同时在两侧进行防水处理的机构

    公开(公告)号:CN1125992C

    公开(公告)日:2003-10-29

    申请号:CN98800652.9

    申请日:1998-05-18

    Abstract: 在其上排列有多个光学透镜基体材料的基体托座(22)可旋转地装在真空氛围中,并具有一用于在光学透镜基体材料的表面上形成防水膜的真空处理室(16),另外,在此真空处理室中装有两面同时防水处理的机构。相对于基体托座(22),设置了一上侧的防水处理装置(30)和一下侧的防水处理装置(40),上侧的防水处理装置在光学透镜基体材料的上侧形成防水膜,而下侧的防水处理装置则在光学透镜基体材料的下侧形成防水膜。这种构形在光学透镜基体材料的两面同时形成防水膜。用于防水处理的膜厚修正机构由用于修正膜厚差的膜厚修正板(51,52)组成,它布置在防水处理装置与光学透镜基体材料之间。

    将光学镜片底料设定于支座上的机构

    公开(公告)号:CN1226973A

    公开(公告)日:1999-08-25

    申请号:CN98800650.2

    申请日:1998-05-18

    CPC classification number: G02B1/11 C23C14/50 C23C14/505

    Abstract: 于溅射系统中由溅射法将抗反射膜涂层到光学镜片两侧上的抗反射膜。在用于进行这种溅射的真空处理室(22)中,多块光学镜片底料(11)沿横向放置到设定于真空气氛中可转动的底料支座(26)上。这些底料用环形保持工具(52,152)嵌装于支座(26)中形成的孔(26a)内且以其凹面冲上。工具(52)的高度当底料(11)的镜片边缘厚度大时大于此边缘的高度但不大于2mm。工具(152)的与光学镜片底料(lll)一起放置的部分当此底料的镜片边缘厚度小时呈锥形。

    同时在两侧进行防水处理的机构

    公开(公告)号:CN1226971A

    公开(公告)日:1999-08-25

    申请号:CN98800652.9

    申请日:1998-05-18

    Abstract: 在其上排列有多个光学透镜基体材料的基体托座(22)可旋转地装在真空氛围中,并具有一用于在光学透镜基体材料的表面上形成防水膜的真空处理室(16),另外,在此真空处理室中装有两面同时防水处理的机构。相对于基体托座(22),设置了一上侧的防水处理装置(30)和一下侧的防水处理装置(40),上侧的防水处理装置在光学透镜基体材料的上侧形成防水膜,而下侧的防水处理装置则在光学透镜基体材料的下侧形成防水膜。这种构形在光学透镜基体材料的两面同时形成防水膜。用于防水处理的膜厚修正机构由用于修正膜厚差的膜厚修正板(5l,52)组成,它布置在防水处理装置与光学透镜基体材料之间。

    具有防反射薄膜的光学元件

    公开(公告)号:CN1512196A

    公开(公告)日:2004-07-14

    申请号:CN200310124307.4

    申请日:2003-12-26

    CPC classification number: G02B1/111 Y10T428/31663

    Abstract: 本发明提供一种具有塑料基材和通过气相沉积形成的多层防反射薄膜的光学元件,其中,防反射薄膜中至少一层是混合层,该混合层由作为气相沉积原料的至少一种无机物和在常温常压下为液体的有机硅化合物和/或在常温常压下为液体、不含硅的有机化合物形成;所述无机物选自二氧化硅,氧化铝,氧化钛,氧化锆,氧化钽,氧化钇,和氧化铌。

Patent Agency Ranking