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公开(公告)号：CN1253728C
公开(公告)日：2006-04-26
申请号：CN02160876.8
申请日：2002-12-27
Applicant: 保谷株式会社
IPC: G02B1/10
CPC classification number: G02B1/11 , C23C14/547 , G02B1/10
Abstract: 提供一种形成薄膜的工艺和设备，能够自动地大量形成具有稳定性和良好重复性的光学特性稳定的薄膜。用于气相淀积的材料(4)由电子枪(3)汽化，通过气相淀积在支持在涂覆圆顶(2)中的透镜(2a)上形成抗反射膜。加到电子枪(3)上的电功率按在这样的方式控制，即膜形成期间由光学膜厚度表(10)连续测得的光的透射或反射的数量接近或与用于存储理论上得到的基准光量的装置中存储的基准光量的数据相同。
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公开(公告)号：CN1341866A
公开(公告)日：2002-03-27
申请号：CN01133129.1
申请日：2001-08-29
Applicant: 保谷株式会社
IPC: G02B1/10
CPC classification number: G02B1/115
Abstract: 为了解决获得在塑料基材和抗反射涂层之间具有高粘合性、也具有优异的耐热性和抗冲击性的光学元件而提供了这种光学元件,它包括塑料基材和在其上依次提供的铌(Nb)基层和抗反射膜,其中该基层任选与一种或多种选自铝(Al),钽(Ta),铬(Cr)和其两种或多种混合物的组分相混合,这些成分的量达到整个层的50wt.%。
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公开(公告)号：CN1429865A
公开(公告)日：2003-07-16
申请号：CN02160860.1
申请日：2002-12-27
Applicant: 保谷株式会社
CPC classification number: C08J7/047 , C08G65/329 , C08J2471/00 , C08K3/20 , C08K3/36 , C09D171/02 , C23C14/06 , G02B1/111 , Y10T428/26 , Y10T428/31507 , Y10T428/31663
Abstract: 公开了混杂膜，如具有良好的耐磨性能和除雾性能的那些，包括该混杂膜的防反射膜、光学产品和恢复该混杂膜的除雾性能的方法。具有除雾性能的混杂膜可通过将一种具有亲水基团和活性基团的有机化合物与二氧化硅或与二氧化硅和氧化铝一起蒸汽沉积获得。防反射膜可作为与基材相对的最外层形成于具有混杂膜的基材上。光学产品可包括塑料基材和具有混杂膜的防反射膜。恢复光学产品的混杂膜的除雾性能的方法可包括洗涤混杂膜。
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公开(公告)号：CN1354370A
公开(公告)日：2002-06-19
申请号：CN01143685.9
申请日：2001-11-13
Applicant: 保谷株式会社
CPC classification number: G02B1/115 , C23C14/08 , C23C14/083
Abstract: 本发明的目的是提供一种用于制造具有在合成树脂底材上形成的多层抗反射膜的光学元件的方法,其中所形成的抗反射膜具有良好的耐热性,而且其耐热性随着时间降低很少。该方法使得在较短时间内形成高折射层成为可能,而不降低涂层固有的良好的物理特性。多层抗反射膜中的至少一个高折射层包含氧化铌、氧化锆、氧化钇,和可任选的氧化铝。
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公开(公告)号：CN1235065C
公开(公告)日：2006-01-04
申请号：CN01143685.9
申请日：2001-11-13
Applicant: 保谷株式会社
CPC classification number: G02B1/115 , C23C14/08 , C23C14/083
Abstract: 提供一种用于汽相沉积的组合物，使用该组合物形成抗反期膜的方法及其光学元件。所形成的抗反射膜具有良好的耐热性，而且其耐热性随着时间降低很少，在较短时间内形成高折射层，而不降低涂层固有的良好的物理特性。多层抗反射膜中的至少一个高折射层包含氧化铌、氧化锆、氧化钇，和可任选的氧化铝。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1605888A
公开(公告)日：2005-04-13
申请号：CN200410092298.X
申请日：2001-11-30
Applicant: 保谷株式会社
CPC classification number: G02B1/11 , C03C17/2456 , C03C2217/212 , C03C2217/218 , C03C2217/23 , C03C2218/152 , C23C14/083
Abstract: 本申请的目的是提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，并提供一种汽相沉积用组合物，它即便靠低温汽相沉积也能在基材上形成高折射层，因而确保了抗反射膜具有良好的耐划伤性、良好的耐化学性和良好的耐热性，且其耐热性随时间降低很少；以及提供一种带有这种抗反射膜的光学元件的生产方法。通过提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，该方法包括烧结由含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合而成的蒸汽源混合物；提供一种含有二氧化钛和五氧化二铌的汽相沉积用组合物；以及提供一种带有抗反射膜的光学元件的生产方法，该方法包括汽化汽相沉积用组合物，并将产生的蒸汽沉积在基材上以在其上形成抗反射膜的高折射层，从而达到了本发明的目的。
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公开(公告)号：CN1210583C
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN01142543.1
申请日：2001-11-30
Applicant: 保谷株式会社
IPC: G02B1/11
CPC classification number: G02B1/11 , C03C17/2456 , C03C2217/212 , C03C2217/218 , C03C2217/23 , C03C2218/152 , C23C14/083
Abstract: 本申请的目的是提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，并提供一种汽相沉积用组合物，它即便靠低温汽相沉积也能在基材上形成高折射层，因而确保了抗反射膜具有良好的耐划伤性、良好的耐化学性和良好的耐热性，且其耐热性随时间降低很少；以及提供一种带有这种抗反射膜的光学元件的生产方法。通过提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，该方法包括烧结由含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合而成的蒸汽源混合物；提供一种含有二氧化钛和五氧化二铌的汽相沉积用组合物；以及提供一种带有抗反射膜的光学元件的生产方法，该方法包括汽化汽相沉积用组合物，并将产生的蒸汽沉积在基材上以在其上形成抗反射膜的高折射层，从而达到了本发明的目的。
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公开(公告)号：CN1430073A
公开(公告)日：2003-07-16
申请号：CN02160876.8
申请日：2002-12-27
Applicant: 保谷株式会社
IPC: G02B1/10
CPC classification number: G02B1/11 , C23C14/547 , G02B1/10
Abstract: 提供一种形成薄膜的工艺和设备，能够自动地大量形成具有稳定性和良好重复性的光学特性稳定的薄膜。用于气相淀积的材料(4)由电子枪(3)汽化，通过气相淀积在支持在涂覆圆顶(2)中的透镜(2a)上形成抗反射膜。加到电子枪(3)上的电功率按在这样的方式控制，即在膜形成期间由光学膜厚度表(10)连续测得的光的透射或反射的数量接近或与用于存储理论上得到的光的基准数量的装置中存储的光的基准数量的数据相同。
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