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公开(公告)号：CN118908227A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202410974567.2
申请日：2024-07-19
申请人： 大连理工大学滇西产业发展研究院 , 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种多场协同辅助高纯石英砂气液包裹体深度去除装备，包括机架、工作台机构、超声振动台、装料机构、控制系统、激光和红外光系统、旋转伸缩主轴和温控系统。本发明设计的装备通过温度场的作用，使石英砂保持高能量状态，通过超声场的作用，使石英砂间产生碰撞摩擦并进一步提升内部活化能，通过红外光场的作用，进一步提升气液包裹体的内能，再通过激光场对石英砂瞬间的激化，促进含有气液包裹体的石英砂从内部炸裂。多场协同作用增加石英砂颗粒爆裂的概率，使气液包裹体从中溢出，既增加了气液包裹体去除的效果，又提升了去除的效率，从根本上实现高纯石英砂气液包裹体高质高效深度去除的目标。
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公开(公告)号：CN118908228A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202410974568.7
申请日：2024-07-19
申请人： 大连理工大学滇西产业发展研究院 , 大连理工大学
IPC分类号： C01B33/12
摘要： 本发明提供了一种多场耦合辅助高纯石英砂杂质深度去除方法，通过温度场、超声场、红外光场和激光场多场协同作用，以及冷淬作用，增加含有气液包裹体的石英砂颗粒从内部爆裂的概率，使气液包裹体充满从石英砂中溢出。再利用温度场、超声场和搅拌产生的流场辅助进行碱洗和酸洗，形成多场耦合作用清洗，从深层次的对杂质包括气液包裹体进行去除，并提升了杂质去除的效率。所用的碱洗液和酸洗液均为绿色环保型溶液，不含强酸强碱和有毒物质，不会对人体和环境造成较大危害，符合当前绿色制造理念。
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公开(公告)号：CN115739797B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202211386710.3
申请日：2022-11-07
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学滇西产业发展研究院
摘要： 本发明属于硅单晶制造技术领域，涉及一种绿色环保可复用硅料清洗液及其制备方法和清洗工艺；所述硅料清洗液包括1#清洗液和2#清洗液；1#清洗液包括基底和氧化层腐蚀剂；2#清洗液包括pH调节剂、氧化剂、基底；硅料清洗液不含任何强酸强碱成分，极大改善了操作人员的工作环境，降低了对操作人员的健康威胁；硅料清洗液对硅料腐蚀性低且可复用，降低了对硅料和清洗液的消耗，降低成本；硅料清洗液组成成分绿色环保，对环境污染小，简单处理后即可进行排放，降低废物废液处理成本；清洗工艺依次清洗去除表面颗粒、无机盐、氧化层、金属污染物、有机物，改进了现有工艺繁琐、冗杂的清洗方式，提高清洗效率，具有广阔的研究价值和工业应用前景。
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公开(公告)号：CN115739797A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211386710.3
申请日：2022-11-07
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学滇西产业发展研究院
摘要： 本发明属于硅单晶制造技术领域，涉及一种绿色环保可复用硅料清洗液及其制备方法和清洗工艺；所述硅料清洗液包括1#清洗液和2#清洗液；1#清洗液包括基底和氧化层腐蚀剂；2#清洗液包括pH调节剂、氧化剂、基底；硅料清洗液不含任何强酸强碱成分，极大改善了操作人员的工作环境，降低了对操作人员的健康威胁；硅料清洗液对硅料腐蚀性低且可复用，降低了对硅料和清洗液的消耗，降低成本；硅料清洗液组成成分绿色环保，对环境污染小，简单处理后即可进行排放，降低废物废液处理成本；清洗工艺依次清洗去除表面颗粒、无机盐、氧化层、金属污染物、有机物，改进了现有工艺繁琐、冗杂的清洗方式，提高清洗效率，具有广阔的研究价值和工业应用前景。
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公开(公告)号：CN115365995B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202210908550.8
申请日：2022-07-29
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明提供一种大尺寸石英坩埚非圆曲面化学机械磨抛一体化装备，包括：坩埚固定吸盘夹具、磨抛盘、浮动主轴、法兰盘、主轴旋转系统、主轴组件、主轴上下移动系统、机架、操作系统、抛光液滴加系统。本发明设计的装备通过坩埚固定吸盘夹具保证坩埚的定位精度，通过主轴旋转和上下移动实现磨抛盘进行上下和旋转运动，实现了对坩埚内壁同时进行的高精度打磨和抛光，同时通过液压伸缩模块调整磨抛轮和坩埚内壁之间的挤压作用力，配合超声辅助，实现了坩埚内壁尤其是大尺寸坩埚非圆曲面内壁的高质高效化学机械磨抛。
