-
公开(公告)号：CN101276770A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810087937.1
申请日：2008-03-25
申请人： 奥林巴斯株式会社
CPC分类号： G01N21/9503 , G01N21/8806
摘要： 本发明提供外观检查装置，外观检查装置具有对晶片的周缘部进行照明的上部照明、下部照明、侧部照明、一对斜照明、一对棒照明，明亮地对晶片的周缘部进行照明。在上部照明中形成有间隙，通过该间隙来投射反射照明部的照明光。反射照明部的照明光由第1反射镜折回，对晶片的周缘部进行照明。根据需要使第2反射镜共同工作，由此改变照明位置。周缘部的像利用与反射照明部同轴配置的摄像部来取得。
-
公开(公告)号：CN1670940A
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN200510055853.6
申请日：2005-03-15
申请人： 奥林巴斯株式会社
发明人： 仓田俊辅
IPC分类号： H01L21/66 , G06T7/00 , G01B11/00 , G01N21/956
CPC分类号： G01N21/9501
摘要： 本发明提供一种观察装置和观察方法，观察装置具有：转换器(5)，安装有倍率不同的多个物镜(25)；物镜切换单元(27)，使转换器(5)动作来切换要插入到观察光路内的物镜(25)；载物台(9)，与插入到观察光路内的物镜(25)对置设置，用于放置基板(S)；物镜检测单元(31)，检测插入到观察光路内的物镜(25)的倍率；移动单元(11、13、15)，使物镜(25)和载物台(9)向观察光路的光轴(L1)方向和光轴(L1)的正交方向相对移动；以及移动控制单元(33)，当物镜检测单元(31)检测出高倍率的物镜(25)时，限制通过移动单元(13、15)的物镜(25)和载物台(9)向正交方向的相对移动。
-
公开(公告)号：CN101276770B
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200810087937.1
申请日：2008-03-25
申请人： 奥林巴斯株式会社
CPC分类号： G01N21/9503 , G01N21/8806
摘要： 本发明提供外观检查装置，外观检查装置具有对晶片的周缘部进行照明的上部照明、下部照明、侧部照明、一对斜照明、一对棒照明，明亮地对晶片的周缘部进行照明。在上部照明中形成有间隙，通过该间隙来投射反射照明部的照明光。反射照明部的照明光由第1反射镜折回，对晶片的周缘部进行照明。根据需要使第2反射镜共同工作，由此改变照明位置。周缘部的像利用与反射照明部同轴配置的摄像部来取得。
-
公开(公告)号：CN100477142C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200510134041.0
申请日：2005-12-26
申请人： 奥林巴斯株式会社
CPC分类号： G05B19/41875 , G05B19/41865 , G05B2219/32097 , G05B2219/32206 , G05B2219/37224 , G05B2219/45031 , Y02P90/20 , Y02P90/22
摘要： 用于检验半导体晶片的方法和装置。晶片检验装置包括：规程准备单元，其将针对各类型的多个原始规程中的对应一个批分配给包含各类型晶片的多个槽，所述多个原始规程分别对应于不同类型的晶片，以基于所述多个原始规程来准备实际规程，并根据所述实际规程来检验不同类型的晶片。
-
公开(公告)号：CN1819134A
公开(公告)日：2006-08-16
申请号：CN200510134041.0
申请日：2005-12-26
申请人： 奥林巴斯株式会社
CPC分类号： G05B19/41875 , G05B19/41865 , G05B2219/32097 , G05B2219/32206 , G05B2219/37224 , G05B2219/45031 , Y02P90/20 , Y02P90/22
摘要： 用于检验半导体晶片的方法和装置。晶片检验装置包括：规程准备单元，其将针对各类型的多个原始规程中的对应一个批分配给包含各类型晶片的多个槽，所述多个原始规程分别对应于不同类型的晶片，以基于所述多个原始规程来准备实际规程，并根据所述实际规程来检验不同类型的晶片。
-
公开(公告)号：CN100483615C
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200510069459.8
申请日：2005-05-09
申请人： 奥林巴斯株式会社
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67745 , H01L21/67161
