公开(公告)号：CN115698859A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202180020492.9

申请日：2021-02-11

申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

发明人： A.拉巴 ,  J.利珀特 ,  M.拉布

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B7/185 ,  H10N30/50 ,  G02B26/00

摘要： 本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备的光学装配件(30)，其包括光学元件(31)和用于使光学元件(31)变形的致动器(33)，其中由存在的控制器向致动器(33)施加偏压。此外，本发明涉及用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，其包括根据前述权利要求中任一项的光学装配件(30)，以及涉及一种用于操作致动器(33)以使用于半导体光刻的光学元件(31)变形的方法，其中由存在的控制器向致动器(33)施加偏压。

公开(公告)号：CN115398344A

公开(公告)日：2022-11-25

申请号：CN202180024578.9

申请日：2021-02-08

申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

发明人： M.曼格 ,  M.拉布

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B26/08

摘要： 一种光学系统(200)包括至少一个反射镜(210)以及至少一个致动器装置(220)，该反射镜(210)具有反射镜主体(212)和反射镜表面(214)，该至少一个致动器装置(220)耦合到反射镜主体(212)且用于使反射镜表面(214)变形。致动器装置(220)包括：至少一个电致伸缩致动器元件(222)，用于在反射镜主体(212)中生成用于取决于电驱动电压(VS)使反射镜表面(214)变形的机械应力；至少一个电致伸缩传感器元件(224)，用于取决于传感器元件(224)的变形输出传感器信号(SS)，其中至少一个传感器元件(224)布置成直接相邻于致动器元件(222)，和/或布置成使得至少一个传感器元件(224)至少部分地配置用于将致动器元件(222)生成的机械应力转移到反射镜主体(212)。