公开(公告)号：CN101821111B

公开(公告)日：2013-08-14

申请号：CN200880111559.4

申请日：2008-08-27

Applicant: 光子动力学公司 ,  由海军部长代表的美利坚合众国

Inventor： 雷蒙德·欧阳 ,  阿尔贝托·皮克 ,  托马斯·H·贝利 ,  莉迪娅·J·扬

IPC: C23C14/28 ,  H05K3/10 ,  B42D15/00

CPC classification number: C23C14/28 ,  H05K3/046 ,  H05K3/225 ,  H05K2203/0528 ,  H05K2203/107

Abstract: 激光印花转印被用于通过引导非常低能量的激光脉冲在靶衬底的后面照射覆盖该靶前表面的高粘性流变流体薄层的一个区域来产生薄膜特征。通过以该激光束为中心的光圈来成形和限定被照射的区域。该印花转印处理允许与激光辐射区域的形状和尺寸相同的均匀连续层从靶衬底释放并转印到接收衬底。释放层几乎不改变其最初尺寸和形状越过间隙被转印。所得到的转印到接收衬底上的图案在厚度和形态上高度均匀，具有清晰的边缘特征并且表现出高度附着性，与接收衬底的表面能、湿润或疏水性无关。

公开(公告)号：CN101821111A

公开(公告)日：2010-09-01

申请号：CN200880111559.4

申请日：2008-08-27

Applicant: 光子动力学公司 ,  由海军部长代表的美利坚合众国

Inventor： 雷蒙德·欧阳 ,  阿尔贝托·皮克 ,  托马斯·H·贝利 ,  莉迪娅·J·扬

IPC: B42D15/00

CPC classification number: C23C14/28 ,  H05K3/046 ,  H05K3/225 ,  H05K2203/0528 ,  H05K2203/107

Abstract: 激光印花转印被用于通过引导非常低能量的激光脉冲在靶衬底的后面照射覆盖该靶前表面的高粘性流变流体薄层的一个区域来产生薄膜特征。通过以该激光束为中心的光圈来成形和限定被照射的区域。该印花转印处理允许与激光辐射区域的形状和尺寸相同的均匀连续层从靶衬底释放并转印到接收衬底。释放层几乎不改变其最初尺寸和形状越过间隙被转印。所得到的转印到接收衬底上的图案在厚度和形态上高度均匀，具有清晰的边缘特征并且表现出高度附着性，与接收衬底的表面能、湿润或疏水性无关。