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公开(公告)号：CN113134783A
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN202110049486.8
申请日：2021-01-14
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: B24B37/04 , B24B37/10 , B24B37/20 , B24B37/34 , H01L21/306
Abstract: 本公开提供一种化学机械平坦化设备。化学机械平坦化设备包括一多区域平台包括多个独立控制的同心超环形。每个同心超环形的旋转方向、旋转速度、作用力、相对高度和温度都是单独控制的。同心研磨垫固定到在每个单独控制的同心超环形的一上表面。化学机械平坦化设备包括一单一中心浆料源或包括用于每个单独控制的同心超环形的单独浆料源。
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公开(公告)号：CN110970392A
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201910922907.6
申请日：2019-09-27
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L23/528 , H01L23/532 , H01L21/768
Abstract: 半导体器件包括位于衬底上方的第一介电层，第一介电层包括从第一介电层的远离衬底的第一侧延伸到第一介电层的与第一侧相对的第二侧的第一介电材料；第二介电层，位于第一介电层上方；导线，位于第一介电层中，导线包括第一导电材料，导线的上表面比第一介电层的上表面更靠近衬底；金属帽，位于第一介电层中，金属帽位于导线上方并物理连接至导线，金属帽包括与第一导电材料不同的第二导电材料；以及通孔，位于第二介电层中并且物理连接到金属帽，该通孔包括第二导电材料。本发明的实施例还涉及一种形成半导体器件的方法。
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公开(公告)号：CN112518570A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN202010979519.4
申请日：2020-09-17
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 一种化学机械研磨系统，包括一研磨垫，配置以研磨一基板。化学机械研磨系统还包括一加热系统，配置以调节研磨垫的温度。加热系统包括与研磨垫间隔开的至少一加热元件。化学机械研磨系统还包括一感应器，配置以测量研磨垫的温度。
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公开(公告)号：CN110957298A
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201910909554.6
申请日：2019-09-25
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L23/528 , H01L23/532 , H01L21/768
Abstract: 根据本申请的实施例，提供了半导体结构及其形成方法。本公开描述了保护金属互连结构免受用于在金属互连结构上方形成其它金属结构的随后化学机械抛光工艺损坏的技术。使金属互连结构凹陷以在金属互连结构和周围介电层之间形成凹槽。在凹槽内形成金属覆盖结构。使介电层的上部变形以包括拉伸应力，该拉伸应力使介电层相对于金属覆盖结构扩展，以减小或消除金属覆盖结构与介电层之间的界面中的间隙。
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公开(公告)号：CN110938408A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201910882243.5
申请日：2019-09-18
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: C09K3/14 , H01L21/768
Abstract: 本发明实施例描述一种金属表面化学机械研磨技术。在金属化学机械研磨浆料中包含一种络合剂或胶束。在化学机械研磨浆料中包含与氧化剂键结的络合剂，以在组合体的核心形成与氧化剂分子的络合物，例如超分子组合体，且前述氧化剂分子被络合剂分子包围。形成的络合物具有增大的尺寸。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118528168A
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202410216063.4
申请日：2024-02-27
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 根据一些实施例提供一种半导体装置和抛光垫的形成方法以及化学机械抛光装置。化学机械抛光装置包括抛光垫。抛光垫包括多个第一垫部分的堆叠和多个第二垫部分的堆叠。第一垫部分和第二垫部分具有不同的硬度。第一垫部分的堆叠和第二垫部分的堆叠排列有对应于将由化学机械抛光装置抛光的结构的预定特征的图案。预定特征可包括待抛光结构的表面轮廓或材料。
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公开(公告)号：CN110957298B
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN201910909554.6
申请日：2019-09-25
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L23/528 , H01L23/532 , H01L21/768
Abstract: 根据本申请的实施例，提供了半导体结构及其形成方法。本公开描述了保护金属互连结构免受用于在金属互连结构上方形成其它金属结构的随后化学机械抛光工艺损坏的技术。使金属互连结构凹陷以在金属互连结构和周围介电层之间形成凹槽。在凹槽内形成金属覆盖结构。使介电层的上部变形以包括拉伸应力，该拉伸应力使介电层相对于金属覆盖结构扩展，以减小或消除金属覆盖结构与介电层之间的界面中的间隙。
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公开(公告)号：CN110957217A
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201910921765.1
申请日：2019-09-27
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/321 , C09K3/14
Abstract: 本公开描述研磨浆的形成方法及用于制造半导体装置的化学机械研磨工艺的方法。这些方法可对包含有着向下连接至半导体基底的钌接触插塞的积体接触结构的半导体装置来进行。研磨浆可透过将第一研磨剂、第二研磨剂、反应物及溶剂混合来形成。第一研磨剂可包含第一微粒，第一微粒包含二氧化钛粒子，且第二研磨剂可包含不同于第一微粒的第二微粒。研磨浆可用于从工件的表面移除钌材料及介电材料的化学机械研磨工艺，以实现用于平坦轮廓的表面的较好的裸片内装载及平坦化。
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公开(公告)号：CN118528175A
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202410248696.3
申请日：2024-03-05
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: B24B49/16 , H01L21/67 , B24B41/00 , G06V10/764
Abstract: 本揭露的一些实施例提供一种化学机械平坦化工具、监控缺陷系统与其方法，是有关一个化学机械平坦化工具以及平坦化基板的方法。特别而言，本揭露的一些实施例是有关一个用于在化学机械平坦化工具里的研磨步骤与清洁步骤中辨认化学机械平坦化造成的缺陷的临场缺陷数据分析工具。在一些实施方式中，化学机械平坦化工具包括一个人工智能辅助的缺陷数据库。缺陷数据库可以被用来在研磨或清洁过程中辨认及分类化学机械平坦化相关的缺陷，例如刮痕、残留的研磨液。因此，化学机械平坦化工艺的缺陷警告周期被显著地改善。
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公开(公告)号：CN110938408B
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN201910882243.5
申请日：2019-09-18
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: C09K3/14 , H01L21/768
Abstract: 本发明实施例描述一种金属表面化学机械研磨技术。在金属化学机械研磨浆料中包含一种络合剂或胶束。在化学机械研磨浆料中包含与氧化剂键结的络合剂，以在组合体的核心形成与氧化剂分子的络合物，例如超分子组合体，且前述氧化剂分子被络合剂分子包围。形成的络合物具有增大的尺寸。
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