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公开(公告)号：CN102741751B
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201180007440.4
申请日：2011-01-28
申请人： 富士胶片株式会社
CPC分类号： G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/035 , H05K3/287 , H05K2201/012
摘要： 本发明公开一种具有优异的耐折性和阻燃性的感光性组合物；一种使用所述感光性组合物的感光性膜；一种感光性层叠体；一种用于形成永久图案的方法；和一种印刷电路板。具体地，本发明公开一种感光性组合物，所述感光性组合物至少含有：感光性聚氨酯树脂；含磷阻燃剂；可聚合化合物；和光聚合引发剂。所述感光性聚氨酯树脂含有烯键式不饱和键基团和羧基，同时具有含有作为重复单元的多元醇基团的聚氨酯骨架。优选的是，所述感光性聚氨酯树脂通过下列方式获得：将聚合物多元醇化合物，二异氰酸酯化合物，在每一个分子中具有两个羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物和在每一个分子中具有两个羟基的羧酸反应。
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公开(公告)号：CN101105631A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：CN200710129075.X
申请日：2007-07-11
申请人： 富士胶片株式会社
摘要： 本发明的目的在于，通过组合规定的聚合性化合物进而在一定范围内调节感光层的感度，提供感度和析像度高、且遮盖膜强度强、密合性出色、防止未曝光膜破裂的效果出色的图案形成材料、以及图案形成装置、以及图案形成方法。本发明的图案形成材料，具有支撑体并且在该支撑体上至少具有感光层而成，该感光层至少含有粘合剂、聚合性化合物、和光聚合引发剂，所述聚合性化合物含有具有双酚骨架的聚合性化合物(a－1)、和分子具有4个以上的反应性基团且分子量为700以上的聚合性化合物(a－2)而成，使所述感光层的曝光的部分的厚度在该曝光和显影后不发生变化的所述曝光中所使用的光的最小能量为0.1～50mJ/cm2。本发明使用了该图案形成材料的图案形成方法也具有所述特征。
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公开(公告)号：CN102445843A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201110252667.7
申请日：2011-08-30
申请人： 富士胶片株式会社
CPC分类号： G03F7/035 , G03F7/0388
摘要： 本发明提供耐折性和阻燃性优异、而且分辨率、绝缘可靠性优异、翘曲被降低了的感光性组合物，还提供使用了该感光性组合物的感光性膜、感光性层叠体、永久图案形成方法和印制电路板。本发明的感光性组合物，至少含有含羧基的感光性聚氨酯树脂、含有磷的阻燃剂、聚合性化合物、和光聚合引发剂，该感光性聚氨酯树脂的树脂聚合物和该聚合性化合物都不含磷原子，该含羧基的感光性聚氨酯树脂的重均分子量为2000～60000，酸值为20mgKOH/g～120mgKOH/g，乙烯性不饱和基当量为0.05mmol/g～3.0mmol/g，而且该感光性聚氨酯树脂在侧链上含有特定的官能团。
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公开(公告)号：CN101142525A
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200580049062.0
申请日：2005-12-26
申请人： 富士胶片株式会社
摘要： 本发明提供一种图案形成材料，其中，具有支撑体和在该支撑体上至少具有的感光层而成，该支撑体的浊度值为5.0％以下，而且该感光层至少含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂，同时所述聚合性化合物包括在分子中具有1个聚合性基的化合物或者在分子中至少具有3个以上聚合性基的化合物，而且在对所述感光层进行曝光显影时，使该感光层的曝光部分的厚度在该曝光及显影后不发生变化的该曝光中使用的光的最小能量为0.1～20mJ/cm2。
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公开(公告)号：CN102741751A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201180007440.4
申请日：2011-01-28
申请人： 富士胶片株式会社
CPC分类号： G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/035 , H05K3/287 , H05K2201/012
