用于提供均匀气流的设备与方法

    公开(公告)号:CN108796472B

    公开(公告)日:2023-06-30

    申请号:CN201810659433.6

    申请日:2012-10-19

    IPC分类号: C23C16/455 H01L21/205

    摘要: 本发明涉及用于提供均匀气流的设备与方法。提供了一种具有输送通道的气体分配设备,其中输送通道具有一入口端、一出口端与沿着长度而分隔开的多个孔隙。入口端系可连接至一惰性气体源,且出口端系可连接于一真空源。同时提供了一种具有螺旋输送通道、互相缠绕的螺旋输送通道、分流的输送通道、汇合的输送通道、以及成形的输送通道的气体分配设备,其中入口端与出口端系配置以使气体在输送通道内快速交换。

    用于原子层沉积的设备与工艺

    公开(公告)号:CN103415912A

    公开(公告)日:2013-11-27

    申请号:CN201280012307.2

    申请日:2012-03-01

    IPC分类号: H01L21/205

    CPC分类号: C23C16/45551 C23C16/45527

    摘要: 本发明提供包括气体分配板的原子层沉积设备及方法,所述气体分配板包含至少一个气体喷射器单元。每一气体喷射器单元包含多个狭长气体喷射器,所述多个狭长气体喷射器包括至少两个第一反应气体喷射器及至少一个第二反应气体喷射器,所述至少两个第一反应气体喷射器围绕所述至少一个第二反应气体喷射器。本发明也提供包括气体分配板的原子层沉积设备及方法,所述气体分配板具有多个气体喷射器单元。

    用于提供均匀气流的设备与方法

    公开(公告)号:CN107365977B

    公开(公告)日:2023-02-28

    申请号:CN201710650874.5

    申请日:2012-10-19

    IPC分类号: C23C16/455

    摘要: 本发明涉及用于提供均匀气流的设备与方法。提供了一种具有输送通道的气体分配设备,其中输送通道具有一入口端、一出口端与沿着长度而分隔开的多个孔隙。入口端系可连接至一惰性气体源,且出口端系可连接于一真空源。同时提供了一种具有螺旋输送通道、互相缠绕的螺旋输送通道、分流的输送通道、汇合的输送通道、以及成形的输送通道的气体分配设备,其中入口端与出口端系配置以使气体在输送通道内快速交换。