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公开(公告)号：CN116330141A
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202310199175.9
申请日：2023-03-03
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明提供一种金属复杂曲面超声热能辅助化学机械抛光装备与工艺方法。由横梁、滑枕、X轴卧式导轨、抛光设备壳体、控制系统、抛光装置及热能辅助装置、超声辅助装置、主轴箱、Z轴立式导轨组成，横梁连接Z轴立式导轨及主轴箱；横梁的底端滑动连接在滑枕上。抛光设备壳体容纳抛光装置及热能辅助装置；控制系统控制抛光装置及热能辅助装置、超声辅助装置及主轴箱的状态；抛光装置进行工件的化学机械抛光过程；热能辅助装置改变化学机械抛光过程中的抛光温度；超声辅助装置实现主轴部分的超声振动；Z轴立式导轨连接主轴箱，实现主轴Z方向移动。本发明基于化学机械抛光原理及多能场耦合作用，待加工表面同时进行抛光处理，加工效率高，均匀性好。
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公开(公告)号：CN112139859A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010992961.0
申请日：2020-09-21
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明提供了一种无水抛光KDP晶体的方法，实现了KDP晶体材料的高精高效抛光。无水抛光过程分为粗抛光和细抛光，无水抛光液成分包括油酸甲酯、碳化硅/氧化铝混合磨粒和无水碳酸钠，分为无水粗抛光液和无水细抛光液，无水粗抛光液和无水细抛光液之间的区别体现在油酸甲酯粘度、碳化硅/氧化铝混合磨粒的配比、粒径及浓度、无水碳酸钠粒径及浓度。与其他KDP晶体抛光方法相比，无水抛光KDP晶体的方法所用的抛光液化学试剂无毒低害，绿色环保，抛光过程中有效地避免了KDP晶体接触水发生潮解使晶体破坏的现象产生，并有效提高了KDP晶体表面的加工质量。
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公开(公告)号：CN115650478A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202211229311.6
申请日：2022-10-09
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明提供一种复合型化学机械抛光和抛光液循环处理一体化的设备及处理方法，设备包括：复合型化学机械抛光装置，包括抛光盘、抛光垫、载物台、施压器、抛光液滴加器、液体存放盘、光源、直流电源、红外测温仪和废液出水管；废液循环处理系统，包括沉淀室、化合室、生曝室、光化室、固废室及磨粒回收机构。本发明加装光电催化装置，协助材料去除。在复合型化学机械抛光装置上连接抛光废液及清洗液的循环处理系统，实现磨粒的循环使用及零排放的目标。绿色抛光废液的处理循环系统，由沉淀装置、磨粒收集、生化装置及光化学催化装置等连接组成，采用物理沉降法、化学絮凝法、生物分解法及光能转化法对抛光废液进行循环收集处理。
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公开(公告)号：CN113857588A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202111210384.6
申请日：2021-10-18
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明属于齿轮加工设备技术领域，公开了一种直齿圆柱齿轮齿形加工方法和装置。加工装置包括联动装置、水射流喷射装置、齿形成形刀具、转换装置、加工废料收集装置、工作台、定位装置、压紧装置和防护装置，联动装置为三轴联动机构，水射流喷射装置和齿形成形刀具由转换装置控制与联动装置连接，工作台上开有漏液槽，定位装置包括卡盘、活动卡爪和伸缩式防护罩，压紧装置包括螺杆、压盘和锁紧螺母。本发明同时提供了一种快速成形粗加工和一次成形精加工相结合的齿形加工方法。本发明提供的加工方法和装置，可实现对一组齿轮毛坯件同时加工，在提高齿形精度和质量均匀性的同时能大大提升生产效率。
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公开(公告)号：CN112461263A
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN202011316672.5
申请日：2020-11-20
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明提供一种金刚石陀螺谐振子纳米制造方法，属于难加工材料超精密加工领域。激光装置的激光脉冲频率在1‑500kHz可调，脉冲宽度在5‑300ps可调，激光斑点直径在5‑40μm可调，功率在0‑100W可调，可同时实现粗加工和精加工；纳米移动平台装置，能够实现X，Y，Z三坐标轴的移动和绕Z轴的转动，移动精度小于10nm，转动精度小于0.02°；原位在线检测装置利用激光干涉仪对加工质量进行原位检测；镀膜装置采用离子镀；聚焦离子束装置，加速电压在2‑30kV可调，电流在20pA‑50nA可调；本发明提供一种金刚石超硬材料复杂结构的纳米制造装备，实现金刚石陀螺谐振子纳米级精度制造。
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