摘要： 本发明公开一种具有优异的耐折性和阻燃性的感光性组合物；一种使用所述感光性组合物的感光性膜；一种感光性层叠体；一种用于形成永久图案的方法；和一种印刷电路板。具体地，本发明公开一种感光性组合物，所述感光性组合物至少含有：感光性聚氨酯树脂；含磷阻燃剂；可聚合化合物；和光聚合引发剂。所述感光性聚氨酯树脂含有烯键式不饱和键基团和羧基，同时具有含有作为重复单元的多元醇基团的聚氨酯骨架。优选的是，所述感光性聚氨酯树脂通过下列方式获得：将聚合物多元醇化合物，二异氰酸酯化合物，在每一个分子中具有两个羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物和在每一个分子中具有两个羟基的羧酸反应。
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公开(公告)号：CN101401035A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200680053832.3
申请日：2006-11-08
申请人： 富士胶片株式会社
摘要： 本发明的目的在于提供一种在基板上的抗蚀剂的随动性良好且可以同时实现出色的显影性和蚀刻时的剥离片的微细化的感光性树脂组合物，具有利用该感光性树脂组合物形成的感光层的感光性转印薄膜，以及使用该感光性转印薄膜的可以形成高精细的图案的图案形成方法。为此，该感光性树脂组合物的特征在于，含有粘合剂、聚合性化合物以及光聚合引发剂，熔融粘度在50℃下为40,000～120,000Pa·s，在 70℃下为5,000～20,000Pa·s。本发明提供具有利用该感光性树脂组合物形成的感光层的感光性转印薄膜以及使用该感光性转印薄膜的可以形成高精细的图案的图案形成方法。
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公开(公告)号：CN101263423A
公开(公告)日：2008-09-10
申请号：CN200680033451.9
申请日：2006-09-01
申请人： 富士胶片株式会社
摘要： 本发明提供相对于400～410nm波长的曝光光的感光度分布大致一定且不会被激光曝光时的曝光波长的偏差所影响、图案再现性出色、图案形状的偏差被极度抑制并可以在明室环境下进行处理的感光性组合物等。为此，该感光性组合物等的特征在于，至少含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂、以及增感剂，该增感剂含有至少两种最大吸收波长为340～500nm的增感剂。
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公开(公告)号：CN103650162B
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201280034484.0
申请日：2012-07-17
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： H01L31/049 , B32B27/00 , B32B27/30 , H01L31/048
摘要： 一种太阳电池用聚合物片，其包含依序配置的第1聚合物层、第2聚合物层及聚合物支撑体，所述第1聚合物层含有选自由氟聚合物及硅酮聚合物所组成的组群中的聚合物，所述第1聚合物层与所述第2聚合物层接触，且所述第1聚合物层与所述第2聚合物层的界面的粗糙度(Rz)为0.2μm～3.0μm的范围。
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公开(公告)号：CN103650162A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201280034484.0
申请日：2012-07-17
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： H01L31/049 , B32B27/00 , B32B27/30 , H01L31/048
CPC分类号： H01L31/18 , B32B27/08 , B32B27/18 , B32B27/20 , B32B27/283 , B32B2457/12 , H01L31/049 , Y02E10/52
摘要： 一种太阳电池用聚合物片，其包含依序配置的第1聚合物层、第2聚合物层及聚合物支撑体，所述第1聚合物层含有选自由氟聚合物及硅酮聚合物所组成的组群中的聚合物，所述第1聚合物层与所述第2聚合物层接触，且所述第1聚合物层与所述第2聚合物层的界面的粗糙度(Rz)为0.2μm～3.0μm的范围。
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公开(公告)号：CN103563496A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201280024295.5
申请日：2012-05-17
申请人： 富士胶片株式会社
CPC分类号： C23F11/149 , C23C22/52 , H05K3/285 , H05K2201/0769 , H05K2203/124
摘要： 本发明的目的在于提供一种迁移层形成用处理液，其用以形成抑制配线间的铜离子的迁移，并提升配线间的绝缘可靠性的迁移抑制层。本发明的迁移抑制层形成用处理液是用以形成抑制铜配线或铜合金配线中的离子迁移的迁移抑制层的处理液，其含有唑化合物与水，且溶解氧量为7.0ppm以下。
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