-
公开(公告)号：CN118248606A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202410346215.2
申请日：2024-03-25
申请人： 北京晶亦精微科技股份有限公司
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/683 , H01L21/67
摘要： 本发明提供了一种适于水中取放晶圆的装置，包括支架、水槽、储存机构以及吸附机构；所述水槽设置在所述支架的底部；所述水槽内开设有容纳腔，所述容纳腔中用于存放纯水；所述储存机构设置在所述容纳腔中，所述储存机构内适于存放晶圆；所述吸附机构设置在所述支架上，所述吸附机构适于将所述晶圆从所述储存机构和待抛光位进行取放。在本发明中，通过设置上述结构，能够使所述晶圆在抛光后暂时保存在所述水槽的循环水中，对所述晶圆进行保湿，同时能够清洗所述晶圆表面的抛光残留液，进而提高晶圆的质量；另外，由于抛光时间较长，待所有晶圆抛光后，整体取出进行清洗操作，进而提高了晶圆的制造效率。
-
公开(公告)号：CN117744999A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202311759727.3
申请日：2023-12-20
申请人： 北京晶亦精微科技股份有限公司
IPC分类号： G06Q10/0631 , G06N3/126 , G06Q50/04 , G05B13/02 , H01L21/67
摘要： 本发明涉及基板工艺技术领域，公开了一种基板调度方法、装置、计算机设备及存储介质，该方法包括：获取多个待传输基板的参数、用于待传输基板加工的工艺单元参数和待传输基板在每个工艺单元执行传输步骤所用的传输时间；采用遗传算法对多个基板的参数、工艺单元参数和传输时间进行迭代操作，并生成调度数据；根据调度数据将每个待传输基板在多个工艺单元中进行传输，以对基板进行加工。本发明采用遗传算法提供优秀的调度数据，实现基板传输总时间趋近最小，进而提高了基板的传输效率，从而得到较高的加工效率，解决了如何生成调度数据以提高基板传输效率的问题。
-
公开(公告)号：CN117548297A
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202311537613.4
申请日：2023-11-17
申请人： 北京晶亦精微科技股份有限公司
IPC分类号： B05C11/10
摘要： 本发明涉及液膜检测技术领域，公开了一种液膜厚度控制系统、方法、装置、计算机设备及存储介质，该系统包括：气液输出部和控制部，气液输出部包括增液管路和减液模块，增液管路和减液模块均与控制部连接；在待处理基板涂覆过程中，控制部用于根据预先获取的基板表面液膜厚度分布数据和预设液膜厚度的关系生成增液信号或减液信号；增液管路用于根据增液信号输出溶液对待处理基板进行增液处理；减液模块用于根据减液信号对待处理基板进行减液处理。本发明提高了液膜涂覆效率，保证液膜涂覆效果，解决了没有针对基板在涂覆过程中液膜厚度的调整，导致液膜涂覆效率较低的问题。
-
公开(公告)号：CN117747499A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202311734640.0
申请日：2023-12-15
申请人： 北京晶亦精微科技股份有限公司
摘要： 本发明属于基板干燥技术领域，具体公开了一种基板干燥装置以及基板清洗干燥设备。基板在干燥时，液膜厚度会变薄，通过膜厚计检测液膜厚度并反馈至控制终端，操作人员于控制终端处调节伸缩部的伸缩程度或控制终端自身调节伸缩部程度、以调整基板与导流板之间的间距，进而调节基板与导流板之间的超临界流体的流速，直至流速与液膜厚度变化前的流速一致，使得干燥的过程中液膜表面的层流效果保持一致，相比于现有方案，本结构的引流板靠近基板一侧移动时，会减少基板与引流板之间的间距，此时超临界流体于基板与引流板之间流动时会作用于基板，使得基板盖设并抵接于承载结构，避免基板出现摆动甚至翻转的现象，实现基板表面的液膜进行均匀干燥。
-
公开(公告)号：CN117711977A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202311720084.1
申请日：2023-12-14
申请人： 北京晶亦精微科技股份有限公司
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677
