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公开(公告)号：CN1253728C
公开(公告)日：2006-04-26
申请号：CN02160876.8
申请日：2002-12-27
Applicant: 保谷株式会社
IPC: G02B1/10
CPC classification number: G02B1/11 , C23C14/547 , G02B1/10
Abstract: 提供一种形成薄膜的工艺和设备，能够自动地大量形成具有稳定性和良好重复性的光学特性稳定的薄膜。用于气相淀积的材料(4)由电子枪(3)汽化，通过气相淀积在支持在涂覆圆顶(2)中的透镜(2a)上形成抗反射膜。加到电子枪(3)上的电功率按在这样的方式控制，即膜形成期间由光学膜厚度表(10)连续测得的光的透射或反射的数量接近或与用于存储理论上得到的基准光量的装置中存储的基准光量的数据相同。
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公开(公告)号：CN1651938A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN200510054344.1
申请日：2001-11-30
Applicant: 保谷株式会社
IPC: G02B1/11
CPC classification number: G02B1/11 , C03C17/2456 , C03C2217/212 , C03C2217/218 , C03C2217/23 , C03C2218/152 , C23C14/083
Abstract: 本申请的目的是提供一种抗反射膜的高折射层的生产方法，该方法包括烧结包含含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合物的组合物，汽化该烧结过的组合物，并将产生的蒸汽沉积在合成树脂基材上，其中蒸汽源混合物中二氧化钛的量以TiO2计为30－75％重量，其中蒸汽源混合物中五氧化二铌的量以Nb2O5计为25－70％重量。
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公开(公告)号：CN1480745A
公开(公告)日：2004-03-10
申请号：CN03152536.9
申请日：2003-08-01
Applicant: 保谷株式会社
CPC classification number: G02B1/18 , C03C17/009 , C03C17/30 , C08G2650/48 , G02B1/11 , G02B1/115 , G02B27/0006 , Y10T428/31663
Abstract: [问题]为了提供一种当用布料等擦去防水膜上的污点时可以光滑地擦过防水膜的顶部并且几乎不擦伤透镜的光学元件。[解决方法]包括光学基材、光学基材上的多层抗反射膜和在多层抗反射膜的最外层上的防水层的光学元件，其中抗反射膜的最外层是含有二氧化硅作为主要成分的层；防水层包括含有含氟取代烷基的有机硅化合物和不含硅的全氟聚醚作为主要成分的第一层以及在第一层上并与其直接接触的第二层，所述的第二层含有不含硅的全氟聚醚作为主要成分。
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公开(公告)号：CN1356562A
公开(公告)日：2002-07-03
申请号：CN01142543.1
申请日：2001-11-30
Applicant: 保谷株式会社
IPC: G02B1/04
CPC classification number: G02B1/11 , C03C17/2456 , C03C2217/212 , C03C2217/218 , C03C2217/23 , C03C2218/152 , C23C14/083
Abstract: 本申请的目的是提供一种汽相沉积用组合物的生产方法,并提供一种汽相沉积用组合物,它即便靠低温汽相沉积也能在基材上形成高折射层,因而确保了抗反射膜具有良好的耐划伤性、良好的耐化学性和良好的耐热性,且其耐热性随时间降低很少;以及提供一种带有这种抗反射膜的光学元件的生产方法。通过提供一种汽相沉积用组合物的生产方法,该方法包括烧结由含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合而成的蒸汽源混合物;提供一种含有二氧化钛和五氧化二铌的汽相沉积用组合物;以及提供一种带有抗反射膜的光学元件的生产方法,该方法包括汽化汽相沉积用组合物,并将产生的蒸汽沉积在基材上以在其上形成抗反射膜的高折射层,从而达到了本发明的目的。
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公开(公告)号：CN1235065C
公开(公告)日：2006-01-04
申请号：CN01143685.9
申请日：2001-11-13
Applicant: 保谷株式会社
CPC classification number: G02B1/115 , C23C14/08 , C23C14/083
Abstract: 提供一种用于汽相沉积的组合物，使用该组合物形成抗反期膜的方法及其光学元件。所形成的抗反射膜具有良好的耐热性，而且其耐热性随着时间降低很少，在较短时间内形成高折射层，而不降低涂层固有的良好的物理特性。多层抗反射膜中的至少一个高折射层包含氧化铌、氧化锆、氧化钇，和可任选的氧化铝。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1605888A
公开(公告)日：2005-04-13
申请号：CN200410092298.X
申请日：2001-11-30
Applicant: 保谷株式会社
