光敏树脂膜及其固化膜
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100589032C

    公开(公告)日:2010-02-10

    申请号:CN200480008907.7

    申请日:2004-03-25

    IPC分类号: G03F7/033 C09D133/04

    摘要: 本发明的呈未固化状态的光敏树脂膜包含(A)一种特殊的碱溶性共聚物,(B)具有至少一个烯键式不饱和双键的化合物,以及(C)一种辐射敏感的自由基聚合引发剂,通过使用该引发剂,呈未固化状态的、干膜厚度为70μm的涂膜在365nm具有不低于10%的辐射透射率,在405nm具有不低于60%的辐射透射率。以100重量份组分(A)计,该光敏树脂膜中的辐射敏感的自由基聚合引发剂(C)的含量为20-40重量份,并且该光敏树脂膜的干膜厚度不低于50μm。根据该光敏树脂膜可容易地在芯片基底上高精度地形成不低于50μm的高凸起,而常规技术难于形成这样的高凸起。此外,还能抑制元件的连接失效并能提高元件的可靠性。

    光敏树脂膜及其固化膜
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1768304A

    公开(公告)日:2006-05-03

    申请号:CN200480008907.7

    申请日:2004-03-25

    IPC分类号: G03F7/033 C09D133/04

    摘要: 本发明的呈未固化状态的光敏树脂膜包含(A)一种特殊的碱溶性共聚物,(B)具有至少一个烯键式不饱和双键的化合物,以及(C)一种辐射敏感的自由基聚合引发剂,通过使用该引发剂,呈未固化状态的、干膜厚度为70μm的涂膜在365nm具有不低于10%的辐射透射率,在405nm具有不低于60%的辐射透射率。以100重量份组分(A)计,该光敏树脂膜中的辐射敏感的自由基聚合引发剂(C)的含量为20-40重量份,并且该光敏树脂膜的干膜厚度不低于50μm。根据该光敏树脂膜可容易地在芯片基底上高精度地形成不低于50μm的高凸起,而常规技术难于形成这样的高凸起。此外,还能抑制元件的连接失效并能提高元件的可靠性。

    辐射敏感的树脂组合物
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1509424A

    公开(公告)日:2004-06-30

    申请号:CN02810029.8

    申请日:2002-12-13

    IPC分类号: G03F7/027 H01L21/288 H05K3/00

    CPC分类号: G03F7/033 G03F7/405

    摘要: 一种辐射敏感树脂组合物,该组合物包含:(A)具有不饱和基团的碱溶性树脂,(B)具有至少一个烯键不饱和双键的化合物和(C)辐射诱导的自由基聚合反应引发剂,其中:具有不饱和基团的碱溶性树脂(A)可通过下面反应获得:100重量份共聚物与0.1-20重量份(d)具有环氧基团的可自由基聚合化合物反应,所述共聚物包含下列单元:1-40重量%来自(a)具有羧基的可自由基聚合化合物的结构单元,和1-50重量%具有酚羟基的结构单元,所述结构单元来自(b-1)具有酚羟基的可自由基聚合化合物或(b-2)具有聚合反应后可转化为酚羟基的官能团的可自由基聚合化物,来源另一可自由基聚合化合物(c)的所述共聚物的其他结构单元。

    辐射敏感的树脂组合物
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1291278C

    公开(公告)日:2006-12-20

    申请号:CN02810029.8

    申请日:2002-12-13

    IPC分类号: G03F7/027 H01L21/288 H05K3/00

    CPC分类号: G03F7/033 G03F7/405

    摘要: 一种辐射敏感树脂组合物,该组合物包含:(A)具有不饱和基团的碱溶性树脂,(B)具有至少一个烯键不饱和双键的化合物和(C)辐射诱导的自由基聚合反应引发剂,其中:具有不饱和基团的碱溶性树脂(A)可通过下面反应获得:100重量份共聚物与0.1-20重量份(d)具有环氧基团的可自由基聚合化合物反应,所述共聚物包含下列单元:1-40重量%来自(a)具有羧基的可自由基聚合化合物的结构单元,和1-50重量%具有酚羟基的结构单元,所述结构单元来自(b-1)具有酚羟基的可自由基聚合化合物或(b-2)具有聚合反应后可转化为酚羟基的官能团的可自由基聚合化物,来源另一可自由基聚合化合物(c)的所述共聚物的其他结构单元。