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公开(公告)号:CN101335193A
公开(公告)日:2008-12-31
申请号:CN200810130616.5
申请日:2008-06-25
申请人: 因特瓦克公司
CPC分类号: H01J37/321 , H01J37/32091 , H01J37/32165
摘要: 一种具有解耦等离子体控制的混合蚀刻室和用于改善对等离子体参数的控制的方法。该等离子体室包括向等离子体电容耦合RF能量的双频偏压源和向等离子体电感耦合RF能量的单频或双频源。可以调制该电感源以改善蚀刻的均匀性。