CPC classification number: G02B1/11 , C03C17/2456 , C03C2217/212 , C03C2217/218 , C03C2217/23 , C03C2218/152 , C23C14/083
Abstract: 本申请的目的是提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，并提供一种汽相沉积用组合物，它即便靠低温汽相沉积也能在基材上形成高折射层，因而确保了抗反射膜具有良好的耐划伤性、良好的耐化学性和良好的耐热性，且其耐热性随时间降低很少；以及提供一种带有这种抗反射膜的光学元件的生产方法。通过提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，该方法包括烧结由含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合而成的蒸汽源混合物；提供一种含有二氧化钛和五氧化二铌的汽相沉积用组合物；以及提供一种带有抗反射膜的光学元件的生产方法，该方法包括汽化汽相沉积用组合物，并将产生的蒸汽沉积在基材上以在其上形成抗反射膜的高折射层，从而达到了本发明的目的。
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公开(公告)号：CN1445562A
公开(公告)日：2003-10-01
申请号：CN03107222.4
申请日：2003-03-18
Applicant: 保谷株式会社
CPC classification number: G02B1/18 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/113 , G02B27/0006 , Y10T428/31511 , Y10T428/3154 , Y10T428/31663
Abstract: 一种在基材上具有抗反射膜的光学元件，其中抗反射膜的层包含作为主要组分的通过汽相淀积而沉积的二氧化硅；所述层进一步外设有含氟防水层；且所述光学元件具有以下特性(1)和(2)：(1)如果提供防水层，对水的起始静止接触角(摩擦之前的静止接触角)是104°或更多，和(2)如果将麂皮在水中在25℃下浸渍5分钟，并随后在施加负荷500g的同时用麂皮将防水层的表面摩擦10,000次，对水的静止接触角(摩擦之后的静止接触角)比摩擦之前的静止接触角小0－10°。
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公开(公告)号：CN1354370A
公开(公告)日：2002-06-19
申请号：CN01143685.9
申请日：2001-11-13
Applicant: 保谷株式会社
CPC classification number: G02B1/115 , C23C14/08 , C23C14/083
Abstract: 本发明的目的是提供一种用于制造具有在合成树脂底材上形成的多层抗反射膜的光学元件的方法,其中所形成的抗反射膜具有良好的耐热性,而且其耐热性随着时间降低很少。该方法使得在较短时间内形成高折射层成为可能,而不降低涂层固有的良好的物理特性。多层抗反射膜中的至少一个高折射层包含氧化铌、氧化锆、氧化钇,和可任选的氧化铝。
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公开(公告)号：CN1210583C
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN01142543.1
申请日：2001-11-30
Applicant: 保谷株式会社
IPC: G02B1/11
CPC classification number: G02B1/11 , C03C17/2456 , C03C2217/212 , C03C2217/218 , C03C2217/23 , C03C2218/152 , C23C14/083
Abstract: 本申请的目的是提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，并提供一种汽相沉积用组合物，它即便靠低温汽相沉积也能在基材上形成高折射层，因而确保了抗反射膜具有良好的耐划伤性、良好的耐化学性和良好的耐热性，且其耐热性随时间降低很少；以及提供一种带有这种抗反射膜的光学元件的生产方法。通过提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，该方法包括烧结由含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合而成的蒸汽源混合物；提供一种含有二氧化钛和五氧化二铌的汽相沉积用组合物；以及提供一种带有抗反射膜的光学元件的生产方法，该方法包括汽化汽相沉积用组合物，并将产生的蒸汽沉积在基材上以在其上形成抗反射膜的高折射层，从而达到了本发明的目的。
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公开(公告)号：CN1430073A
公开(公告)日：2003-07-16
申请号：CN02160876.8
申请日：2002-12-27
Applicant: 保谷株式会社
IPC: G02B1/10
CPC classification number: G02B1/11 , C23C14/547 , G02B1/10
Abstract: 提供一种形成薄膜的工艺和设备，能够自动地大量形成具有稳定性和良好重复性的光学特性稳定的薄膜。用于气相淀积的材料(4)由电子枪(3)汽化，通过气相淀积在支持在涂覆圆顶(2)中的透镜(2a)上形成抗反射膜。加到电子枪(3)上的电功率按在这样的方式控制，即在膜形成期间由光学膜厚度表(10)连续测得的光的透射或反射的数量接近或与用于存储理论上得到的光的基准数量的装置中存储的光的基准数量的数据相同。
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