摘要： 本发明提供一种基片处理装置，其特征在于，具有：容纳体安装部，其可以安装能容纳多块基片的多个容纳体；处理装置主体，其对从所述容纳体取出的所述基片进行处理；搬送部，其在所述多个容纳体与所述处理装置主体之间搬送所述基片，并具有所述容纳体安装部；处理用控制部，其控制所述搬送部，使所述基片在所述多个容纳体与所述处理装置主体之间搬送；移送用控制部，其控制所述搬送部，使所述基片不经由所述处理装置主体，从所述多个容纳体中的一个容纳体移送到所述多个容纳体中的另一个容纳体。根据本发明的基片处理装置，由于可以将基片从一个容纳体移送到另一个容纳体，因此，不必另行设置基片移送装置，可以谋求削减工厂内的设备投资成本。
-
公开(公告)号：CN101019058A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200580030806.4
申请日：2005-09-13
申请人： 奥林巴斯株式会社
CPC分类号： G02B21/247
摘要： 本发明提供一种带焦点位置控制机构的观察装置。本发明的显微镜用AF装置(1)具有：观察光学系统(6)，其通过多个可换的物镜(2)中的一个，将照明光照射到被检体(3)上，并具有用于观察来自该被检体(3)的反射光的CCD(摄像元件)(5)；焦点检测光学系统(10)，其用于检测物镜(2)与被检体(3)的相对距离，并具有：投光部(7)和光电探测器(光电变换部)(8)，该投光部(7)将激光(非可见光)通过观察光学系统(6)的物镜(2)照射到被检体(3)上，该光电探测器(8)配置在由被检体(3)反射后的激光的光学像的像面上，并输出与光学像的像面内位置对应的信号；被检体位置调节装置(11)，其根据来自焦点检测光学系统(10)的输出信号，调节被检体(3)的聚焦位置；光圈装置(12)，其在CCD(5)的摄像范围内调节激光的投光范围。
-
公开(公告)号：CN100570341C
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200510135032.3
申请日：2005-12-21
申请人： 奥林巴斯株式会社
IPC分类号： G01N21/956 , G01N21/958
CPC分类号： G02B21/245
摘要： 一种图像检查装置。在图像检查装置中，即使被检查体的种类或制造工序等发生变化，也能够将自动聚焦的对焦位置校正为恰当的位置，可提高检查效率。为进行自动聚焦，从对焦位置检测部(102)通过颜色校正单元(103)、物镜(11)，将检测光(70)照射到基板(1)上，通过由光检测器(36)检测该反射光的位置，而检测出第1目标对焦位置。另一方面，在存储于存储部(3)中的明细中，存储有使第1目标对焦位置偏移的偏移值。并且，根据偏移值而移动颜色校正透镜组(31)的位置，设定到第2目标对焦位置，朝着该处驱动试样移动台(17)。
-
公开(公告)号：CN1800836A
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN200510135032.3
申请日：2005-12-21
申请人： 奥林巴斯株式会社
IPC分类号： G01N21/956 , G01N21/958
CPC分类号： G02B21/245
摘要： 一种图像检查装置。在图像检查装置中，即使被检查体的种类或制造工序等发生变化，也能够将自动聚焦的对焦位置校正为恰当的位置，可提高检查效率。为进行自动聚焦，从对焦位置检测部(102)通过颜色校正单元(103)、物镜(11)，将检测光(70)照射到基板(1)上，通过由光检测器(36)检测该反射光的位置，而检测出第1目标对焦位置。另一方面，在存储于存储部(3)中的明细中，存储有使第1目标对焦位置偏移的偏移值。并且，根据偏移值而移动颜色校正透镜组(31)的位置，设定到第2目标对焦位置，朝着该处驱动试样移动台(17)。
-
公开(公告)号：CN1697129A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：CN200510069459.8
申请日：2005-05-09
申请人： 奥林巴斯株式会社
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67745 , H01L21/67161
摘要： 本发明提供一种基片处理装置，其特征在于，具有：容纳体安装部，其可以安装多个能容纳多块基片的容纳体；处理装置主体，其对从所述容纳体取出的所述基片进行处理；搬送部，其在所述容纳体与所述处理装置主体之间搬送所述基片；处理用控制部，其控制所述搬送部，使所述基片在所述容纳体与所述处理装置主体之间搬送；移送用控制部，其控制所述搬送部，使所述基片不经由所述处理装置主体，从一个容纳体移送到另一个容纳体。根据本发明的基片处理装置，由于可以将基片从一个容纳体移送到另一个容纳体，因此，不必另行设置基片移送装置，可以谋求削减工厂内的设备投资成本。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
10 条记录 (耗时 0.03 秒)