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公开(公告)号：CN110543065A
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201910701226.7
申请日：2019-07-31
申请人： 富乐德科技发展(大连)有限公司
IPC分类号： G03B15/00
摘要： 一种用于半导体设备化学机械研磨头维修再生的设备，属于半导体设备研磨头维修再生设备领域。包括定位拍照板、支撑机构、导轨、滑块和底座；所述底座底部的两侧分别设有滑块，滑块位于相应的导轨上，导轨一端位于支撑机构内，支撑机构包括多个下支架，下支架通过升降螺杆与上支架连接，上支架上安装定位拍照板。本发明通过导轨和底座移动部品可以准确的对部品进行定位，定位拍照板能够保证每次拍照距离一致，定位拍照板上的标号可以便于对四等分照片进行顺序拼接并且便于找到问题区域位置。
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公开(公告)号：CN110434116A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201910700571.9
申请日：2019-07-31
申请人： 富乐德科技发展(大连)有限公司
摘要： 本发明公开了一种自动气泡清洗系统，包括：相连通的上槽体和下槽体，在下槽体中设有清洗设备，所述清洗设备，包括出气管、清洗板、支撑板，在清洗板上设有多排清洗孔，在清洗板底面分布有多个支撑板，支撑板上设有通过孔，多个出气管位于相应的通过孔中，每个出气管底面均开设有多个出气孔。该系统能将部品上的大型颗粒去除，并且去除效果较好，清洗时间大大降低，使用方便，现场生产效率得到大大提升。
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公开(公告)号：CN110543065B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN201910701226.7
申请日：2019-07-31
申请人： 富乐德科技发展(大连)有限公司
IPC分类号： G03B15/00
摘要： 一种用于半导体设备化学机械研磨头维修再生的设备，属于半导体设备研磨头维修再生设备领域。包括定位拍照板、支撑机构、导轨、滑块和底座；所述底座底部的两侧分别设有滑块，滑块位于相应的导轨上，导轨一端位于支撑机构内，支撑机构包括多个下支架，下支架通过升降螺杆与上支架连接，上支架上安装定位拍照板。本发明通过导轨和底座移动部品可以准确的对部品进行定位，定位拍照板能够保证每次拍照距离一致，定位拍照板上的标号可以便于对四等分照片进行顺序拼接并且便于找到问题区域位置。
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公开(公告)号：CN210072283U
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201921224178.9
申请日：2019-07-31
申请人： 富乐德科技发展(大连)有限公司
摘要： 一种针对半导体设备研磨头的定位拍照装置，属于半导体设备研磨头维修再生设备领域。包括定位拍照板、支撑机构、导轨、滑块和底座；所述底座底部的两侧分别设有滑块，滑块位于相应的导轨上，导轨一端位于支撑机构内，支撑机构包括多个下支架，下支架通过升降螺杆与上支架连接，上支架上安装定位拍照板。本实用新型通过导轨和底座移动部品可以准确的对部品进行定位，定位拍照板能够保证每次拍照距离一致，定位拍照板上的标号可以便于对四等分照片进行顺序拼接并且便于找到问题区域位置。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN209829724U
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201920540856.6
申请日：2019-04-19
申请人： 富乐德科技发展(大连)有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种半导体氮化钛气相沉积装置上端罩洗净浸泡治具，包括浸泡治具本体、圆形立柱、支腿、侧壁加强筋板、挂钩、销钉、顶端盖和排液管；所述浸泡治具本体为中空结构，在中空结构内设有圆形立柱；在浸泡治具本体底部四周设有支腿，所述侧壁加强筋板位于浸泡治具本体的侧板外壁中部；所述浸泡治具本体其中一组相对设置的侧板内壁上部设有挂钩，所述挂钩与销钉插拔式相连，销钉位于相应的侧板外壁上部，所述浸泡治具本体底部通过阀门连接有排液管，所述顶端盖盖在浸泡治具本体上。由于该治具的使用，节省了大量的酸碱溶液，现场作业拿取方便，大大的增加了生产效率。
