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公开(公告)号：CN110537249A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201880026059.4
申请日：2018-04-13
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/66 , H01L21/3105 , H01L21/321
摘要： 一种在抛光站抛光基板上的层的方法，包含以下动作：于在抛光站抛光期间利用原位监测系统监测所述层，以针对所述层上的多个不同位置产生多个所测得信号；针对多个不同位置中的每一位置，产生所述位置的对厚度的估算测量结果，产生步骤包含通过神经网络处理多个所测得信号；以及以下步骤中的至少一者：基于每一个对厚度的估算测量结果检测抛光终点或修改抛光参数。
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公开(公告)号：CN114342039A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202080062451.1
申请日：2020-08-31
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01J37/32
摘要： 方法和装置提供了用于半导体工艺腔室的等离子体产生。在一些实施例中，由系统产生等离子体，所述系统可以包括：工艺腔室，所述工艺腔室具有至少两个上部微波空腔，所述至少两个上部微波空腔通过具有多个辐射狭槽的金属板与下部微波空腔分离；至少一个微波输入端口，所述至少一个微波输入端口连接到所述至少两个上部微波空腔中的第一上部微波空腔；至少两个微波输入端口，所述至少两个微波输入端口连接到所述至少两个上部微波空腔中的第二上部微波空腔；以及下部微波空腔从所述至少两个上部微波空腔中的两者接收通过金属板中的多个辐射狭槽的辐射，下部微波空腔被配置为形成电场，所述电场在工艺腔室的工艺容积中提供均匀的等离子体分布。
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公开(公告)号：CN113714934A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202110534178.4
申请日：2017-10-05
申请人： 应用材料公司
摘要： 一种用于化学机械抛光的装置包括支撑件和电磁感应监测系统，所述支撑件用于具有抛光表面的抛光垫，所述电磁感应监测系统产生磁场以监测抛光垫正在抛光的基板。电磁感应监测系统包括芯和绕所述芯的一部分卷绕的线圈。芯包括后部、中心柱和环形边缘，所述中心柱在与所述抛光表面正交的第一方向上从所述后部延伸，所述环形边缘平行于所述中心柱地从所述后部延伸并且所述环形边缘围绕所述中心柱且与所述中心柱以一间隙间隔开。所述间隙的宽度小于所述中心柱的宽度，且所述环形边缘的顶表面的表面积比所述中心柱的顶表面的表面积大至少两倍。
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公开(公告)号：CN109906131B
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN201780068642.7
申请日：2017-10-05
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： B24B49/10 , B24B37/013 , H01L21/306
摘要： 一种用于化学机械抛光的装置包括支撑件和电磁感应监测系统，所述支撑件用于具有抛光表面的抛光垫，所述电磁感应监测系统产生磁场以监测抛光垫正在抛光的基板。电磁感应监测系统包括芯和绕所述芯的一部分卷绕的线圈。芯包括后部、中心柱和环形边缘，所述中心柱在与所述抛光表面正交的第一方向上从所述后部延伸，所述环形边缘平行于所述中心柱地从所述后部延伸并且所述环形边缘围绕所述中心柱且与所述中心柱以一间隙间隔开。所述间隙的宽度小于所述中心柱的宽度，且所述环形边缘的顶表面的表面积比所述中心柱的顶表面的表面积大至少两倍。
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公开(公告)号：CN113714934B
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202110534178.4
申请日：2017-10-05
申请人： 应用材料公司
摘要： 一种用于化学机械抛光的装置包括支撑件和电磁感应监测系统，所述支撑件用于具有抛光表面的抛光垫，所述电磁感应监测系统产生磁场以监测抛光垫正在抛光的基板。电磁感应监测系统包括芯和绕所述芯的一部分卷绕的线圈。芯包括后部、中心柱和环形边缘，所述中心柱在与所述抛光表面正交的第一方向上从所述后部延伸，所述环形边缘平行于所述中心柱地从所述后部延伸并且所述环形边缘围绕所述中心柱且与所述中心柱以一间隙间隔开。所述间隙的宽度小于所述中心柱的宽度，且所述环形边缘的顶表面的表面积比所述中心柱的顶表面的表面积大至少两倍。
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公开(公告)号：CN117325073A
公开(公告)日：2024-01-02
申请号：CN202311304395.X
申请日：2018-04-13
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： B24B37/005 , B24B37/34 , H01L21/304 , G06N3/045 , G06N3/0499 , G06N3/048 , G06N3/084
摘要： 一种在抛光站抛光基板上的层的方法，包含以下动作：于在抛光站抛光期间利用原位监测系统监测所述层，以针对所述层上的多个不同位置产生多个所测得信号；针对多个不同位置中的每一位置，产生所述位置的对厚度的估算测量结果，产生步骤包含通过神经网络处理多个所测得信号；以及以下步骤中的至少一者：基于每一个对厚度的估算测量结果检测抛光终点或修改抛光参数。
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公开(公告)号：CN110537249B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN201880026059.4
申请日：2018-04-13
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/66 , H01L21/3105 , H01L21/321
摘要： 一种在抛光站抛光基板上的层的方法，包含以下动作：于在抛光站抛光期间利用原位监测系统监测所述层，以针对所述层上的多个不同位置产生多个所测得信号；针对多个不同位置中的每一位置，产生所述位置的对厚度的估算测量结果，产生步骤包含通过神经网络处理多个所测得信号；以及以下步骤中的至少一者：基于每一个对厚度的估算测量结果检测抛光终点或修改抛光参数。
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公开(公告)号：CN109906131A
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201780068642.7
申请日：2017-10-05
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： B24B49/10 , B24B37/013 , H01L21/306
摘要： 一种用于化学机械抛光的装置包括支撑件和电磁感应监测系统，所述支撑件用于具有抛光表面的抛光垫，所述电磁感应监测系统产生磁场以监测抛光垫正在抛光的基板。电磁感应监测系统包括芯和绕所述芯的一部分卷绕的线圈。芯包括后部、中心柱和环形边缘，所述中心柱在与所述抛光表面正交的第一方向上从所述后部延伸，所述环形边缘平行于所述中心柱地从所述后部延伸并且所述环形边缘围绕所述中心柱且与所述中心柱以一间隙间隔开。所述间隙的宽度小于所述中心柱的宽度，且所述环形边缘的顶表面的表面积比所述中心柱的顶表面的表面积大至少两倍。
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