公开(公告)号：CN108780744A

公开(公告)日：2018-11-09

申请号：CN201680081336.2

申请日：2016-03-24

申请人： 国立大学法人九州大学 ,  极光先进雷射株式会社

发明人： 池上浩 ,  大久保智幸 ,  若林理

IPC分类号： H01L21/268 ,  H01L21/20

CPC分类号： H01L21/324 ,  B23K26/0604 ,  B23K26/064 ,  B23K26/0738 ,  H01L21/02356 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/20 ,  H01L21/2636 ,  H01L21/268

摘要： 激光退火装置具备：CW激光装置，其输出对非晶硅进行预热的CW激光，该CW激光是基于连续振荡的激光；脉冲激光装置，其对已被进行了预热的非晶硅输出脉冲激光；光学系统，其将CW激光和脉冲激光引导至非晶硅；以及控制部，其控制CW激光的照射能量密度，以便将非晶硅预热至低于熔点的规定的目标温度，并且控制脉冲激光的注量和脉冲数中的至少一方，以使被进行了预热的非晶硅结晶。

公开(公告)号：CN107251341A

公开(公告)日：2017-10-13

申请号：CN201580075815.9

申请日：2015-03-16

申请人： 国立大学法人九州大学 ,  极光先进雷射株式会社

发明人： 大久保智幸 ,  池上浩 ,  柿崎弘司 ,  上场康弘 ,  若林理

IPC分类号： H01S3/00 ,  H01L21/20 ,  H01L21/268 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/23

摘要： 一种激光系统，其是作为对被加工物照射脉冲激光的激光退火装置的光源的激光系统，该激光系统可以具备：生成脉冲激光的激光装置；能够改变脉冲激光的脉冲时间波形的脉冲时间波形可变装置；以及从激光退火装置接收脉冲时间波形生成参数，对脉冲时间波形可变装置进行控制的控制部。

公开(公告)号：CN108780744B

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN201680081336.2

申请日：2016-03-24

申请人： 国立大学法人九州大学 ,  极光先进雷射株式会社

发明人： 池上浩 ,  大久保智幸 ,  若林理

IPC分类号： H01L21/268 ,  H01L21/20

摘要： 激光退火装置具备：CW激光装置，其输出对非晶硅进行预热的CW激光，该CW激光是基于连续振荡的激光；脉冲激光装置，其对已被进行了预热的非晶硅输出脉冲激光；光学系统，其将CW激光和脉冲激光引导至非晶硅；以及控制部，其控制CW激光的照射能量密度，以便将非晶硅预热至低于熔点的规定的目标温度，并且控制脉冲激光的注量和脉冲数中的至少一方，以使被进行了预热的非晶硅结晶。

公开(公告)号：CN304780020S

公开(公告)日：2018-08-21

申请号：CN201830008263.6

申请日：2018-01-09

申请人： 极光先进雷射株式会社

设计人： 大久保智幸

摘要： 1．本外观设计产品的名称：脉冲生成装置。
2．本外观设计产品的用途：用于受激准分子激光装置的脉冲电流生成。
3．本外观设计的设计要点：在于产品的形状。
4．最能表明设计要点的图片或者照片：立体图。