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公开(公告)号：CN106597841B
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201611158576.6
申请日：2016-12-14
IPC分类号： G05B13/02 , B24B53/017
摘要： 本发明公开了一种化学机械平坦化中修整器电机的跟踪扫描算法，将所述修整器电机的一个运行周期划分为n个等长的时间间隔Tn，各所述时间间隔Tn所对应的位移区间为Zn，修整器电机的运行轨迹为预设的时间位移函数所表征的曲线。本发明电机运动轨迹与预设的拟合度提高，电机实际运行周期与设置的周期更吻合，运行的光滑度也得到提升，同时将实际时间比例与预设时间比例的偏差控制在百分之一以内。
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公开(公告)号：CN109590896A
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：CN201910027866.4
申请日：2019-01-11
摘要： 本发明涉及一种化学机械抛光设备支撑结构及化学机械抛光设备，属于抛光设备技术领域。抛光头架体包括交汇于抛光头架体中心的多个支架，中心柱位于抛光头架体的中心并与抛光头架体连接，每个支架的远离抛光头架体的中心的一端连接有边缘支撑件，边缘支撑件用于与中心柱配合以支撑抛光头架体，边缘支撑件与中心柱之间形成用于放置抛光工作台的工作区，每个支架上设置有朝向抛光头架体的中心延伸的移动轨道，沿移动轨道的延伸方向，移动轨道的靠近中心柱的一端的端部与中心柱之间具有间隙以形成抛光头模组更换区。该化学机械抛光设备支撑结构及化学机械抛光设备，结构简单，分散中心支柱的承重，提高了使用寿命。
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公开(公告)号：CN107520740A
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201710839581.1
申请日：2017-09-18
IPC分类号： B24B37/013 , H01L21/306 , H01L21/66
CPC分类号： B24B37/013 , H01L21/30625 , H01L22/12
摘要： 本发明提供了一种化学机械抛光中光谱终点的检测方法、装置及系统，包括：根据晶圆表面被抛薄膜的光谱检测数据，确定被抛薄膜的平滑的光谱检测数据；根据平滑的光谱检测数据中关联的反射率数据与检测波长数据，确定平滑的光谱检测数据中的极值点及每个极值点对应的波长值；根据至少两个相邻极值点的波长值以及被抛薄膜的光学折射率，确定被抛薄膜的剩余厚度；在检测到被抛薄膜的厚度达到设定厚度阈值时，确定该被抛薄膜的厚度为抛光终点，以使化学机械抛光设备在抛光终点停止抛光；其通过计算晶圆表面被抛薄膜的剩余厚度，确定该被抛薄膜的厚度为抛光终点，提高了光谱终点的检测精确度，且提高了化学机械抛光设备的工作效率。
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公开(公告)号：CN106597841A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201611158576.6
申请日：2016-12-14
IPC分类号： G05B13/02 , B24B53/017
摘要： 本发明公开了一种化学机械平坦化中修整器电机的跟踪扫描算法，将所述修整器电机的一个运行周期划分为n个等长的时间间隔Tn，各所述时间间隔Tn所对应的位移区间为Zn，修整器电机的运行轨迹为预设的时间位移函数所表征的曲线。本发明电机运动轨迹与预设的拟合度提高，电机实际运行周期与设置的周期更吻合，运行的光滑度也得到提升，同时将实际时间比例与预设时间比例的偏差控制在百分之一以内。
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公开(公告)号：CN109500740A
公开(公告)日：2019-03-22
申请号：CN201910026239.9
申请日：2019-01-11
摘要： 本发明涉及CMP抛光盘温度控制技术领域，尤其是涉及一种抛光盘温度控制系统，包括抛光盘、循环水路、温度检测装置和调控装置；循环水路包括上水管路和回水管路，上水管路的数量为多个，多个上水管路分别对应抛光盘不同区域，回水管路与上水管路一一对应且连通；温度检测装置检测回水管路回水温度和抛光盘表面温度；调控装置接收温度检测装置检测到的温度信号，控制上水管路向抛光盘供应的冷却水的温度和流量。本申请通过在抛光盘上分设不同区域，并在各区域设置独立的上水管路和回水管路，对各区域回水管路的温度进行监测，控制上水管路的上水温度和流量，实现对不同温度区域的适应性温度调控，使得抛光盘冷却均匀，保证了晶圆的抛光质量。
