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公开(公告)号:CN103030648A
公开(公告)日:2013-04-10
申请号:CN201210557723.2
申请日:2012-12-20
申请人: 华北制药河北华民药业有限责任公司
IPC分类号: C07D499/46 , C07C233/05 , C07D499/04 , C07D499/18 , C07C231/24
摘要: 本发明公开了一种青霉素G亚砜DMA复合晶体及其制备方法。该复合晶体的分子式C20H27N3O6S,分子量437.5。其制备方法包括以下步骤:(a)将青霉素G亚砜溶解在DMA溶液中或含有DMA的水溶液中或含有DMA的混合有机溶液中;(b)将上述含有青霉素G亚砜和DMA的溶液降温,使青霉素G亚砜及DMA逐步达到饱和或过饱和状态,析出晶体;将晶体进行分离、干燥后,即得青霉素G亚砜DMA复合晶体。本发明所提供的复合晶体稳定性好,不含会破坏酯化保护反应的杂质,对酯化保护和扩环重排反应极为有利,提高了扩环重排反应的收率和产品质量。