公开(公告)号：CN101355031A

公开(公告)日：2009-01-28

申请号：CN200810119693.0

申请日：2008-09-05

Applicant: 北京工业大学

Inventor： 张铭 ,  赵学平 ,  董国波 ,  李杨超 ,  严辉 ,  王波 ,  宋雪梅 ,  王如志 ,  侯育东 ,  汪浩

IPC: H01L21/285 ,  H01L31/18 ,  H01L33/00 ,  C23C14/35 ,  C23C14/54 ,  C23C14/08

CPC classification number: Y02P70/521

Abstract: 本发明涉及一种p型透明氧化物半导体CuCrO2薄膜材料的制备方法。该方法是将纯度均为99.9％的Cu2O粉体和Cr2O3粉体按Cu与Cr的原子比为1∶1配料，然后球磨混合，烘干后在1150℃煅烧12h，生成纯相的CuCrO2粉体，采用热压法将CuCrO2粉体压制成陶瓷靶材；利用磁控溅射方法，以石英片为衬底，衬底温度为400～600℃，以纯度为99.999％的Ar和N2O的混合气体作溅射气体，工作气压为0.8～1.2Pa，N2O分压为0～20％，溅射功率为80～120W，沉积时间为90min；最后将沉积好的薄膜置于管式炉中进行退火，采用纯度为99.999％的N2作保护气氛，退火温度为800～1000℃，退火时间为3～5h，退火后获得纯相CuCrO2薄膜，其厚度为200～400nm。本发明方法可以大面积沉积薄膜，生产成本低，且适用于工业化生产。