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公开(公告)号：CN1354370A
公开(公告)日：2002-06-19
申请号：CN01143685.9
申请日：2001-11-13
Applicant: 保谷株式会社
CPC classification number: G02B1/115 , C23C14/08 , C23C14/083
Abstract: 本发明的目的是提供一种用于制造具有在合成树脂底材上形成的多层抗反射膜的光学元件的方法,其中所形成的抗反射膜具有良好的耐热性,而且其耐热性随着时间降低很少。该方法使得在较短时间内形成高折射层成为可能,而不降低涂层固有的良好的物理特性。多层抗反射膜中的至少一个高折射层包含氧化铌、氧化锆、氧化钇,和可任选的氧化铝。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1651938A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN200510054344.1
申请日：2001-11-30
Applicant: 保谷株式会社
IPC: G02B1/11
CPC classification number: G02B1/11 , C03C17/2456 , C03C2217/212 , C03C2217/218 , C03C2217/23 , C03C2218/152 , C23C14/083
Abstract: 本申请的目的是提供一种抗反射膜的高折射层的生产方法，该方法包括烧结包含含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合物的组合物，汽化该烧结过的组合物，并将产生的蒸汽沉积在合成树脂基材上，其中蒸汽源混合物中二氧化钛的量以TiO2计为30－75％重量，其中蒸汽源混合物中五氧化二铌的量以Nb2O5计为25－70％重量。
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公开(公告)号：CN1356562A
公开(公告)日：2002-07-03
申请号：CN01142543.1
申请日：2001-11-30
Applicant: 保谷株式会社
IPC: G02B1/04
CPC classification number: G02B1/11 , C03C17/2456 , C03C2217/212 , C03C2217/218 , C03C2217/23 , C03C2218/152 , C23C14/083
Abstract: 本申请的目的是提供一种汽相沉积用组合物的生产方法,并提供一种汽相沉积用组合物,它即便靠低温汽相沉积也能在基材上形成高折射层,因而确保了抗反射膜具有良好的耐划伤性、良好的耐化学性和良好的耐热性,且其耐热性随时间降低很少;以及提供一种带有这种抗反射膜的光学元件的生产方法。通过提供一种汽相沉积用组合物的生产方法,该方法包括烧结由含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合而成的蒸汽源混合物;提供一种含有二氧化钛和五氧化二铌的汽相沉积用组合物;以及提供一种带有抗反射膜的光学元件的生产方法,该方法包括汽化汽相沉积用组合物,并将产生的蒸汽沉积在基材上以在其上形成抗反射膜的高折射层,从而达到了本发明的目的。
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公开(公告)号：CN1235065C
公开(公告)日：2006-01-04
申请号：CN01143685.9
申请日：2001-11-13
Applicant: 保谷株式会社
CPC classification number: G02B1/115 , C23C14/08 , C23C14/083
Abstract: 提供一种用于汽相沉积的组合物，使用该组合物形成抗反期膜的方法及其光学元件。所形成的抗反射膜具有良好的耐热性，而且其耐热性随着时间降低很少，在较短时间内形成高折射层，而不降低涂层固有的良好的物理特性。多层抗反射膜中的至少一个高折射层包含氧化铌、氧化锆、氧化钇，和可任选的氧化铝。
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公开(公告)号：CN1605888A
公开(公告)日：2005-04-13
申请号：CN200410092298.X
申请日：2001-11-30
Applicant: 保谷株式会社
CPC classification number: G02B1/11 , C03C17/2456 , C03C2217/212 , C03C2217/218 , C03C2217/23 , C03C2218/152 , C23C14/083
Abstract: 本申请的目的是提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，并提供一种汽相沉积用组合物，它即便靠低温汽相沉积也能在基材上形成高折射层，因而确保了抗反射膜具有良好的耐划伤性、良好的耐化学性和良好的耐热性，且其耐热性随时间降低很少；以及提供一种带有这种抗反射膜的光学元件的生产方法。通过提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，该方法包括烧结由含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合而成的蒸汽源混合物；提供一种含有二氧化钛和五氧化二铌的汽相沉积用组合物；以及提供一种带有抗反射膜的光学元件的生产方法，该方法包括汽化汽相沉积用组合物，并将产生的蒸汽沉积在基材上以在其上形成抗反射膜的高折射层，从而达到了本发明的目的。
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公开(公告)号：CN1210583C
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN01142543.1
申请日：2001-11-30
Applicant: 保谷株式会社
IPC: G02B1/11
CPC classification number: G02B1/11 , C03C17/2456 , C03C2217/212 , C03C2217/218 , C03C2217/23 , C03C2218/152 , C23C14/083
Abstract: 本申请的目的是提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，并提供一种汽相沉积用组合物，它即便靠低温汽相沉积也能在基材上形成高折射层，因而确保了抗反射膜具有良好的耐划伤性、良好的耐化学性和良好的耐热性，且其耐热性随时间降低很少；以及提供一种带有这种抗反射膜的光学元件的生产方法。通过提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，该方法包括烧结由含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合而成的蒸汽源混合物；提供一种含有二氧化钛和五氧化二铌的汽相沉积用组合物；以及提供一种带有抗反射膜的光学元件的生产方法，该方法包括汽化汽相沉积用组合物，并将产生的蒸汽沉积在基材上以在其上形成抗反射膜的高折射层，从而达到了本发明的目的。
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