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公开(公告)号：CN109500740B
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201910026239.9
申请日：2019-01-11
摘要： 本发明涉及CMP抛光盘温度控制技术领域，尤其是涉及一种抛光盘温度控制系统，包括抛光盘、循环水路、温度检测装置和调控装置；循环水路包括上水管路和回水管路，上水管路的数量为多个，多个上水管路分别对应抛光盘不同区域，回水管路与上水管路一一对应且连通；温度检测装置检测回水管路回水温度和抛光盘表面温度；调控装置接收温度检测装置检测到的温度信号，控制上水管路向抛光盘供应的冷却水的温度和流量。本申请通过在抛光盘上分设不同区域，并在各区域设置独立的上水管路和回水管路，对各区域回水管路的温度进行监测，控制上水管路的上水温度和流量，实现对不同温度区域的适应性温度调控，使得抛光盘冷却均匀，保证了晶圆的抛光质量。
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公开(公告)号：CN107617970A
公开(公告)日：2018-01-23
申请号：CN201711011861.X
申请日：2017-10-26
IPC分类号： B24B37/013 , B24B49/12
摘要： 本申请提供了一种晶圆抛光终点的检测系统，包括：脉冲发生电路，用于根据供电电源电路提供的电信号，生成脉冲信号，并将脉冲信号发送至光源电路；光源电路，用于根据脉冲信号，向晶圆发送脉冲光源；脉冲光源分别在晶圆镀膜的上下表面反射，产生反射光信号；这里，反射光信号包括：脉冲光反射信号和背景光反射信号；检测装置，用于采集晶圆镀膜的上下表面反射并产生干涉的反射光信号，识别反射光信号中的背景光反射信号，并对背景光反射信号进行滤波处理，输出脉冲光反射信号。本申请中，基于滤除了背景光信号后的脉冲光反射信号进行抛光检测，提高了晶圆镀膜厚度的检测精度，进而提高了抛光终点的检测精度。
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公开(公告)号：CN107243827A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201710493062.4
申请日：2017-06-26
IPC分类号： B24B37/34
CPC分类号： B24B37/34
摘要： 本发明公开了一种控制抛光垫活化器施压方向的自动调整机构，用于抛光垫的修整，其包括砂轮盘安装座，导向轴，万向底盘及底盘压盖；砂轮盘安装座与万向底盘通过球面副连接，底盘压盖设置在万向底盘的上部；砂轮盘安装座及万向底盘上均布有轴孔，导向轴穿过轴孔，导向轴所在形成的平面构成导向支撑面；工作时，动力装置与转动轴连接，转动轴连接在万向底盘上，砂轮盘固定在砂轮盘安装座上；砂轮盘在抛光垫淀积的高点处与抛光垫形成一个微小的夹角，以消除抛光垫上的凸起。本发明提供的自动调整机构，其调整精度高、可靠性强，修整抛光垫表面淀积凸起的效果良好，有利于提高抛光垫的质量，提高晶圆的成片率，降低化学机械抛光的成本。
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公开(公告)号：CN108044508A
公开(公告)日：2018-05-18
申请号：CN201810003996.X
申请日：2018-01-02
IPC分类号： B24B49/10 , B24B53/017
CPC分类号： B24B49/10 , B24B53/017
摘要： 本发明涉及一种检测装置及方法，属于化学机械抛光技术领域。该检测装置应用于化学机械平坦化设备中，化学机械平坦化设备包括：修整器、抛光盘和设置于抛光盘上的抛光垫，修整器的执行端上设置有金刚砂轮。检测装置包括：电源、测距传感器、控制器和通信模块。通过设置于修整器的靠近抛光垫的一侧的测距传感器来检测修整器与金刚砂轮之间的距离；再通过控制器来对测距传感器检测的距离信息进行处理，得到抛光垫的第一厚度，并将该第一厚度与预设厚度值进行比对，即可准确的知道该抛光垫是否需要进行更换，解决了传统判定方法的不足，提高了晶圆抛光的质量。
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