摘要： 本发明涉及基板交接技术领域，公开了一种基板交接系统，包括承载机构、升降机构、多个进气通道、背吹执行机构和控制模块；承载机构水平设置在超临界腔室的第一开口部，顶部用于支撑基板的下表面，且承载机构上设有贯穿孔；升降机构设置在承载机构的下方，适于穿过贯穿孔对基板进行支撑；多个进气通道位于承载机构的内部；多个进气通道的出气口均位于承载机构的顶部，并环绕承载机构的边缘设置；背吹执行机构与进气通道连通，用于向进气通道供应惰性气体；控制模块与升降机构及背吹执行机构均通信连接，用于控制背吹执行机构的背吹流量，本发明保持了基板表面IPA液膜的完整性，提高了基板干燥良品率。
-
公开(公告)号：CN117173116A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202311100663.6
申请日：2023-08-29
申请人： 北京晶亦精微科技股份有限公司
摘要： 本发明涉及计算机技术领域，公开了超临界干燥工艺终点判断方法、装置、计算机设备及介质，方法包括：通过图像采集部实时采集图像发生部的图像信息，图像发生部设置在超临界干燥工艺的排液管路上；对图像信息进行预处理，得到轮廓信息；将轮廓信息与基准轮廓信息进行对比，根据对比结果判断超临界干燥工艺是否达到终点。本发明能够动态检测超临界干燥工艺终点，达到节约资源，提高加工效率的目的，并且也能有效避免由于工艺时间不足导致图形损坏和有机残留的问题的发生。
-
公开(公告)号：CN118348025A
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202410451996.1
申请日：2024-04-15
申请人： 北京晶亦精微科技股份有限公司
摘要： 本发明涉及基板处理技术领域，公开了基板表面液膜的完整性检测方法、装置、设备及存储介质，该方法包括：控制图像采集设备与目标基板相对移动，并在移动过程中利用图像采集设备采集目标基板的不同液膜涂覆区域的图像，直至遍历目标基板的所有液膜涂覆区域；基于所采集的图像进行完整性分析，得到目标基板的完整性检测结果。本发明通过移动扫描图像的方式，能够有效提高基板表面液膜的完整性检测的准确性。
-
公开(公告)号：CN116929018A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202311054392.5
申请日：2023-08-21
申请人： 北京晶亦精微科技股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种具液膜厚度调节装置的干燥腔室及液膜厚度调节方法，具液膜厚度调节装置的干燥腔室包括干燥腔、主动模块、以及装设于干燥腔内的从动模块；主动模块包括电机以及主磁性转子组件，主磁性转子组件与干燥腔的底壁间隙设置；从动模块包括转动装设于干燥腔的底壁上的副磁性转子组件，副磁性转子组件与主磁性转子组件相对设置，副磁性转子组件上远离主磁性转子组件的一端固定连接有锁紧装置，锁紧装置适于锁紧待干燥元件，主动模块包括工作状态和非工作状态，在工作状态，电机驱动主磁性转子组件转动，转动的主磁性转子组件驱动副磁性转子组件转动，以带动锁紧装置、待干燥元件转动。可提高待干燥元件上液膜厚度一致性和干燥效果。
-
公开(公告)号：CN220567750U
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202322249435.7
申请日：2023-08-21
申请人： 北京晶亦精微科技股份有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种具液膜厚度调节装置的干燥腔室，干燥腔室包括干燥腔、位于干燥腔外的主动模块、以及装设于干燥腔内的从动模块；主动模块包括电机以及主磁性转子组件，主磁性转子组件与干燥腔底壁间隙设置；从动模块包括转动装设于干燥腔的底壁上的副磁性转子组件，副磁性转子组件与主磁性转子组件相对设置，副磁性转子组件上远离主磁性转子组件的一端固定连接有锁紧装置，锁紧装置适于锁紧待干燥元件，主动模块包括工作状态和非工作状态，在工作状态，电机驱动主磁性转子组件转动，转动的主磁性转子组件驱动副磁性转子组件转动，以带动锁紧装置、待干燥元件转动。可提高待干燥元件上液膜厚度一致性和干燥效果。
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
9 条记录 (耗时 0.045 秒)