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公开(公告)号：CN209785875U
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201920954936.6
申请日：2019-06-24
申请人： 富乐德科技发展(大连)有限公司
IPC分类号： H01J37/32
摘要： 本实用新型公开了一种半导体设备光刻胶旋转遮蔽罩部件洗净熔射保护治具，属于洗净熔射保护技术领域，包括底座，所述底座为一圆盘状结构，底座中部开设有定位通孔，所述定位通孔内连接有用于固定底部支撑杆的底部螺栓，所述定位通孔的形状与底部螺栓的形状相配合；所述底部支撑杆为一圆柱形结构，其与底座连接的一端开设有螺栓槽，所述底部螺栓同时连接于定位通孔和螺栓槽内；所述底部支撑杆另一端开设有保护杆插槽，所述保护杆插槽内连接有顶部保护杆；保护精度高，可重复利用且不会污染部品。
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公开(公告)号：CN209471942U
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201920539981.5
申请日：2019-04-19
申请人： 富乐德科技发展(大连)有限公司
IPC分类号： H01L21/677
摘要： 一种半导体设备蚀刻装置直插式组件周转治具，属于蚀刻装置周转治具领域。包括挡板、底板、支撑板、可视孔、排出管和集液槽；所述底板上焊接多个挡板，相邻两个挡板的边缘焊接固定，底板与多个挡板构成箱体，挡板上设置有可视孔，底板下部设有与箱体连通的排出管；箱体内顶部设有支撑板，支撑板上设有多个漏孔，支撑板下方为集液槽，集液槽底部有溢流孔。本实用新型的有益效果是降低了直插式组件运输过程中的损坏风险，排除了人工搬运的滑落风险，同时对流出的酸碱成分进行收集，避免腐蚀情况的发生。
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公开(公告)号：CN208592159U
公开(公告)日：2019-03-12
申请号：CN201821176349.0
申请日：2018-07-24
申请人： 富乐德科技发展(大连)有限公司
IPC分类号： B08B3/02
摘要： 本实用新型公开了一种不锈钢喷头部件洗净冲洗专用治具，包括：治具本体，在治具本体内设有一圈密封台a，在密封台a内凹设有一圈密封台b，所述密封台a与密封台b之间设有密封槽，所述密封槽上设有螺栓固定孔，每个螺栓固定孔下面连接有螺母孔；圆形限位凹槽位于密封台b中，在圆形限位凹槽中心部位设有进水槽，进水槽底部设有进水孔。本申请的治具结构简单、成本低、操作方便，提高了清洗效果，保证了产品质量。
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公开(公告)号：CN208517510U
公开(公告)日：2019-02-19
申请号：CN201821176323.6
申请日：2018-07-24
申请人： 富乐德科技发展(大连)有限公司
IPC分类号： C23C4/02
摘要： 本实用新型公开了一种紧固螺丝环部件洗净溶射保护专用治具，包括：上保护罩、下保护罩，所述上保护罩与下保护罩为圆环结构，两个圆环结构的外径相同，下保护罩圆环结构的内径小于上保护罩圆环结构的内径；所述上保护罩圆环结构内部设有凸台a，所述下保护罩圆环结构内部设有凸台b，所述凸台a与凸台b相对设置形成一个容置腔体，待洗净溶射部件的非溶射区域位于容置腔体内部。本实用新型方案具有使用方便，精度高，可重复使用及节省人力、物料成本的特点。
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公开(公告)号：CN208517507U
公开(公告)日：2019-02-19
申请号：CN201821176226.7
申请日：2018-07-24
申请人： 富乐德科技发展(大连)有限公司
IPC分类号： C23C4/02
摘要： 一种钨化硅装置下半端罩部件洗净溶射专用保护治具，属于洗净溶射遮蔽治具领域。包括外保护罩和内保护罩；所述内保护罩为环状结构，环状结构包括依次相连的内壁、上端面和卡板A，所述内壁、上端面和卡板A连接组成沟槽B；所述外保护罩为圆环结构，所述圆环结构包括垂直连接的水平挡板和竖直挡板。本实用新型的治具的材质选用优质不锈钢，能够达到比耐高温胶带更高的耐热性；治具能够提供相对于手工粘贴耐高温胶带进行保护更高的洗净溶射范围精度；治具可以重复利用，只需经过适当的清洗就可以达到再使用的要求；治具表面不会留下残胶和污垢等副产物。
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