的第一参数进行学习而生成的。调节单元取得作为基于学习模型的推断处理的结果的第二参数。成像单元在参数被调节为第二参数的状态下执行成像。
-
-
-
-
Search Results
5
records
(took 0.029 seconds)
